。此外，基板载台装置PSTb中，为了将Y步进定盘20驱动在Y轴方向，而将构成Y线性马达的Y固定子48在Y轴方向的尺寸设定为较上述第1?第3实施例长，但为了说明方便而使用相同符号。
[0115]基板载台装置PSTc中，与上述第2实施例同样地，由于Y步进定盘20与Y步进导件50完全分离，因此防止例如因驱动一对X托架70时的反作用力而产生的振动等传达至Y步进定盘20。因此，在曝光动作中一边将基板支承构件60以长行程驱动于X轴方向，一边使用一对Y音圈马达29y将基板支承构件60驱动于Y轴方向(或θ ζ方向)时因作用于Y步进导件50的Y轴方向的反作用力而产生的振动等不会传达至Y步进定盘20。此外，相对于Y步进定盘20搭载在装置本体30上，由于Y固定子48固定在底座定盘40上，而Y固定子48与Y可动子318b的间隔有可能变化，因此驱动Y步进定盘20的Y线性马达最好使用无心线性马达。
[0116]《第5实施例》
[0117]其次根据图17及图18说明第5实施例形态的基板载台装置PSTd。第5实施形态的基板载台装置PSTd与上述第1实施例形态相比较，Y步进定盘20的驱动方向不同。第5实施形态的基板载台装置PSTd中，Y步进定盘20通过安装于Y步进导件50的多个永久磁石418a与安装于Y步进定盘20上的多个永久磁石418b之间所产生的斥力(反弹力)，而在无机械式接触的状态(非接触)被按压于Y步进导件50上，藉此与Y步进导件50 —起在Y轴方向移动向。
[0118]永久磁石418a，如图17所示在一对空气悬浮装置中用底座53各自的+Y侧侧面及-Y侧侧面各固定有一个。又，永久磁石418b，相对于上述多个永久磁石418a固定于Y步进定盘20的X柱21的内侧面。又，永久磁石418a与永久磁石418b配置成彼此对向的对向面的磁极成为相同(S极与S极、或N极与N极对向)。此外，永久磁石418a及永久磁石418b的数目及配置不限于此，可适当变更。
[0119]基板载台装置PSTd中，Y步进导件50被Y线性马达在一对底座定盘40上驱动于Y轴方向后，通过在彼此对向的永久磁石418a与永久磁石418b之间产生的磁力反弹力，而在于形成Y步进定盘20与Y步进导件50之间形成有既定空隙(间隙/隙缝)的状态下(无机械式接触)，Y步进定盘20被按压于Y步进导件50，而与该Y步进导件50 —体移动在Y轴方向。第5实施形态的基板载台装置PSTd中，除了有与上述第3实施例所得的效果相同的效果以外，能在不供应加压气体或电气等能量的情况下于Y步进定盘20与Y步进导件50之间形成既定空隙(间隙/隙缝)，而能使装置构成简单。又，也无灰尘产生、振动传达的可能性。
[0120]此外，包含基板载台装置在内的液晶曝光装置的构成不限于上述实施形态例所记载者的，亦可也可适当变更。例如，图19(A)所示，基板支承构件60b也亦可使用能相对X支承构件61b微幅移动于Z轴方向的保持构件161b来吸附保持基板P。保持构件161b，是由延伸于X轴方向的棒状构件构成，于其上面具有未图示的吸附垫(真空吸引用的配管等系未图示)。在保持构件161b下面的长度方向两端部附近，安装有分别往下方(-Z侧)突出的销162b。销162b插入形成于X支承构件61b上面的凹部内，而从下方被支承于收容于该凹部内的压缩线圈弹簧。藉此，保持构件161b (亦即即基板P)能相对X支承构件61b移动于Z轴方向(上下方向)。如前所述，上述第1?第5实施例形态中，如图2等所示，由于定点载台80搭载于装置本体30 —部分即定点载台架台35，Y步进导件50透过一对架台42搭载于底座定盘40上，因此基板支承构件60b的Z位置(基板支承构件60b平行地沿XY平面移动时的移动平面的Z位置)与空气悬浮装置59的Z位置虽有可能例如因防振装置34的作用而变化，但图19(A)所示的基板支承构件60b由于不将基板P在Z轴方向拘束，因此假使基板支承构件60b的Z位置与定点载台80的Z位置偏移，基板P亦会依据空气悬浮装置59的Z位置而相对X支承构件61b在Z轴方向移动(上下动)于Z轴方向，因此可抑制对基板P的Z轴方向的负荷。此外，也可如图19(B)的基板支承构件60c所示，使用多个平行板弹簧装置162c使具有未图示吸附垫的保持构件161c相对X支承构件61b在Z轴方向微幅移动。
[0121]又，基板支承构件60虽然是从下方吸附保持基板P的构成，但并不限于此，也可通过例如将基板P的端部往Y轴方向(从一方的X支承构件61侧往另一方的X支承构件61侦D按压的按压装置保持基板。此情形下，能对基板P的大致全面进行曝光处理。
[0122]又，直进导引Y步进定盘20、Y步进导件50或X托架70的一轴导引装置，也可是包含由例如石材、陶瓷等形成的导引构件与多个气体静压轴承(空气轴承)的非接触一轴导引装置。
[0123]又，作为驱动Y步进定盘20、Y步进导件50或X托架70的驱动装置，也可是组合有滚珠螺杆与旋转马达的进给装置、组合有皮带(或绳)与旋转马达的皮带驱动装置等。
[0124]又，基板支承构件60虽然通过从空气轴承64喷出的加压气体而悬浮在Y步进定盘20上，但并不限于此，例如也可使空气轴承64具有吸引功能，吸引基板支承构件60与X导件24间的气体而对基板支承构件60施以预负荷，而使基板支承构件60与X导件24间的空隙(间隙/隙缝)变窄，以提高基板支承构件60与X导件24间的气体刚性。
[0125]又，基板支承构件60的位置信息也可使用线性编码器系统求出。又，也可使用线性编码器系统独立求出基板支承构件60所具有的X支承构件61各自的位置信息，此情形下，也可不将一对X支承构件61彼此机械式地连结(不需要连结构件62)。
[0126]又，定点载台80 (参照图8)中，驱动空气夹头装置88的Z音圈马达95的固定子95a，在其驱动反作用力小至可忽视对装置本体30造成影响时，也可固定于定点载台架台35ο
[0127]又，定点载台80中，也可将空气夹头装置88构成为可移动在X轴方向，在开始扫描曝光动作前，预先使真空预负荷空气轴承90位于基板Ρ的移动方向上游侧(例如在图9 (Α)所示的第1照射区域S1的曝光前为曝光区域ΙΑ的+Χ侧)，并在该位置预先进行基板Ρ上面的面位置调整，伴随着基板Ρ往扫描方向移动，使空气夹头装置88与基板Ρ (基板支承构件60)同步移动(曝光中，使之在紧邻曝光区域IA的下方停止)。
[0128]又，作为通过Y步进导件50使Y步进定盘20移动的方式，也可组合上述第1?3及第5实施形态的驱动方式。例如，如上述第1实施例，并用弯曲装置18(参照图2)与推件装置118 (图11)，或并用推件装置118与一组永久磁石418a、418b (图17)，通过Y步进导件50使Y步进定盘20移动。
[0129]又，也可设置质量块，在使用线性马达驱动一对X托架70或Y步进导件50 (及第4实施例的Y步进定盘20)等可动构件时减低其驱动反作用力。
[0130]又，照明光，不限于ArF准分子雷射光(波长193nm)，也能使用KrF准分子雷射光(波长248nm)等紫外光、F2雷射光(波长157nm)等真空紫外光。又，作为照明光，可使用例如谐波，它是掺有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器，将从DFB半导体雷射或纤维雷射振荡出的红外线区或可见区的单一波长雷射光放大，并以非线形光学结晶将其转换波长成紫外光。又，也可使用固态雷射(波长:355nm、266nm)等。
[0131]又，上述各实施例中，虽已说明投影光学系统PL具备多支投影光学系统的多透镜方式的投影光学系统，但投影光学系统的支数不限于此，只要有一支以上即可。又，不限于多透镜方式的投影光学系统，也可是使用了 Offner型的大型反射镜的投影光学系统等。
[0132]又，上述实施形态中，虽然说明使用投影倍率为等倍系统者来作为投影光学系统PL，但并不限于此，投影光学系统也可是放大系统及缩小系统的任意一个。
[0133]又，上述实施例中，虽使用在具光透射性的基板上形成既定遮光图案(或相位图案，减光图案)的光透射性光罩(标线片)，但亦可使用例如美国发明专利第6，778，257号说明书所揭示的电子光罩来代替此标线片，该电子光罩(可变成形光罩)是根据欲曝光图案的电子资料来形成透射图案、反射图案、或发光图案，它是使用例如非发光型影像显示元件(也称为空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可变成形光罩。
[0134]此外，曝光装置，在适用为将尺寸(包含外径、对角线、一边的至少一个)为500_以上的基板、例如液晶显示元件等平板显示器(FPD)用的大型基板曝光的曝光装置时，特别有效。
[0135]又，曝光装置也可适用于步进重复方式的曝光处理、步进接合方式的曝光装置。
[0136]又，曝光装置用途并不限定于将液晶显示元件图案转印至角型玻璃板的液晶用曝光装置，也可广泛适用于用来制造例如半导体制造用的曝光装置、薄膜磁头、微型机器及DNA晶片等的曝光装置。又，除了制造半导体元件等微型元件以外，为了制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X射线曝光装置及电子射线曝光装置等的光罩或标线片，也能将上述各实施形态适用于用以将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等的曝光装置。此外，作为曝光对象的物体并不限玻璃板，也可以是例如晶圆、陶瓷基板、膜构件、或者空白光罩等其他物体。又，曝光对象物为平板显示器用的基板时，该基板的厚度不特别限定，也包含例如膜状(具有可挠性的片状构件)者。
[0137]又，作为使物体沿既定二维平面移动的移动体装置(载台装置)，并不限于曝光装置，也可使用例如用于物体的检查的物体检查装置等进行物体相关的既定处理的物体处理駐g笔
目.寸ο
[0138]此外，援用与至此为止的说明中所引用的曝光装置等相关的所有美国发明专利申请公开说明书及美国发明专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。
[0139]《元件制造方法》
[0140]其次，说明在微影步骤使用上述各实施例的曝光装置的微型元件的制造方法。
[0141]上述各实施例的曝光装置，可藉由在板体(玻璃基板)上形成既定图案(电路图案、电极图案等)而制得作为微型元件的液晶显示元件。
[0142]〈图案形成步骤〉
[0143]首先，是执行使用上述各实施形态的曝光装置将图案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所谓光微影步骤。凭借此光微影步骤，在感光性基板上形成包含多个电极等的既定图案。其后，经曝光的基板，经过显影步骤、蚀刻步骤、光阻剥离步骤等各步骤而于基板上形成既定图案。
[0144]〈彩色滤光片形成步骤〉
[0145]其次，形成与R(Red)、G(Green)、B(Blue)对应的三个点的组多数个排列成矩阵状、或将R、G、B的三条条纹的滤光器组多个排列于水平扫描线方向的彩色滤光片上。
[0146]〈单元组装步骤〉
[0147]接着，使用在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板、以及在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片等组装液晶面板(液晶单元)。例如于在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板与在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片之间注入液晶，而制造液晶面板(液晶单元)。
[0148]〈模组组装步骤〉
[0149]其后，安装用以进行已组装完成的液晶面板(液晶单元)的显示动作的电路、背光等各零件，而完成液晶显示元件。此时，在图案形成步骤中，由于是使用上述各实施例的曝光装置而能以高产能且高精度进行板体的曝光，其结果能提升液晶显示元件的生产性。
[0150]产业上的可利用性
[0151 ] 如以上说明，本发明的移动体装置适于沿既定二维平面驱动物体。又，本发明的物体处理装置适于对物体进行既定处理。又，本发明的曝光装置适于于物体形成既定图案。又，本发明的平板显示器的制造方法适于制造平板显示器。又，本发明的元件制造方法适于生产微型元件。
【主权项】
1.一种移动体装置，其具备: 第1移动体，其保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的物体的端部，并且于至少所述二维平面内的第1方向以既定行程移动； 第2移动体，其包含在所述第1移动体的在所述第1方向的可移动范围内从下方支承所述物体的物体支承构件，并且能与所述第1移动体一起移动于在所述二维平面内与所述第