一种铜蚀刻液的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及化工领域，尤其涉及一种铜蚀刻液。
【背景技术】
[0002]现有的铜蚀刻液通常污染大，成本高，蚀刻速率或者蚀刻程度较难控制，人们一直在追求更好的铜蚀刻液。
【发明内容】
[0003]
本发明所要解决的技术问题是提供一种蚀刻效果好、成本低，污染小的铜蚀刻液。
[0004]本发明是通过以下技术方案来实现:
一种铜蚀刻液，其特征在于:包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。
[0005]作为优选，所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
[0006]本发明的有益效果是:本发明的铜蚀刻液，蚀刻干净，污染小，易于制备，生产成本低，值得推广。
【具体实施方式】
[0007]下面结合【具体实施方式】，对本发明作进一步说明，但本发明的保护范围并不限于所述内容。
[0008]—种铜蚀刻液，其特征在于:包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
[0009]本发明的有益效果是:本发明的铜蚀刻液，工序少、制作成本低、冷却效果好。
[0010]本发明的铜蚀刻液，工序少、制作成本低、冷却效果好。
[0011]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
【主权项】
1.一种铜蚀刻液，其特征在于:包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。2.根据权利要求1所述的铜蚀刻液，其特征在于，所述铜蚀刻液的铜浓度保持方法为选择性分离铜的方法。
【专利摘要】本发明公开了一种铜蚀刻液，其特征在于：？包含作为基本成分的乙二胺和与之配合的氯酸盐，所述铜蚀刻液的铜浓度为1-150克/升。本发明的铜蚀刻液，蚀刻干净，污染小，易于制备，生产成本低，值得推广。
【IPC分类】C23F1/14
【公开号】CN105039985
【申请号】CN201510400423
【发明人】张兴良
【申请人】江阴市盛园铜材有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年7月10日