金属层，上述的像素电极层和公共电极层只是为了举例说明，对于不同的显示面板类型上述的金属层可以不同。
[0036]应当理解的是，上述显示基板在进行第一次紫外线照射的步骤之前还包括制备显示基板上的其它各功能层的步骤，及对完成各功能层制备的显示基板进行涂覆取向层和摩擦取向层的步骤，上述制备步骤均为现有技术范畴，在此不再一一赘述。
[0037]实施例2
[0038]如图1所示，实施例提供一种显示面板的制备方法，包括如上述的显示基板的制备方法，还包括:
[0039]S1:制备对向基板，所述对向基板用于与所述的显不基板对盒形成显不面板；
[0040]也就是当制作完成的显示基板是阵列基板时，此时，需要制备的对向基板是彩膜基板，反之亦然。
[0041]上述制备完成的阵列基板和彩膜基板朝向液晶的一侧都包括取向层4并对取向层4进行了摩擦取向。
[0042]上述阵列基板和彩膜基板的制备方法，取向层4的涂覆和摩擦均为现有技术范畴，在此不再一一赘述。
[0043]S2:在所述显示基板或对向基板上涂覆封框胶；
[0044]在所述彩膜基板2上与阵列基板I的显示区域的周边相对的区域涂覆封框胶5。当然也可以将封框胶5直接涂覆于阵列基板I的显示区域周边，具体根据实际情况进行选择。
[0045]S3:将所述显不基板和对向基板对盒；
[0046]将阵列基板I和涂覆封框胶5的彩膜基板2进行对盒，使所述彩膜基板2上的封框胶5包围所述阵列基板I上的显示区域，形成显示面板。应当理解的是，上述的对盒中需要采用对位装置，使每个显示面板的封框胶5将显示区域进行包围。
[0047]S4:在所述显不基板和对向基板之间设置液晶；
[0048]在完成对盒的显示面板的显示区域滴注液晶形成液晶层3。
[0049]应当理解的是，上述液晶的滴注也可以在对盒之前滴注到阵列基板I或彩膜基板2上，可以根据具体情况进行选择。
[0050]应当理解的是，上述液晶滴注步骤需要采用液晶滴注装置和定位装置，具体液晶滴注方法为现有技术范畴，在此不再一一赘述。
[0051]S5:如图1所示，对完成对盒的显示面板进行第二次紫外线照射完成封框胶5固化，其中，第二次紫外线的波长大于等于第一次紫外线的波长，第二次紫外线的照度小于等于第一紫外线的照度。
[0052]由于采用的第二次紫外线的波长大于等于第一次紫外线的波长，第二次紫外线的照度小于等于第一紫外线的照度，被辐照的阵列基板I的金属层的电子不会产生第二次迀移，因为在第一次照射中电子已经完成了迀移并均匀分布在取向层4，第二次紫外线照射仅仅完成封框胶5的固化，不会产生阵列基板I的金属层的电子迀移。
[0053]因此，经过紫外线固化的显示面板的取向层4的电荷分布依然是均匀的，整个显示区域内对液晶分子的影响是一致的，不会产生亮度不均的缺陷，进而影响显示品质。
[0054]实施例3
[0055]本实施例提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板的制备方法制备的显示面板。
[0056]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括在所述显示基板的取向层完成取向后对所述显示基板进行第一次紫外线照射的步骤，使所述显示基板的金属层的电子迀移至所述取向层。
2.如权要求I所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述紫外线的波长范围为200_400nmo
3.如权要求I所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述紫外线的照度大于500勒克司度。
4.如权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，所述金属层包括像素电极层。
5.如权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，所述金属层包括公共电极层。
6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板的制备方法。
7.如权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括: 制备对向基板，所述对向基板用于与所述的显示基板对盒形成显示面板； 在所述显示基板或对向基板上涂覆封框胶； 将所述显示基板和对向基板对盒； 在所述显示基板和对向基板之间设置液晶。
8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，还包括:在将所述显示基板和对向基板对盒之后，对所述封框胶进行第二次紫外线照射完成所述封框胶固化，第二次紫外线的波长大于等于第一次紫外线的波长，第二次紫外线的照度小于等于第一次紫外线的照度。
9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置是采用权利要求6-8任一项所述的显示面板的制备方法制备的显示面板。
【专利摘要】本发明提供一种显示基板的制备方法、显示面板的制备方法、显示装置，用于解决现有技术的显示基板的金属层中的电子在紫外光的照射线迁移到与显示区域边缘接触的取向层上时会对显示区域的液晶分子的偏转造成影响，从而在显示区域的边缘产生亮度不均等缺陷，严重影响了画面品质问题。本发明提供一种显示基板的制备方法、显示面板的制备方法、显示装置，在显示基板的取向层完成取向后对显示基板进行紫外线照射，使得显示基板的金属层上的电子在第一次紫外线的照射下接收能量发生迁移，均匀分布在显示基板显示区域的取向层上，电荷在整个显示区域均匀分布，不会产生显示区域的边缘亮度不均的缺陷。
【IPC分类】G02F1-1333, G02F1-1347
【公开号】CN104765213
【申请号】CN201510210499
【发明人】周永山, 李京鹏, 宋省勋
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年4月29日