于第一基底111中靠近液晶层13的一侧的具有偏振作用的第一半透半反膜层112。具体地，在该图1中，由于第一基板11位于面板出光侧，因此，该第一基板11为彩膜基板，第二基板12为阵列基板。
[0062]其中，第一基底111可以为普通的基底，也可以为可弯曲变形的玻璃基底，本发明并不对此进行限定，在实现效果方面，由于第一基板11侧设置的第一半透半反膜层112，因此，两种情况的都可以很好的实现镜面显示，进一步地，包括可弯曲变形的玻璃基底的曲面镜面显示面板还可以实现很好的显示效果，而不会出现现有技术中存在的漏光等显示缺陷。
[0063]优选地，根据图1的显示面板可知，第二基板12可以为如图2(a)、2(b)两种结构。具体地，如图2(a)所示，第二基板12可以与现有技术中的阵列基板类似，具体包括:第二基底121 '，位于第二基底121 '中远离液晶层13的一侧的具有偏振作用的第二半透半反膜层122 '，以及覆盖所述第二半透半反膜层122 '的保护层123 '，此外，还包括位于第二基底121 '中靠近液晶层13的一侧的TFT阵列等，图中未示出；如图2(b)所示，第二基板12还可以为另外一种结构，具体包括:第二基底121，位于第二基底121中靠近液晶层13的一侧的具有偏振作用的第二半透半反膜层122。其中，第二半透半反膜层122的偏振方向与第一半透半反膜层112的偏振方向正交。
[0064]在上述两种结构中，由于图2(a)的第二基板12的结构中第二半透半反膜层122 '在第二基底外侧，因此需要贴附保护层，而图2(b)所示的第二基板12的结构中第二半透半反膜层122不需要贴附保护层，相对于图2(a)的结构而言，厚度相对减小，构成较为简单；而且，在进一步考虑曲面镜面显示面板时，图2(b)所示的结构更为合适，无论是彩膜基板侧还是阵列基板侧，均将半透半反膜层设置在玻璃基底中靠近液晶层的一侧，从而，避免了由于玻璃基底弯曲时造成的相位延迟而使得偏振光发生侧漏等现象。
[0065]优选地，在本发明实施例中，上述涉及的位于第一基板11侧的第一半透半反膜层112和位于第二基板侧的第二半透半反膜层122均为金属线栅偏振WGP膜层。如图3所示，为本发明所涉及的WGP膜层的具体结构示意图，其中，该WGP膜层是由多条金属线沿一个方向排布而成，而金属线的排布方向决定了透过光的偏振方向，具体地，垂直于金属线方向的线偏振光是可以经过WGP膜层的，而其他方向的偏振光都被WGP膜层吸收。一般情况下，每个WGP膜层的金属线的宽度w取值范围为:100nm-150nm，金属线的高度h取值范围为:100nm-300nm，相邻金属线的间距d取值范围为:40nm-60nm。
[0066]在此需要说明的是，由于WGP膜层的金属线的排布方向决定了透过光的偏振方向，因此，在本发明实施例中，若第二基板中第二半透半反膜层的偏振方向为X，或者第二基板中WGP膜层的金属线排布方向为y(透过X方向偏振光)，则第一基板中WGP膜层的金属线排布方向为X (透过I方向偏振光)。
[0067]此外，考虑到本发明主要针对ADS模式的液晶显示面板，其他模式类型的也可以设置类似的半透半反膜层，只是偏振光的方向并没有限定的那么具体，因此，本发明中一种优选地方案，第一基板11中的第一 WGP膜层112中金属线的排布方向与液晶层13中液晶长轴的初始排布方向平行或垂直。
[0068]仍以图2(b)所示的第二基板为例，优选地，可以包括以下两种具体膜层结构:
[0069]结构一:
[0070]如图4(a)所示，第二基板12a中的第二 WGP膜层122a具有第一图案，其中，第二WGP膜层122a中保留的膜层区域在第二基板12a上的正投影位于相应的像素的有效显示区域内；该第二基板12a还包括:第二基底121a，位于未保留有第二 WGP膜层122a的区域的黑矩阵123a，位于第二 WGP膜层122a以及黑矩阵123a之上的第二绝缘膜层124a，位于第二绝缘膜层124a之上的栅线125a和公共电极线126a，以及第一透明电极127a，位于栅线125a和公共电极线126a之上的平坦化层128a，位于平坦化层128a之上的第二透明电极129a0
