移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法_4

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如不位于同一直线上的三处,三个亦可。
[0089]以上述方式构成的液晶曝光装置10 (参照图1),是在未图示的主控制装置的管理下,通过未图示的光罩装载器将光罩Μ装载于光罩载台MST,以及通过未图示的基板装载器将基板Ρ装载在基板支承构件60上。其后,通过主控制装置使用未图示的对准检测系统执行对准测量,在对准测量结束后,即进行步进扫描方式的曝光动作。
[0090]此处,根据图9(A)?图10(B)说明上述曝光动作时的基板载台装置PST的动作一例。此外,以下虽说明在一片基板上设定有四个照射区域的情形(所谓取四面之情形),但设定在一片基板P上的照射区域额数目及配置可适当变更。
[0091]曝光处理,例如图9 (Α)所示,是依照设定在基板Ρ的-Υ侧且-X侧的第1照射区域S1、设定在基板Ρ的+Υ侧且-X侧的第2照射区域S2、设定在基板Ρ的+Υ侧且+Χ侧的第3照射区域S3、设定在基板Ρ的-Υ侧且+Χ侧的第4照射区域S4的顺序进行。基板载台装置PST中,如图9 (Α)所示,根据X干涉仪66χ及Υ干涉仪66y的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第1照射区域S1位于曝光区域IA的+X侧。
[0092]此后,如图9⑶所示,相对照明光IL (参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出在-X方向以既定的一定速度驱动(参照图9(B)的箭头),借此,在基板P上的第1照射区域S1转印光罩图案。在对第1照射区域S1的曝光处理结束后,如图10(A)所示,根据Y干涉仪66y的输出将基板支承构件60的位置控制成第2照射区域S2的+X侧端部位在较曝光区域IA(图10㈧中未图示。参照图2)略靠-X侧处。
[0093]其次,如图10 (B)所示,相对照明光IL (参照图1)将基板支承构件60根据X干涉仪66x的输出在+X方向以既定的一定速度驱动(参照图10(B)的箭头),借此,在基板Pi的第2照射区域S2转印光罩图案。此后,虽未图示,但根据X干涉仪66x的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第3照射区域S3 (参照图9 (A))的-X侧端部位在较曝光区域IA略靠+X侧处,并通过相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出在-X方向以既定的一定速度驱动,在基板P上的第3照射区域S3转印光罩图案。其次,根据Y干涉仪66y的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第4照射区域S4 (参照图9 (A)) +X侧端部位在较曝光区域IA略靠-X侧处,并通过相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据X干涉仪66x的输出于+X方向以既定的一定速度驱动,在基板P上的第4照射区域S4转印光罩图案。
[0094]主控制装置在进行上述步进扫描方式的曝光动作中,是测量基板P表面的被曝光部位的面位置信息。接着,主控制装置根据其测量值控制空气夹头装置88所具有的真空预负荷空气轴承90的Z轴、Θ X及Θ y方向各自的位置(面位置),以定位成基板P表面中位于紧邻投影光学系统PL下方的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内。借此,即使例如假设于基板P表面产生起伏或基板P产生厚度的误差,亦可确实地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内,而能使曝光精度提升。又,基板P中与曝光区域IA对应的部分以外的区域的大部分是被复数空气悬浮装置59悬浮支承。所以,抑制因基板P的自重导致的弯曲。
