专利名称：图形修正装置及其涂布单元的制作方法
技术领域：
本发明涉及图形修正装置及其涂布单元，尤其涉及对形成在基板上的微小图形的缺陷部进行修正的图形修正装置及其涂布单元。更特定地说，本发明涉及对平板显示器的制造工序中发生的电极的开口缺陷、等离子显示器的凸肋(隔壁)缺损、液晶滤色器的白缺陷、掩模的缺陷等进行修正的图形修正装置和用于它的涂布单元。
背景技术：
近年来，随着等离子显示器、液晶显示器、EL显示器等平板显示器的大型化、高精细化，在显示器的制造工序中，在基板上的电极和凸肋等上会发生缺陷、或者液晶滤色器的着色层发生缺陷的概率变大。因此，为提高产品合格率，提出了一种对各种缺陷进行修正的图形修正装置。
例如，作为对液晶滤色器的着色层的一部分脱墨的白缺陷进行修正的装置，有将附着的涂布针前端部上的修正用墨水涂布在白缺陷处进行修正的装置(例如参照日本特开平9-61296号公报)。另外，作为对缺少形成于等离子显示器背面玻璃基板上的一部分凸肋的凸肋欠缺缺陷进行修正的装置，有将附着在涂布针前端部上的修正用涂膏涂布在凸肋欠缺缺陷处进行修正的装置(例如参照日本特开2000-299059号公报)。
在这些图形修正装置中，在注入于容器的修正液(修正用墨水、修正用涂膏)的液面上使涂布针上下移动而将修正液附着在涂布针的前端部上后，使该涂布针在缺陷部(白缺陷、凸肋欠缺缺陷)上上下移动而将涂布针前端部的修正液涂布在缺陷部上。
但是，在以往的图形修正装置中，在缺陷部较大的场合，必须将修正液多次涂布在缺陷部上，每次涂布时都要将涂布针从缺陷部返回到容器重新将修正液附着在涂布针上。因此，存在着缺陷部修正时间变长的问题。
发明内容
为此，本发明的主要目的在于提供一种可用简单的结构迅速修正缺陷部的图形修正装置及其涂布单元。
本发明的涂布单元，是对形成在基板上的微小图形的缺陷部进行修正的图形修正装置的涂布单元，具有在底部开设有第1孔、注入修正液的容器；具有与第1孔大致相同的直径、将修正液涂布在缺陷部上用的涂布针；将容器及涂布针支承成可上下移动的第1直线移动导向构件；将容器及涂布针支承成可相对上下移动的第2直线移动导向构件；使容器及涂布针上下移动并使容器及涂布针相对上下移动、使涂布针前端部从第1孔突出而将修正液附着在前端部上的驱动部。
驱动部的驱动轴最好只有1根。
且最好是，驱动部在使容器及涂布针下降后仅使涂布针下降，并使涂布针的前端部从第1孔突出。
最好还具有固定在容器上、开设有与涂布针大致相同直径的第2孔的盖；支承台；和将容器安装在支承台上用的磁铁，容器利用磁铁和插入第2孔内的涂布针而被支承在规定的位置。
最好是，磁铁固定在支承台上，涂布单元还具有固定在容器上、由磁性体材料形成的销，销的端面被吸附在磁铁的端面上，从而容器被支承在支承台上。
最好是，配置有磁铁和销，当销的端面吸附在磁铁的端面上时，使连接第1孔的中心与第2孔的中心的基准线与涂布针的中心线大致一致。
最好是，第1孔与贯通它的涂布针的间隙大于第2孔与贯通它的涂布针的间隙。
最好是，还具有支承台、第1臂、第2臂及移动范围限定机构，所述第1臂的前端部设置有涂布针，基端部通过第1直线移动导向构件而与支承台结合，且该第1臂设成相对于支承台可上下移动；所述第2臂的前端部设置有容器，基端部通过第2直线移动导向构件而与第1臂结合，且该第2臂设成相对于第1臂可相对上下移动；所述移动范围限定机构将第2臂的相对于第1臂的上下方向的相对移动量限定在比第1臂的上下移动量小的范围内，驱动部仅使第1臂的基端部上下移动，在使容器及涂布针上下移动的同时，使容器及涂布针相对地上下移动。
最好是，第1及第2臂配置在支承台的一侧，驱动部配置在支承台的另一侧，容器设在比驱动部低的位置。
