技术特征：
技术总结
本发明提供了一种光掩膜版，属于显示技术领域。所述光掩膜版包括带图形的掩膜版，以及设置于带图形的掩膜版上表面或下表面的光学焦深补偿膜，所述光学焦深补偿膜位于段差较小区域的正上方且仅完全覆盖段差较小区域，可改变光的局部焦深。本发明在掩膜版的上表面或下表面添加的光学焦深补偿膜可以对光的相位以及工艺因子K2进行调整，进而改变非显示区域的焦点深度，调节非显示区域的曝光能力，有效解决走线曝光后的短路问题。
技术研发人员：尚飞;向勇
受保护的技术使用者：电子科技大学
技术研发日：2019.03.14
技术公布日：2019.05.21