一种LCD显示屏的光刻涂胶工艺的制作方法

本发明属于lcd显示屏涂胶技术领域，具体涉及一种lcd显示屏的光刻涂胶工艺。

背景技术：

lcd显示屏即液晶显示屏，为平面超薄的显示设备，它由一定数量的彩色或黑白像素组成，放置于光源或者反射面前方。液晶显示器功耗很低，因此倍受工程师青睐，适用于使用电池的电子设备。它的主要原理是以电流刺激液晶分子产生点、线、面配合背部灯管构成画面。

在lcd显示屏制造中，图形加工所用的的光刻胶多为紫外正性胶，主要由感光剂、碱溶性树脂以及溶剂组成，具体生产时，将光刻胶在无尘区域均匀涂覆在玻璃基板上，光刻胶的保存条件比较严格，在光线、温度、湿度上都有限制，特别是开瓶使用后的光刻胶和稀释剂，一旦吸潮，其物理化学性能均下降很快。现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时候都只考虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱落严重，起不到保护阻蚀的效果。

技术实现要素：

针对现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种lcd显示屏的光刻涂胶工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：一种lcd显示屏的光刻涂胶工艺，包括下列步骤：

s1、将待涂胶的玻璃基板从清洗工位输送至涂胶工位入口处，进行静电除尘，保证玻璃基板表面无细小灰尘等颗粒物，从而保证玻璃涂胶的质量；

s2、将静电出尘后的玻璃基板传输到涂胶工位内，调整光刻胶涂布参数，将光刻胶均匀涂抹到玻璃基板上，调整光刻胶涂布参数，通过传输线速度以及挤压压力控制涂胶厚度；

s3、将涂覆光刻胶后的玻璃基板，传输至烘烤区域，常温凝固5分钟，光刻胶具有一定的流动性，防止直接加热导致胶层受热膨胀流动，导致玻璃基板上的胶水厚度不均匀；

s4、开始首次预烘烤，烘烤温度控制在115～125℃，烘烤区域相对湿度≤1.5g/m³，然后空冷5min；

s5、将步骤s4涂覆光刻胶后的玻璃基板，进行二次固化烘烤，烘烤温度130～140℃，空冷至室温；

s6、然后将步骤s5处理后的玻璃输送至灯光检测区，进行质量检验，检测区域灯光强度≥1500lux，将合格的涂胶后的玻璃移送至专用盛具中，将不合格的玻璃放置回收盛具中，即完成所述生产涂胶艺。

作为本发明进一步的方案，步骤s1中，所述玻璃基板在涂胶工位入口通过热风机吹干表面水渍，由于光刻胶易吸潮导致物理及化学性能降低，因此，玻璃基板涂胶前需要保证玻璃基板干燥。

作为本发明进一步的方案，步骤s2中，所述光刻胶涂布参数设置有涂布速度和压力间距。

作为本发明进一步的方案，所述涂布机停止工时，对涂布机进行清理，用稀释剂将涂布轮、压轮上及两端感光胶清洁干净。

作为本发明进一步的方案，步骤s4中，烘烤方式通过热辐射式进行加热，保证受热均匀。

作为本发明进一步的方案，步骤s4中，烘烤时间为90s～100s。

作为本发明进一步的方案，步骤s5中，烘烤时间为70s～80s。

作为本发明进一步的方案，步骤s6中，将所述不合格的玻璃在脱膜段或碱槽进行返工脱膜，并清洗，准备二次涂胶。

本发明的有益效果：本发明提供过一种lcd显示屏的光刻涂胶工艺，通过控制制造过程中的湿度，提高了玻璃基板涂胶的质量，减少了废品率，降低了返修成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的工艺流程图；

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

s1、将待涂胶的玻璃基板从清洗工位输送至涂胶工位入口处，进行静电除尘。

s2、将静电出尘后的玻璃基板传输到涂胶工位内，调整光刻胶涂布参数，将光刻胶均匀涂抹到玻璃基板上；

s3、将涂覆光刻胶后的玻璃基板，传输至烘烤区域，常温凝固5分钟；

s4、开始首次预烘烤，烘烤温度控制在125℃，烘烤区域相对湿度1.5g/m³，然后空冷5min；

s5、将步骤s4涂覆光刻胶后的玻璃基板，进行二次固化烘烤，烘烤温度140℃，空冷至室温；

s6、然后将步骤s5处理后的玻璃输送至灯光检测区，进行质量检验，检测区域灯光强度≥1500lux，将合格的涂胶后的玻璃移送至专用盛具中，将不合格的玻璃放置回收盛具中，即完成所述生产涂胶艺。