最好是，具有固定在容器上并开设有与涂布针大致相同直径的第2孔的盖、将容器安装在第2臂上用的磁铁，容器利用磁铁和插入第2孔内的涂布针而被支承在规定的位置。
另外，本发明的图形修正装置是具有上述涂布单元的装置。
最好是，还具有当涂布单元处于待机状态时配置在容器底部下方的承接从第1孔中漏出的修正液的遮蔽板。
最好是，还具有在涂布动作时使涂布单元向水平方向移动而使容器离开遮蔽板的移动构件，驱动部使离开遮蔽板后的容器底部下降到比遮蔽板低的位置。
最好是，具有将互相不同种类的修正液注入的多个涂布单元，将从多个涂布单元中根据缺陷部的种类所选择的涂布单元的修正液涂布在缺陷部上。
另外，本发明的另一图形修正装置，是对形成在基板上的微小图形的缺陷部进行修正的图形修正装置，具有在底部开设有孔、注入修正液的容器；具有与孔大致相同的直径、并将修正液涂布在缺陷部上用的涂布针；将涂布针支承成可上下移动的直线移动导向构件；使涂布针下降、使涂布针的前端部从孔中突出而将修正液附着在前端部上的驱动部；设在容器底部下方、承接从孔中漏出的修正液的遮蔽板。
在本发明的涂布单元及图形修正装置中，设有在底部开设有第1孔、将修正液注入的容器；具有与第1孔大致相同的直径、并将修正液涂布在缺陷部上用的涂布针；将容器及涂布针支承成可上下移动的第1直线移动导向构件；将容器及涂布针支承成可相对上下移动的第2直线移动导向构件；使容器及涂布针上下移动并使容器及涂布针相对上下移动、使涂布针的前端部从第1孔中突出而将修正液附着在前端部上的驱动部。因此，只要使涂布针的前端部从容器底部的第1孔中突出而将修正液附着在前端部上，在该状态下使涂布针前端部与缺陷部接触就可将修正液涂布在缺陷部上。于是，与必须在容器和缺陷部之间使涂布针移动的以往技术相比，可用简单的结构迅速地修正缺陷部。
另外，在本发明的另一图形修正装置中，设置承接从容器底部的孔漏出的修正液的遮蔽板。因此，可防止从孔中漏出的修正液将基板污染的情况。
图1是表示本发明实施形态1的图形修正装置的整体结构的视图。
图2是表示图1所示的涂布机构部所具有的涂布单元构成的剖视图。
图3是表示图2所示的涂布单元的待机状态的剖视图。
图4是表示图2所示的涂布单元的涂布动作的剖视图。
图5是表示实施形态1的变更例的视图。
图6是表示本发明实施形态2的图形修正装置的涂布机构部所具有的涂布单元构成的剖视图。
图7是表示图6所示的容器及涂布针构成的剖视图。
图8是表示图6所示的容器的安装方法的剖视图。
图9是表示涂布单元的变更例的剖视图。
图10是表示图6所示的涂布单元的涂布动作的剖视图。
图11是表示本发明实施形态3的图形修正装置的涂布单元构成及动作的剖视图。
图12是表示图11所示的涂布针固定板的安装方法的俯视图。
图13是表示图11所示的容器及涂布针构成的剖视图。
图14是表示本发明实施形态4的图形修正装置的涂布单元的构成及动作的剖视图。
图15是表示图14所示的涂布单元的涂布动作的剖视图。
具体实施例方式
(实施形态1)图1是表示本发明实施形态1的图形修正装置的整体结构的视图。图1中，图形修正装置1具有观察基板表面的观察光学系统2；显示所观察到的图像的监视器3；通过观察光学系统2而将激光照射在基板上将不需要部分切割的切割用激光部4；使修正液附着在涂布针前端部上并涂布在基板的缺陷部上的涂布机构部5；对涂布在缺陷部上的修正液进行加热的基板加热部6；识别缺陷部的图像处理部7；控制装置整体的主计算机8；控制装置机构部动作的控制用计算机9。此外，设有使具有缺陷部的基板向XY方向(水平方向)移动的XY轴载物台10；在XY轴载物台10上保持基板的卡爪部11；使观察光学系统2和涂布机构部5向Z方向(垂直方向)移动的Z轴载物台12等。
在用涂布机构部5将修正液涂布在缺陷部上时或用观察光学系统2观察基板表面时等，XY轴载物台10用于使基板相对移动到适当的位置。图1所示的XY轴载物台10具有在直角方向重叠2个单轴载物台的结构。但是，该XY轴载物台10只要是可使基板相对于观察光学系统2和涂布机构部5作相对移动的载物台即可，而不限于图1所示的XY轴载物台10的结构。近年来，随着基板尺寸的大型化，往往采用可在X轴向和Y轴向分别独立移动的龙门型的XY轴载物台。
图2是表示图1所示的涂布机构部5所具有的涂布单元20构成的剖视图。图2中，涂布单元20包括底部开设有第1孔21a、将修正液22注入的容器21；开设有第2孔23a、将容器21密封的盖23；具有与第1及第2孔21a、23a大致相同的直径的涂布针24。
涂布针24的前端部24a贯通第2孔23a而浸渍在修正液22中。第1及第2孔21a、23a的直径虽比贯通它们的涂布针24的直径稍大但是微小的，故利用修正液22的表面张力和容器23的防水、防油性，修正液22几乎不会从第1孔21a中漏出。
形成在容器21上、将修正液22注入用的孔具有随着接近孔21a而其截面积变小的锥形状。因此，即使是较少的修正液22，也可浸渍涂布针24的前端部24a，是经济的。修正液22的量例如是20μl(微升)。修正液22有放不长的情况，要定期更换容器21。或者，对用完的容器21洗净后，可再利用。为了将容器21作成装拆的简单结构，制成容易用手抓住的简单的结构从而提高使用方便性。
涂布针24的基端部固定在涂布针固定板25上，涂布针固定板25固定在臂26的前端部26a上。涂布针固定板25例如用螺钉固定、磁铁的吸引力等方法固定在臂26上。臂26形成L字状，其基端部通过直线移动导向构件30而与支承台33结合。臂26利用直线移动导向构件30被支承成相对于支承台33可上下移动。
容器21固定在另一个臂28的前端部28a上。容器21被设置在臂28前端部28a上的定位部28b定位，例如，用螺钉固定、磁铁的吸引力等方法固定在臂28上。臂28形成L字状，其基端部通过直线移动导向构件29而与臂26结合。臂28利用直线移动导向构件29被支承成相对于臂26可上下移动。
各个直线移动导向构件29、30具有在轨道部和滑动部之间夹有滚动体(滚珠等)的滚动导向的结构，轨道部与滑动部成为依靠极轻的力就可自如地进行直线运动的线性导向件。为提高涂布精度，有时赋予较轻的加压。
臂26与28的上下方向的相对运动量由固定支承在臂26上的销27和设在臂28上的缺口孔28c限定。即，相对移动范围由于是销27可在缺口孔28c中移动的范围，故也可在直线移动导向构件29上不设置用于防脱的挡块。在直线移动导向构件30的上下设置有固定在支承台33上的挡块31、32，臂26的上下移动受到挡块31、31的限制。另外，下侧的挡块32兼作限制臂28动作范围的挡块。相对于臂26的臂28的上下方向的相对移动量，由挡块31、32、销27及缺口孔28c限定在比臂26的上下移动量小的范围内。
在支承台33的臂26、28的相反侧，设置有将输出轴34a朝下方的气缸34。在气缸34的输出轴34a前端水平固定着将销35a固定在前端的驱动板35，与输出轴34a成为一体并进行上下移动。销35a从下方与设置在臂26的基端部上的缺口部26b接触，并具有通过气缸34的输出轴34a的上下移动而使臂26上下移动的功能。
图2中，气缸34的输出轴34a处于上方(在本例子中使输出轴34a缩回的状态)，臂26位于上端，臂28处于悬吊在销27上的状态即缺口孔28c的上端与销27处于接触的状态。此时，涂布针24的前端部24a处于浸渍在放入容器21内的修正液22中的状态。如此，涂布单元20的前端部(涂布针24及容器21周围的部分)在上下方向构成得较薄，且由于将前端部配置在气缸34的下方，故也可将涂布单元20的前端部插入在观察光学系统2的物镜与基板之间。
图3表示用观察光学系统2的物镜40来观察基板41的缺陷部41a的状态。在离开物镜40的位置配置涂布单元20，等待修正指令。涂布单元20固定在未图示的副XYZ轴载物台上，可向纸面左右方向、前后方向、上下方向移动，副XYZ轴载物台例如固定在将观察光学系统2固定的Z轴载物台12上。根据场合，也可省略副Y轴载物台。
这里，当赋予涂布指令时，进行图4(A)～(D)所示的动作并进行涂布。首先如图4(A)所示，利用副X轴载物台和副Y轴载物台的动作将涂布单元20的前端部插入在物镜40与基板41的间隙中，缺陷部41a就被定位在涂布针24的正下方。
在物镜40的动作距离(从物镜40到焦点位置的距离)短、不能插入涂布单元20的场合，使未图示的转换器旋转，变更成动作距离长的物镜40。一般，低倍率的透镜的动作距离变长。例如，10倍的物镜40的动作距离约有30mm，若将涂布单元20的涂布部的高度设计得较低，就可容易地插入。
然后，使气缸34的输出轴34a向下方突出并使驱动板35下降。图4(B)表示输出轴34a下降途中过程，图4(C)表示输出轴34a到达最下端后的状态。
当气缸34的输出轴34a向下方突出时，由于固定在输出轴34a上的驱动板35及固定在驱动板35前端上的销35a也一起向下方移动，故由销35a支承的臂26也与其一起向下方移动。另外，在悬吊在固定于臂26的销27上的状态下，臂28也与其一起向下方移动，但开始期间，2个臂26、28的上下方向的相对位置没有变化。
如图4(B)所示，臂28的基端部的下端与挡块32抵接时，臂28的下降停止，然后，仅臂26下降。当仅仅臂26下降时，固定在臂26上的涂布针24的前端24a开始从设在容器21底面上的第1孔21a中突出，该突出如图4(C)所示，通过臂26的基端部的下端与挡块32抵接后停止。在该状态下，修正液22附着在涂布针24的前端部24a上，涂布准备结束。然后，如图4(D)所示，使用未图示的副Z轴载物台使涂布单元20整体下降，使涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触。由此，附着在涂布针24前端部24a上的修正液22被涂布在缺陷部41a上。
在涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触后，再使用副Z轴载物台使涂布单元20向下方移动0.5mm至1mm程度，而此时，涂布针24由于利用直线移动导向构件30而与臂26一起退避到上方，故涂布针24上不产生过分的力。
涂布后，向上方缩回气缸34的输出轴34a，回到原来的状态(图4(A))，结束一次涂布。在必须将修正液22再次涂布在缺陷部41a上的场合，只要反复进行该涂布动作即可。另外，缺陷部41a越大，所需的涂布动作次数也越多，但只要使涂布针24向上下移动，就可将修正液22重新附着在涂布针前端部24a上。
因此，在该实施形态1中，由于省略了以往那样的使涂布针在缺陷部与容器(墨水箱或涂膏箱)之间进行往复移动的工序，故可缩短缺陷修正所需的时间。
另外，除了孔21a、23a外修正液22进入封闭的容器21内，涂布针24处于以微小的间隙始终插入于容器21的盖23的孔23a中的状态，故修正液22直接与大气接触的面积小。因此，可防止修正液22的稀释液(溶剂)蒸发，可延长修正液22可使用的天数(更换周期)，减轻图形修正装置1的保养。
