针对特定重复图形的光学临近效应修正方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造领域，更具体地说，本发明涉及一种针对特定重复图形的光学临近效应修正方法。
【背景技术】
[0002]在先进光刻工艺中，因曝光图形尺寸的缩小，须对光掩模图形进行预先的光学临近效应修正(Optical Proximity Correct1n，简称OPC)，来弥补由光学系统的有限分辨率造成的光学临近效应。
[0003]随着特征尺寸的不断减小和图形复杂程度变得越来越高，OPC技术也不断发展以适应图形成像过程中不断出现的问题。
[0004]在关键层次上，应用最为广泛的OPC方法是基于模型的OPC修正方法，其基本原理是通过建立基于特定光刻条件的曝光模型，对原始版图或目标版图进行模拟以得到模拟误差，然后将原始版图按一定的规则进行分段切割，根据模拟误差对片断进行偏移补偿并重新模拟，经过几个回合的模拟和修正，得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图。
[0005]对包含特定重复图形的版图做常规OPC的时候，OPC修正后在特定重复图形区域可能会存在不同地方修正结果不一样的问题。非水平垂直的边对常规的OPC修正来说是不受欢迎的，特定重复图形的基本单元中的非水平垂直的边是造成OPC在不同的重复图形区域修正结果不一致的一个可疑因素。
【发明内容】
[0006]本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种针对特定重复图形的光学临近效应修正方法，其中采用混合OPC修正方法对版图进行修正，使得版图中的特定重复图形和除此以外的其他图形同时既符合模拟值和目标值的差值要求，又能使重复图形区域的OPC修正保持一致性，避免常规OPC修正对特定重复图形的关键边的“随机”处理带来OPC修正可能不一致的问题。
[0007]为了实现上述技术目的，根据本发明，提供了一种针对特定重复图形的光学临近效应修正方法，包括:
[0008]第一步骤:将待修正的整个版图划分成特定重复图形区域和非特定重复图形，其中特定重复图形区域指的是包含重复图形基本单元的版图区域，所述重复图形基本单元是图形对称且含有非水平垂直的边的图形单元；
[0009]第二步骤:采用常规光学临近效应修正方法修正非特定重复图形区域，以获取第一修正结果；
[0010]第三步骤:采用限制性光学临近效应修正方法修正特定重复图形区域，以获取第二修正结果；
[0011]第四步骤:将所述第一修正结果和所述第二修正结果组合拼接起来，作为用于制造光罩的图形。
[0012]优选地，常规光学临近效应修正方法包括:对非特定重复图形区域进行多次模拟和修正，以得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图作为所述第一修正结果，其中各次模拟和修正时的关键边的后退值相同。
[0013]优选地，多次模拟和修正为8-10次模拟和修正。
[0014]优选地，限制性光学临近效应修正方法包括:定义重复图形基本单元的关键边；对特定重复图形区域进行多次模拟和修正，以得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图作为所述第二修正结果，其中各次模拟和修正时的关键边的后退值不同。
[0015]优选地，关键边为非水平垂直边。
[0016]优选地，定义重复图形基本单元的关键包括:对特定重复图形区域进行多次模拟和修正，根据光学临近效应修正后的边和目标边的差异在不同区域的表现来定义重复图形基本单兀的关键边。
[0017]优选地，在限制性光学临近效应修正方法中，每一轮的光学临近效应修正过程中，通过设定的特殊后退值来引导关键边的移动，使得最终特定重复图形的基本单元的光学临近效应修正结果一致。
[0018]优选地，所述重复图形基本单元是上下左右对称的图形。
【附图说明】
[0019]结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中:
[0020]图1示意性地示出了图形对称且含有非水平垂直的边的重复图形基本单元的示例。
[0021]图2示意性地示出了根据本发明优选实施例的针对特定重复图形的光学临近效应修正方法的流程图。
[0022]图3示意性地示出了根据本发明优选实施例的针对特定重复图形的光学临近效应修正方法的示意图。
[0023]需要说明的是，附图用于说明本发明，而非限制本发明。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。
【具体实施方式】
[0024]为了使本发明的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本发明的内容进行详细描述。
[0025]图2示意性地示出了根据本发明优选实施例的针对特定重复图形的光学临近效应修正方法的流程图。
[0026]如图2所示，根据本发明优选实施例的针对特定重复图形的光学临近效应修正方法包括:
[0027]第一步骤S1:将待修正的整个版图划分成特定重复图形区域和非特定重复图形，其中特定重复图形区域指的是包含重复图形基本单元的版图区域，所述重复图形基本单元是图形对称且含有非水平垂直的边的图形单元；
[0028]例如，图1即示出了图形对称且含有非水平垂直边的重复图形基本单元的示例，该重复图形基本单元图形对称且含有非水平垂直边al、a2、a3和a4 (具体地，边al、a2、a3和a4即不是水平的也不是垂直的)。
[0029]优选地，所述重复图形基本单元是上下左右对称的图形，也就是说即上下对称又左右对称。
[0030]第二步骤S2:采用常规光学临近效应修正方法修正非特定重复图形区域，以获取第一修正结果；
[0031]其中，常规光学临近效应修正方法包括:对非特定重复图形区域进行多次模拟和修正(优选地，8-10次模拟和修正)，以得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图作为所述第一修正结果，其中各次模拟和修正时的关键边的后退值相同。
[0032]第三步骤S3: