层包括两种不同的方法，下面结合附图分别进行介绍。
[0043]方法一:
[0044]如图4所示，本发明具体实施例在阵列基板背向彩膜基板的一侧制作反射层，包括:
[0045]S401、在所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧沉积一层具有反射光作用的反射膜层；
[0046]S402、对所述反射膜层采用构图工艺形成反射层。
[0047]具体地，本发明具体实施例在阵列基板背向彩膜基板的一侧通过蒸发镀膜等方法沉积一层金属Al膜层或金属Ag膜层，接着对沉积的金属Al膜层或金属Ag膜层采用构图工艺形成本发明具体实施例中的与黑矩阵区域相对应的反射层图案。
[0048]本发明具体实施例中的构图工艺包括光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀以及去除光刻胶的过程。具体地，在沉积的金属Al膜层或金属Ag膜层上涂覆光刻胶，对涂覆的光刻胶进行曝光、显影，显影后仅保留需要形成反射层位置处的光刻胶，对暴露出的金属Al膜层或金属Ag膜层进行刻蚀，去除暴露出的金属Al膜层或金属Ag膜层，刻蚀后去除剩余的光刻胶，形成本发明具体实施例图2中的反射层24。
[0049]在实际生产过程中，采用方法一制作反射层时，由于在制作反射层时，阵列基板已经完成了 TFT、像素电极、栅极线等结构的制作，之后再进行反射膜层的沉积以及对反射膜层采用构图工艺形成反射层时，会对TFT、像素电极、栅极线等结构产生影响。同样地，如果先完成反射层的制作，后续再制作TFT、像素电极、栅极线等结构时也会对之前制作的反射层产生影响。在实际生产过程中，为了降低上述影响，对生产设备、以及制作过程中的具体工艺参数均有较高的要求。
[0050]方法二:
[0051]如图5所示，本发明具体实施例在阵列基板背向彩膜基板的一侧制作反射层，包括:
[0052]S501、提供一透明基板；
[0053]S502、在所述透明基板上制作反射层，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应;
[0054]S503、将制作有所述反射层的透明基板粘贴于背向所述彩膜基板一侧的阵列基板上，粘贴时所述反射层位于所述透明基板背向所述阵列基板的一侧。
[0055]本发明具体实施例首先提供一透明基板，如本发明具体实施例中提供的透明基板为玻璃基板，接着，在提供的透明基板上制作反射层，反射层的区域与黑矩阵的区域对应。
[0056]优选地，本发明具体实施例在透明基板上制作反射层，包括:
[0057]在所述透明基板上沉积一层具有反射光作用的反射膜层；
[0058]对所述反射膜层采用构图工艺形成反射层；或，
[0059]采用预先制作有镂空区域的模型对所述透明基板进行部分遮挡，所述镂空区域与所述黑矩阵的区域对应；
[0060]在被部分遮挡后的透明基板上沉积具有反射光作用的反射膜层，形成反射层。
[0061]具体地，在透明基板上沉积一层具有反射光作用的反射膜层；对反射膜层采用构图工艺形成反射层，这种方法在透明基板上制作反射层的具体过程与方法一中制作反射层的具体过程类似，这里不再赘述。制作有反射层的透明基板如图6所示，反射层24的区域与黑矩阵的区域对应，未制作有反射层的透明基板的区域60与彩膜基板的彩色子像素对应。
[0062]具体地，采用预先制作有镂空区域的模型对透明基板进行部分遮挡，镂空区域与黑矩阵的区域对应；在被部分遮挡后的透明基板上沉积具有反射光作用的反射膜层，被遮挡部分在沉积具有反射光作用的反射膜层时，反射膜层沉积到预先制作的模型上，只有与镂空区域对应的透明基板上沉积有反射膜层，之后取掉预先制作的模型，在透明基板上形成反射层，本发明具体实施例制作有反射层的透明基板如图6所示。在沉积反射膜层时，采用预先制作的模型进行遮挡，不需要进行构图工艺即可在透明基板上形成反射层，在生产过程中更加方便、简单。
[0063]最后，将制作有反射层的透明基板通过透明胶粘贴于背向彩膜基板一侧的阵列基板上，粘贴时反射层位于透明基板背向阵列基板的一侧。
[0064]在实际生产过程中，采用方法二制作反射层时，由于反射层的制作过程与阵列基板的制作过程是分开的，因此对生产设备、以及制作过程中的具体工艺参数的要求较低。
[0065]综上所述，本发明具体实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，所述彩膜基板包括黑矩阵，其中，还包括反射层，所述反射层位于所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应。由于本发明具体实施例中的反射层位于阵列基板背向彩膜基板的一侧，反射层的区域与黑矩阵的区域对应，与现有技术相比，在显示面板显示时，本发明具体实施例的反射层使原本由背光源射向黑矩阵对应区域的光线被重新反射回背光源中被再次利用，避免了被黑矩阵吸收，从而提高了背光源的光效利用率。
[0066]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，所述彩膜基板包括黑矩阵，其特征在于，还包括反射层，所述反射层位于所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括透明基板，所述透明基板粘贴于所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧，所述反射层设置于所述透明基板背向所述阵列基板的一侧。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述反射层的材料为金属铝或金属银。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板通过透明胶与所述阵列基板粘贴。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述透明基板为玻璃基板。
6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1-5任一权项所述的显示面板。
7.—种显示面板的制作方法，包括制作相对设置的阵列基板和彩膜基板的方法，以及在所述阵列基板和所述彩膜基板之间制作液晶层的方法，所述彩膜基板包括黑矩阵，其特征在于，该方法还包括在所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧制作反射层，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧制作反射层，包括: 在所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧沉积一层具有反射光作用的反射膜层； 对所述反射膜层采用构图工艺形成反射层。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧制作反射层，包括: 提供一透明基板； 在所述透明基板上制作反射层，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应； 将制作有所述反射层的透明基板粘贴于背向所述彩膜基板一侧的阵列基板上，粘贴时所述反射层位于所述透明基板背向所述阵列基板的一侧。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述透明基板上制作反射层，包括: 在所述透明基板上沉积一层具有反射光作用的反射膜层； 对所述反射膜层采用构图工艺形成反射层；或， 采用预先制作有镂空区域的模型对所述透明基板进行部分遮挡，所述镂空区域与所述黑矩阵的区域对应； 在被部分遮挡后的透明基板上沉积具有反射光作用的反射膜层，形成反射层。
【专利摘要】本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置，用以提高背光源的光效利用率。所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层，所述彩膜基板包括黑矩阵，其中，还包括反射层，所述反射层位于所述阵列基板背向所述彩膜基板的一侧，所述反射层的区域与所述黑矩阵的区域对应。
【IPC分类】G02F1-1335, G02F1-13357
【公开号】CN104865731
【申请号】CN201510278511
【发明人】陈守年, 蔡斯特
【申请人】合肥京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2015年5月27日