光致抗蚀剂回收系统及其方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种半导体制作工艺的试剂回收系统及其方法，且特别是涉及一种光致抗蚀剂回收系统及其方法。
【背景技术】
[0002]在半导体制作工艺中，经常使用各种液体来进行不同的制作工艺，例如在光刻制作工艺中使用光致抗蚀剂液(photoresist，简称PR)。其中，在光刻制作工艺的光致抗蚀剂涂布步骤时，将光致抗蚀剂液利用例如是旋涂法、网版印刷法或者喷印法等方法，涂布于晶片(wafer)上。
[0003]在实际输送光致抗蚀剂至机台时，往往会存在一些问题，而影响整个产品的良率及成本。举例来说，当光致抗蚀剂瓶内的光致抗蚀剂液低于某一存量时，光致抗蚀剂液会无法通过加压光致抗蚀剂瓶的方式来送出，造成管路喷空而于光致抗蚀剂液内产生气泡，因此影响光致抗蚀剂液的品质与轮廓外观以及产品的良率。为了解决上述问题，有人提出在光致抗蚀剂输送装置上设置计数装置或计时装置，来管控光致抗蚀剂液使用量。然而，通过计数装置或计时装置来管控光致抗蚀剂液使用量的方式相当耗费人力成本。此外，亦会有人员计算失误的问题发生，造成管路喷空导致所送出之光致抗蚀剂液具有气泡。另外，因为不同产品所需使用的光致抗蚀剂液量不同，所以无法有效地精准控制光致抗蚀剂液的使用率，而造成光致抗蚀剂液残量过多与光致抗蚀剂液浪费等问题。
[0004]另一方面，生产成本降低对于半导体制造业来说越来越关键，面对商业上的竞争，必须改善生产成本，例如控制生产成本、缩小制作工艺线宽、或节省生产原物料等。然而，为了排除产生在光致抗蚀剂瓶与管线内的多余气泡，或者为了更换光致抗蚀剂瓶时所残留的光致抗蚀剂液，使得剩余的光致抗蚀剂液的残留量无法再用于生产，而导致了光致抗蚀剂液的浪费。日积月累下，造成了生产成本的增加，而使得竞争力下降。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于提供一种光致抗蚀剂回收系统，用以回收光致抗蚀剂液，避免因排除光致抗蚀剂瓶或管路内的多余气泡，或者更换光致抗蚀剂空瓶时所导致的光致抗蚀剂液的浪费，可有效降低生产成本。
[0006]本发明的目的在于提供一种光致抗蚀剂回收方法，用以简便地回收光致抗蚀剂液，有助于降低生产成本。
[0007]为达上述目的，本发明的光致抗蚀剂回收系统，包括:储存瓶，用以存放光致抗蚀剂液，储存瓶具有瓶盖，在瓶盖上设有第一接头、第二接头与第三接头；加压装置，与第一接头连接；排出管路，与瓶盖的第二接头连接；第一切换装置，设置于排出管路上；第二切换装置，设置于储存瓶与第一切换装置之间的排出管路上；回收管路，连接第三接头以及在第一切换装置与第二切换装置之间的排出管路；以及第三切换装置，设置于回收管路上。
[0008]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的第一接头为快速接头。
[0009]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的第二接头还具有第二接头抽取管路延伸至靠近储存瓶的瓶底处，用以抽取光致抗蚀剂液；第三接头设置有第三接头抽取管路，用以回收光致抗蚀剂液。
[0010]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的加压装置为氮气加压装置。
[0011]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统还包括:暂存桶，其是设置于储存瓶与第二切换装置之间的排出管路上，并且暂存桶通过输送管路连接至机台。
[0012]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统还包括:侦测器，其是设置于储存瓶与暂存桶之间的排出管路上。
[0013]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的排出管路是通过三通接头与回收管路连接。
[0014]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的三通接头的材质为铁氟龙。
[0015]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的第一切换装置、第二切换装置与第三切换装置为二向阀。
[0016]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收系统的二向阀的材质为铁氟龙。
[0017]本发明的光致抗蚀剂回收方法，适用于光致抗蚀剂回收系统，光致抗蚀剂回收系统包括:储存瓶，用以存放光致抗蚀剂液，储存瓶具有瓶盖，在瓶盖上设有第一接头、第二接头与第三接头；加压装置，与第一接头连接；排出管路，与第二接头连接；第一切换装置，设置于排出管路上；第二切换装置，设置于储存瓶与第一切换装置之间的排出管路上；回收管路，连接第三接头以及在第一切换装置与第二切换装置之间的排出管路；以及第三切换装置，设置于回收管路上；本发明的光致抗蚀剂回收方法，包括:关闭第一切换装置、第二切换装置及第三切换装置；将加压装置连接至第一接头，并使得储存瓶处于饱压状态；打开第二切换装置，使得储存瓶受到压力的影响，而使光致抗蚀剂液经由排出管路流向回收管路；以及打开第三切换装置，并从第一接头移除加压装置的连接，利用压力差使得回收管路中的光致抗蚀剂液流向储存瓶。
