一种柔性显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性显示装置。

背景技术：

近几年，柔性LCD和曲面LCD发展的越来越快，由于液晶的流动性，当基板弯曲或受压折叠时，因基板之间的距离发生变化，在折叠的区域液晶将会向周边流动，从而出现所谓的压点以及漏光等问题，这成为当下制约液晶显示器柔性化的主要障碍。人们在其开发过程和制作过程中也对此提出了很多新颖的解决方案，其中就包括PW（polymer wall）技术。PW技术用于解决柔性LCD和曲面LCD弯曲时液晶流动造成漏光等不良现象的问题，并且均匀分散的polymer walls能有效分散基板之间的剪切应力，使得边框胶不易受破坏。PW技术所涉及的原理是光诱导相分离，但PW技术还存在很多问题，比如PW技术需要聚合物单体充分聚合，在液晶中不要有单体存在，否则会影响显示效果，显然，mask会造成有部分单体没有聚合的机会，这就意味着应用PW技术会或多或少的影响显示效果。

技术实现要素：

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种柔性显示装置，其基于PW技术，通过改进光罩结构，提高产品的显示效果，同时也能提高产品的使用寿命。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种柔性显示装置，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、设置于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，所述阵列基板和彩膜基板均具有相互对应的多个像素，每个像素由数个子像素构成，其特征在于：还包括多个分布于上述液晶层内的聚合物墙，所述聚合物墙对应于阵列基板和彩膜基板上像素的边缘区或者子像素的边缘区设置且沿着所述柔性显示装置弯折的方向平行排列；所述聚合物墙为条形，各聚合物墙之间不相交叉。

进一步地，所述聚合物墙的上下两端分别与彩膜基板和阵列基板相连接。

本实用新型具有如下有益效果：

（1）本实用新型中的条形聚合物墙能在弯折时维持均匀的盒厚，并且由于其不受横向剪切应力，不易发生因多次弯折而断裂等现象，大大延长了所制作的柔性装置的使用寿命。

（2）聚合物墙沿着显示装置弯折的方向均匀排布，能在显示装置弯曲时维持均匀的盒厚，防止液晶流动造成漏光等不良，也能直接支撑上下基板，增加液晶盒的抗压能力，并且均匀分散的聚合物墙能有效分散基板之间的剪切应力，使得边框胶不易受破坏。

（3）该柔性装置中的聚合物墙数目相比方格聚合物墙减少一半，大大提高了显示装置的显示效果。

附图说明

图1为本实用新型的柔性显示装置的示意图；

图2为现有技术中光罩的结构图；

图3为本实用新型光罩的结构图。

图中：1、阵列基板，2、彩膜基板，3、聚合物墙。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。

一种柔性显示装置，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、设置于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层、和多个分布于上述液晶层内的聚合物墙，所述阵列基板和彩膜基板均具有相互对应的多个像素，每个像素由数个子像素构成，所述聚合物墙对应于阵列基板和彩膜基板上像素的边缘区或者子像素的边缘区设置且沿着所述柔性显示装置弯折的方向平行排列；所述聚合物墙为条形，各聚合物墙之间不相交；所述聚合物墙的上下两端分别与彩膜基板和阵列基板相连接。

所述聚合物墙由如下方法获得 ：提供光罩，所述光罩具有透光部和掩模部，所述透光部对应子像素的边缘区或像素的边缘区的区域设置，所述透光部包括若干个平行设置且互不相交的条形部，在彩膜基板一侧采用紫外光通过光罩对液晶盒进行照射，从而使得液晶盒中的聚合物体系在紫外光照射下发生聚合反应，形成与光罩图案吻合的聚合物墙，而液晶分子分离到没有紫外光照射的区域。所述聚合物体系包括聚合物单体、预聚物、光引发剂，聚合物单体向紫外光照射区扩散，并在光引发剂的作用下在紫外光照射区内发生聚合反应，形成对应于子像素或像素边缘区的聚合物墙，聚合物墙的上下两端分别与彩膜基板和阵列基板相连接。

现有技术中光罩的透光部为方格形，经紫外光照射后形成的聚合物墙为方格形，各聚合物墙纵横交叉，该聚合物墙会受到横向剪切应力，因显示装置的多次弯折聚合物墙容易发生断裂等现象，本实用新型改进了光罩的形状，将光罩的透光部设置为若干个平行设置且互不相交的条形部，经紫外光照射后，形成条形的聚合物墙，相比于方格形的聚合物墙，数目减少一半，大大提高了显示装置的显示效果。而且，聚合物墙沿着显示装置弯折的方向均匀排布，能在显示装置弯曲时维持均匀的盒厚，防止液晶流动造成漏光等不良，也能直接支撑上下基板，增加液晶盒的抗压能力，并且均匀分散的聚合物墙能有效分散基板之间的剪切应力，使得边框胶不易受破坏。本实用新型中的条形聚合物墙能在弯折时维持均匀的盒厚，并且由于其不受横向剪切应力，不易发生因多次弯折而断裂等现象，大大延长了所制作的柔性装置的使用寿命。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本实用新型的保护范围之内。