[0071]需要说明的是，之所以将第二基板设置为结构一的形式，是因为，WGP膜层属于金属膜层，若直接在该WGP膜层上设置绝缘层及栅线gate等金属走线，金属走线会与该WGP膜层发生耦合效应，影响金属走线传输信号，进而影响正常显示。因此，在第二基底上直接形成WGP膜层之后，需要对该WGP膜层进行图案化处理，具体地，利用掩膜板，将涉及到金属走线的区域的WGP膜层刻蚀掉，保留的WGP膜层区域A对应各个像素的有效显示区域，如图5所示。同时，考虑到在刻蚀掉WGP膜层的区域会产生漏光现象，因此，在此区域需要以黑矩阵B填充，以防止光线穿过面板造成漏光。
[0072]鉴于上述问题的存在，在对WGP膜层进行图案化处理时，需要结合方案本身的倾向效果，决定图案化的大小程度。若希望能够较好的解决金属走线与WGP膜层之间的耦合效应，则可以将图案化的效果增强，即刻蚀WGP膜层的区域较大，这样，在金属走线区域的WGP膜层几乎不存在，能够较好的改善耦合效应。若希望能够较好的解决漏光问题，则可以将图案化的效果弱化，即刻蚀WGP膜层的区域较小，从而，可以不设置黑矩阵也可以避免漏光。
[0073]结构二:
[0074]如图4(b)所示，第二基板12b中的第二 WGP膜层122b呈面状结构；该第二基板还包括:第二基底121b，位于第二 WGP膜层122b之上的第二绝缘膜层123b，位于第二绝缘膜层123b之上的栅线124b。此外，还包括位于栅线124b之上的平坦化层125b，位于平坦化层125b之上的透明电极126b。其他结构与现有技术中的膜层结构类似，在此不作赘述。
[0075]在该结构二中，由于第二基板12b中的第二 WGP膜层122b呈面状结构，因此，可以将其作为公共电极使用，不必在后续的膜层工艺流程中额外制作公共电极，节省了工艺流程。
[0076]在本发明实施例中，优选地，如图6所示，该第一基板11还可以包括:覆盖第一WGP膜层112的第一绝缘膜层113 ;位于第一绝缘膜层113之上的图案化的黑矩阵114以及RGB彩色光阻115。另外，还可以包括覆盖黑矩阵114和RGB彩色光阻115的保护层116。
[0077]通过上述实施例，结合图6所示，作为阵列基板的第二基板12的具体结构未完全示出，但是，其具体结构可参照图4(a)和图4(b)所示，当未对该面板施加电压时，如图6所示，背光经过第二基板12后形成X方向(第二 WGP膜层中金属条沿y方向排布)的偏振光，由于此时液晶未发生偏转，因此，X方向的偏振光透过之后仍为X方向的偏振光，但是，作为彩膜基板的第一基板11中第一 WGP膜层中金属条沿X方向排布，因此，其只能透过y方向的偏振光，将X方向的偏振光反射回去。当对该面板施加电压时，具体参照图7所示，背光经过第二基板12后形成X方向偏振光，施加的电压驱使液晶发生偏转，X方向偏振光经过液晶的旋光作用之后，形成y方向偏振光，恰巧作为彩膜基板的第一基板中第一 WGP膜层中金属条沿X方向排布，可以透过I方向偏振光，形成用于显示的透射光T ;同时，外界的自然光进入第一基板表面，将平行于第一 WGP膜层中金属条排布方向的光反射至外界，形成反射光R。从而，在很好的实现镜面显示的同时，还不必额外增加偏光片以及保护层，实现了抗划伤、轻薄等较好性能，而且，由于半透半反膜层位于第一基板中靠近液晶层的一侧面，因此，在曲面镜面显示技术中，能够避免基底的弯曲造成偏振光的相位偏移，进而避免不必要的漏光等现象，实现了很好的曲面镜面显示效果。
[0078]与此同时，本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，与上述显示面板属于同一发明构思。
[0079]如图8所示，为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图，该方法主要包括以下步骤:
[0080]步骤21:制作第一基板。在本发明实施例中，即制作彩膜基板。
[0081]步骤22:制作第二基板。该第二基板为阵列基板。
[0082]步骤23:将第一基板与第二基板对位贴合，并在第一基板与第二基板之间填充液晶层。在本步骤23中，可利用现有技术中的对位贴合等成盒技术，将彩膜基板和阵列基板对位贴合形成液晶盒，并填充液晶。
[0083]其中，步骤21具体包括:提供第一基底，在第一基底的一侧面形成具有偏振作用的第一半透半反膜层。第一基底可以为曲面玻璃基