[0018]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的第一接头为快速接头。
[0019]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的第二接头还具有第二接头抽取管路延伸至靠近储存瓶的瓶底处，用以抽取光致抗蚀剂液；第三接头设置有第三接头抽取管路，用以回收光致抗蚀剂液。
[0020]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的加压装置为氮气加压装置。
[0021]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法还包括:暂存桶，其是设置于储存瓶与第二切换装置之间的排出管路上，并且暂存桶通过输送管路连接至机台。
[0022]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法还包括:侦测器，其是设置于储存瓶与暂存桶之间的排出管路上。
[0023]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的排出管路是通过三通接头与回收管路连接。
[0024]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的三通接头的材质为铁氟龙。
[0025]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的第一切换装置、第二切换装置与第三切换装置为二向阀。
[0026]在本发明的一实施例中，上述的光致抗蚀剂回收方法的二向阀的材质为铁氟龙。
[0027]基于上述，由于本发明所提出的光致抗蚀剂回收系统及其方法，可以回收因管路中的气泡所排出的废弃光致抗蚀剂液，以及回收更换光致抗蚀剂瓶时，残留于管线中的光致抗蚀剂液。而且，通过回收废弃或残留于管线中的光致抗蚀剂液，可以大幅降低光致抗蚀剂瓶更换次数，如此一来减少了光致抗蚀剂液的浪费，可有效降低生产成本。
[0028]为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。
【附图说明】
[0029]图1为本发明的实施例所绘示的光致抗蚀剂回收系统的结构配置图；
[0030]图2为本发明的实施例所绘示的光致抗蚀剂回收系统的瓶盖的结构图；
[0031]图3为本发明的实施例所绘示的光致抗蚀剂回收方法的步骤流程图。
[0032]符号说明
[0033]100:光致抗蚀剂回收系统
[0034]110:储存瓶
[0035]115:瓶盖
[0036]120:第一接头
[0037]121:快速接头
[0038]124:第二接头
[0039]125:第二接头抽取管路
[0040]128:第三接头
[0041]129:第三接头抽取管路
[0042]130:加压装置
[0043]140:排出管路
[0044]145:三通接头
[0045]151:第一切换装置
[0046]152:第二切换装置
[0047]153:第三切换装置
[0048]160:回收管路
[0049]170:暂存桶
[0050]175:输送管路
[0051]179:机台
[0052]180:侦测器
[0053]S301、S302、S303、S304:步骤
【具体实施方式】
[0054]下文中参照所附的附图来更充分地描述本发明实施例。然而，本发明可以多种不同的形式来实践，并不限于文中所述的实施例。以下实施例中所提到的方向用语，例如「上」等，仅是参考附加附图的方向，因此使用的方向用语是用来详细说明，而非用来限制本发明。此外，在附图中为明确起见可能将各层的尺寸以及相对尺寸作夸张的描绘。
[0055]以下，说明本发明的实施例的一种光致抗蚀剂回收系统。本发明的实施例以应用在光致抗蚀剂涂布制作工艺设备为例做说明，而其并不限于此。
[0056]图1是本发明实施例的一种光致抗蚀剂回收系统的结构配置图。请参阅图1，本实施例的光致抗蚀剂回收系统100包括储存瓶110、加压装置130、排出管路140、第一切换装置151、第二切换装置152、第三切换装置153以及回收管路160。其中，储存瓶110用以存放光致抗蚀剂液。储存瓶110具有瓶盖115，并且在瓶盖115上例如设有第一接头120、第二接头124与第三接头128。
[0057]加压装置130与第一接头120连接，用以提供压力，使得储存瓶110处于饱压状态，而将光致抗蚀剂液利用压力差的方式从储存瓶110送出。排出管路140与瓶盖115的第二接头152连接，用以输送光致抗蚀剂液。第一切换装置151设置于排出管路140上。第二切换装置152设置于储存瓶110与第一切换装置151之间的排出管路140上。回收管路160连接第三接头128以及在第一切换装置151与第二切换装置152之间的排出管路140。以及，第三切换装置153设置于回收管路160上。
[0058]在本发明一实施例中，光致抗蚀剂回收系统100的加压装置130例如是氮气加压
目.ο
[0059]在本发明一实施例中，光致抗蚀剂回收系统100的第二接头124还具有第二接头抽取管路125延伸至靠近储存瓶110的瓶底处，用以抽取光致抗蚀剂液；第三接头128设置有第三接头抽取管路129，用以回收光致抗蚀剂液，可防止因管路空管而造成颗粒污染光致抗蚀剂液。
[0060]在本发明一实施例中，光致抗蚀剂回收系统100还包括