[0095]如上述,第1实施形态的液晶曝光装置10所具有的基板载台装置PST,由于系集中控制基板表面中与曝光区域对应的位置的面位置,因此例如与如美国发明专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的载台装置,将具有与基板P相同程度的面积的基板保持具(也即基板P整体)往Z轴方向及倾斜方向分别驱动的情形相较,可大幅减低其重量。
[0096]又,基板支承构件60由于是仅保持基板P端部的构成,因此假使基板P大型化,用以驱动基板支承构件60的X线性马达只要是输出小者即可,而能减低运转成本。又,电源设备等基础设备的整理准备亦容易。又,由于X线性马达的输出小即可,因此亦能减低期初降低初期成本。又,由于X线性马达的输出(推力)较小,因此驱动反作用力给予装置整体的影响(因振动而对曝光精度的影响)亦较少。又,与已知的上述基板载台装置相较,组装、调整、维护等均容易。又,由于构件的数目较少且各构件为轻量,因此输送亦容易。此外,包含多个空气悬浮装置59在内,Y步进导件50虽较基板支承构件60大型,但基板P的Z轴方向的定位系由定点载台80进行,空气悬浮装置59本身仅使基板P悬浮,因此不要求刚性,而能使用较轻量者。
[0097]又,由于基板支承构件60移动在X轴方向时发挥定盘(导引构件)功能的Y步进定盘20与包含用以将基板支承构件60诱导于X轴方向的一对X托架70的Y步进导件50系通过弯曲装置18在Y轴方向以外的五自由度方向在振动上分离,因此使用X线性马达驱动一对X托架70各自时,作用于Y步进导件50的X轴方向的驱动反作用力及伴随于其的振动等不会传达至Y步进定盘20。因此,能在X轴方向以高精度定位基板支承构件60。
[0098]又,由于通过多个空气悬浮装置59的基板P的悬浮量设定为例如设定为数十微米?数千微米程度(也即悬浮量较定点载台80大),因此假使基板P产生挠曲或空气悬浮装置59的设置位置偏移,也防止基板P与空气悬浮装置59的接触。又,由于从多个空气悬浮装置59喷出的加压气体的刚性较低,因此使用定点载台80进行基板P的面位置控制时的Z音圈马达95的负荷较小。
[0099]又,由于支承基板P的基板支承构件60为简单的构成,因此能使重量较轻。驱动基板支承构件60时的反作用力虽会传达至Y步进导件50,但由于Y步进导件50与装置本体30(参照图1)除了弯曲装置18以外并未连结,因此即使产生因驱动反作用力导致的装置振动(装置本体30的摇动或振动激发的共振现象等),对曝光精度造成影响的可能性也小。
[0100]又,由于Y步进导件50重量较基板支承构件60重,因此其驱动反作用力也较驱动基板支承构件60时大,但由于Y步进导件50除了弯曲装置18以外并未连结在装置本体30 (参照图1),因此因该驱动反作用力导致的上述装置振动对曝光精度造成影响的可能性亦小。
[0101]又,由于通过除了 Y轴方向以外刚性较低的弯曲装置18连结Y步进定盘20与Y步进导件50 (将彼此于除了 Y轴方向以外不拘束的状态连结),因此假使将Y步进定盘20导引于Y轴方向的Y线性导件38与将Y步进导件50导引于Y轴方向的Y线性导件44的平行度降低,也能将因其平行度降低而作用于Y步进定盘20或Y步进导件50的负荷释放。
[0102]《第2实施例》
[0103]其次根据图11及图12说明第2实施例的基板载台装置PSTa。第2实施例的基板载台装置PSTa与上述第1实施例相较,Y步进定盘20的驱动方向不同。此外,针对本第2实施例(及后述的其他实施例)中具有与上述第1实施例的基板载台装置PST(参照图2)相同构成及功能的构件,使用与上述第1实施例相同符号,省略其说明。
[0104]相对于上述第1实施例中,Y步进定盘20是通过多个弯曲装置18 (参照图2)被Y步进导件50牵引,本第2实施例中,Y步进定盘20是通过固定于Y步进导件50的多个推件装置118被按压于Y步进导件50,而与Y步进导件50 —起移动于Y轴方向。
[0105]推件装置118,如图11所示在一对空气悬浮装置用底座53各自的+Y侧侧面及-Y侧侧面各固定有一个。推件装置118包含钢球(或通过陶瓷形成的球体等硬度高的构件),如图12所示,该钢球隔着既定的空隙(间隙/隙缝)面对于Y步进定盘20的X柱21的内侧面(+X侧的X柱21的-X侧之面、-X侧的X柱21的+X侧的面)。此外,推件装置118的数目及配置并不限于此,可适当变更。