步骤s1中，所述玻璃基板在涂胶工位入口通过热风机吹干表面水渍。

步骤s2中，所述光刻胶涂布参数设置有涂布速度和压力间距。

所述涂布机停止工时，对涂布机进行清理，用稀释剂将涂布轮、压轮上及两端感光胶清洁干净。

步骤s4中，烘烤方式通过热辐射式进行加热，保证受热均匀。

步骤s4中，烘烤时间为90s。

步骤s5中，烘烤时间为70s。

步骤s6中，将所述不合格的玻璃在脱膜段或碱槽进行返工脱膜，并清洗，准备二次涂胶。

实施例2

s1、将待涂胶的玻璃基板从清洗工位输送至涂胶工位入口处，进行静电除尘。

s2、将静电出尘后的玻璃基板传输到涂胶工位内，调整光刻胶涂布参数，将光刻胶均匀涂抹到玻璃基板上；

s3、将涂覆光刻胶后的玻璃基板，传输至烘烤区域，常温凝固5分钟；

s4、开始首次预烘烤，烘烤温度控制在115℃，烘烤区域相对湿度1.5g/m³，然后空冷5min；

s5、将步骤s4涂覆光刻胶后的玻璃基板，进行二次固化烘烤，烘烤温度130℃，空冷至室温；

s6、然后将步骤s5处理后的玻璃输送至灯光检测区，进行质量检验，检测区域灯光强度≥1500lux，将合格的涂胶后的玻璃移送至专用盛具中，将不合格的玻璃放置回收盛具中，即完成所述生产涂胶艺。

步骤s1中，所述玻璃基板在涂胶工位入口通过热风机吹干表面水渍。

步骤s2中，所述光刻胶涂布参数设置有涂布速度和压力间距。

所述涂布机停止工时，对涂布机进行清理，用稀释剂将涂布轮、压轮上及两端感光胶清洁干净。

步骤s4中，烘烤方式通过热辐射式进行加热，保证受热均匀。

步骤s4中，烘烤时间为100s。

步骤s5中，烘烤时间为80s。

步骤s6中，将所述不合格的玻璃在脱膜段或碱槽进行返工脱膜，并清洗，准备二次涂胶。

实施例3

s1、将待涂胶的玻璃基板从清洗工位输送至涂胶工位入口处，进行静电除尘。

s2、将静电出尘后的玻璃基板传输到涂胶工位内，调整光刻胶涂布参数，将光刻胶均匀涂抹到玻璃基板上；

s3、将涂覆光刻胶后的玻璃基板，传输至烘烤区域，常温凝固5分钟；

s4、开始首次预烘烤，烘烤温度控制在120℃，烘烤区域相对湿度0.8g/m³，然后空冷5min；

s5、将步骤s4涂覆光刻胶后的玻璃基板，进行二次固化烘烤，烘烤温度135℃，空冷至室温；

s6、然后将步骤s5处理后的玻璃输送至灯光检测区，进行质量检验，检测区域灯光强度≥1500lux，将合格的涂胶后的玻璃移送至专用盛具中，将不合格的玻璃放置回收盛具中，即完成所述生产涂胶艺。

步骤s1中，所述玻璃基板在涂胶工位入口通过热风机吹干表面水渍。

步骤s2中，所述光刻胶涂布参数设置有涂布速度和压力间距。

所述涂布机停止工时，对涂布机进行清理，用稀释剂将涂布轮、压轮上及两端感光胶清洁干净。

步骤s4中，烘烤方式通过热辐射式进行加热，保证受热均匀。

步骤s4中，烘烤时间为90s。

步骤s5中，烘烤时间为75s。

步骤s6中，将所述不合格的玻璃在脱膜段或碱槽进行返工脱膜，并清洗，准备二次涂胶。

实施例4

s1、将待涂胶的玻璃基板从清洗工位输送至涂胶工位入口处，进行静电除尘。

s2、将静电出尘后的玻璃基板传输到涂胶工位内，调整光刻胶涂布参数，将光刻胶均匀涂抹到玻璃基板上；

s3、将涂覆光刻胶后的玻璃基板，传输至烘烤区域，常温凝固5分钟；

s4、开始首次预烘烤，烘烤温度控制在115℃，烘烤区域相对湿度2.5g/m³，然后空冷5min；

s5、将步骤s4涂覆光刻胶后的玻璃基板，进行二次固化烘烤，烘烤温度130℃，空冷至室温；

s6、然后将步骤s5处理后的玻璃输送至灯光检测区，进行质量检验，检测区域灯光强度≥1500lux，将合格的涂胶后的玻璃移送至专用盛具中，将不合格的玻璃放置回收盛具中，即完成所述生产涂胶艺。

步骤s1中，所述玻璃基板在涂胶工位入口通过热风机吹干表面水渍。

步骤s2中，所述光刻胶涂布参数设置有涂布速度和压力间距。

所述涂布机停止工时，对涂布机进行清理，用稀释剂将涂布轮、压轮上及两端感光胶清洁干净。

步骤s4中，烘烤方式通过热辐射式进行加热，保证受热均匀。

步骤s4中，烘烤时间为100s。

步骤s5中，烘烤时间为80s。

步骤s6中，将所述不合格的玻璃在脱膜段或碱槽进行返工脱膜，并清洗，准备二次涂胶。

对于本领域技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型。因此，从任意一处来说，都应将实施例看作是指导性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所有的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。