[0106]基板载台装置PSTa中,在通过Y线性马达在一对底座定盘40上将Y步进导件50驱动于Y轴方向(+Y方向或-Y方向)后,固定于空气悬浮装置用底座53侧面(+Y侧侧面或-Y侧侧面)的推件装置118抵接于Y步进导件50的X柱21。接着,Y步进定盘20通过推件装置118按压在Y步进导件50上,而与该Y步进导件50 —体移动在Y轴方向。又,在使Y步进定盘20在Y轴方向移动至所到位置后,Y步进导件50被往与上述定位时的驱动方向相反的方向微幅驱动,而使推件装置118从Y步进定盘20的X柱21离开。
[0107]在此状态下,由于Y步进定盘20与Y步进导件50完全分离,因此防止例如因驱动一对X托架70时的反作用力而产生的振动等传达至Y步进定盘20。因此,在曝光动作中一边将基板支承构件60以长行程驱动于X轴方向,一边使用一对Y音圈马达29y将基板支承构件60驱动在Y轴方向(或θ ζ方向)时因作用于Y步进导件50的Y轴方向的反作用力而产生的振动等不会传达至Y步进定盘20。此外,也可在推件装置118设置使钢球微幅驱动在Y轴方向的Y致动器,而在上述Y步进定盘20的移动后,仅使钢球从Y步进定盘20离开。此情形下,不须使Y步进导件50整体移动。
[0108]《第3实施例》
[0109]其次根据图13及图14说明第3实施例的基板载台装置PSTb。第3实施例的基板载台装置PSTb与上述第1实施例相较,Y步进定盘20的驱动方向不同。第3实施例的基板载台装置PSTb中,Y步进定盘20通过安装在Y步进导件50的多个空气轴承218a所形成的气体膜而被按压在Y步进导件50,而与Y步进导件50 —起移动在Y轴方向。
[0110]空气轴承218a,如图13所示分别安装在一对连结构件53a的+Y侧的侧面及_Y侧的侧面。空气轴承218a包含将加压气体(例如空气)从轴承面喷出的垫构件和将该垫构件可摆动地(可往Θ X、θ ζ方向旋转微小角度)支承的球接头等。于Y步进定盘20的X柱21的内侧面固定有由平行于XY平面的板状构件构成且通过既定空隙(间隙/隙缝)面向于垫构件的轴承面的对向构件218b。此外,空气轴承218a及对向构件218b的数目及配置不限于此,亦可适当变更,例如空气轴承218a安装在Y步进定盘20上,对向构件218b安装在Y步进导件50上。
[0111]基板载台装置PSTb中,在Y步进导件50通过Y线性马达在一对底座定盘40上被驱动于Y轴方向后,即通过从空气轴承218a喷出的气体的静压(形成于空气轴承218a的轴承面与对向构件218b之间的气体膜的刚性),Y步进定盘20以非接触状态被按压于Y步进导件50,而与该Y步进导件50 —体地移动于Y轴方向。因此,Y步进定盘20与Y步进导件50于Y轴方向以外的五自由度方向在振动上分离,而与第1实施形态例同样地,防止例如因驱动一对X托架70时的反作用力而产生的振动等传达至Y步进定盘20。又,与上述第1实施形态不同,由于Y步进定盘20与Y步进导件50是非接触,因此能于Y轴方向以外的五自由度方向确实地使Y步进定盘20与Y步进导件50在振动上分离。又,如上述第2实施例,由于无反复接触及分离的构件,因此能抑制冲撞的产生或产生灰尘。
[0112]《第4实施例》
[0113]其次根据图15及图16说明第4实施例的基板载台装置PSTc。第4实施例的基板载台装置PSTc与上述第1实施例相比较,Y步进定盘20的驱动方向不同。第4实施形例的基板载台装置PSTc中,Y步进定盘20通过Y线性马达(由通过间隔件318a固定在X柱21下面的Y可动子318b (图15中未图示,参照图16)与固定于底座定盘40的Y固定子48构成)而与Y步进导件50独立地被驱动于Υ轴方向(不过,实际上Υ步进定盘20与Υ步进导件50是同步被驱动在Υ轴方向)。此外,图16所示的基板载台装置PSTc虽相当于图15的G-G线剖面图,但为了使基板载台装置PSTc的构成容易理解,省略了最靠+X侧(从+X侧观看时为最前方侧)的下柱架33 (及固定于其上面的Y线性导件38)的图示。
[0114]Y可动子318b具有包含未图示线圈的线圈单元,相对一个X柱21在X轴方向分离分别设有两个(参照图15)。Y步进定盘20的位置资讯通过包含固定于底座定盘40的Y标尺(与构成用以求出Y步进导件50位置信息的Y线性编码器系统之Y标尺共通)与固定于Y步进定盘20的Y编码器读头(Y标尺及Y编码器读头均未图示)的Y线性编码器系统求出,根据该Y线性编码器系统的测量值控制Y步进定盘20的Y位置
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