在涂布动作的待机状态中，由于将涂布针前端部24a浸渍在修正液22中，故可防止附着在涂布针前端部24a上的修正液22干燥，可省略涂布针前端部24a的洗净工序。
以往当将修正液22附着在涂布针前端部24a上后，涂布针前端部24a的修正液滞留部的下部因自重而处于鼓起的状态，故修正液滞留部向上方移动并待机直到涂布针前端面形成修正液22的薄层为止。但是，在本实施形态1中，当涂布针前端部24a从第1孔21a突出时，涂布针前端部24a的修正液滞留部向上方移动并处于在涂布针前端面形成修正液22的薄层的状态，故不需要有待机时间，或可缩短待机时间。
以往，预先准备前端部分的直径不同的多个涂布针，根据缺陷部的大小来选择涂布针进行使用。但是，本实施形态1的1次涂布动作所需的时间短，故用1根前端部分直径最小的涂布针24，通过调整涂布动作的次数即可。由此，装置的结构简单化。
以往的涂布单元与观察光学系统固定在水平方向分开的位置，故必须使基板偏心移动以使缺陷部从用观察光学系统来观察缺陷部的位置来到涂布单元的正下方，为观察修正液涂布后的状态，必须再使基板偏心移动，导致间歇时间的长时间化。但是，在本实施形态1中，由于可将容器21及涂布针24插入观察光学系统2的物镜40与基板41之间，故不需要对基板41进行偏心移动，可获得间歇时间的缩短化。
由于用1个驱动部(这里所示的例子是气缸34)使臂26、28进行上下移动即使涂布针24和容器21进行上下移动，故可将机构简单化。另外，只要控制一个驱动部即可，控制也是简单的。
在本实施形态1中，气缸34用作为驱动部，但例如也可使用单作用式的挤压型，即使将驱动气缸34的空气遮断，或切断气缸34的控制信号，也可保持涂布针24前端部24a浸渍在修正液22中的状态，涂布针24不会突出，在安全方面产生作用。
在本实施形态1中，由于设置了使放入修正液22后的容器21上下移动的机构，故在待机位置就可将容器21保持在上方，即使使涂布单元20整体接近基板41，也可充分留出容器21与基板41的距离。因此，为了在待机时即使修正液22从容器21漏出，也不使基板41因漏下的修正液22而被污染，如图5(A)所示，也可在基板41与容器21之间设置遮蔽板36。
遮蔽板36固定在未图示的副XYZ轴载物台中的副Z轴载物台上，与涂布单元20相同，利用副Z轴载物台而作上下移动。涂布时，首先如图5(B)所示，利用副XY轴载物台使涂布单元20的涂布针24向处于物镜40正下方的缺陷部41a的上方移动。此时，遮蔽板36不向X轴方向移动，故在容器21的下方无遮蔽板36，可进行涂布。
接着如图5(C)所示，使气缸34的输出轴34a下降并使容器21向下方移动，在作成将涂布针24的前端24a从容器21突出的状态后，利用副Z轴载物台使涂布单元20下降，将修正液22涂布在缺陷部41a上。此时，容器21随着气缸34的输出轴34a向下方突出，遮蔽板36也向下方移动，故涂布时基板41与遮蔽板36不会干涉。
在基板41是滤色器基板的场合，也可根据修正的颜色、R(红)、G(绿)、B(蓝)、BM(黑底显像管的黑)、有时根据各OC(保护层)设置涂布单元20，从而配置多个涂布单元20，与修正的颜色一致，选择涂布单元20进行修正。此时，由于与需修正的颜色一致地进行修正，故不需要洗净涂布针24。
(实施形态2)图6(A)是表示本发明实施形态2的图形修正装置的涂布机构部所具有的涂布单元50结构的剖视图。在图6(A)中，涂布单元50具有其底部开设有第1孔21a，将修正液22自如地容器21；开设有第2孔23a，将容器21密封的盖23；具有与第1及第2孔21a、23a大致相同直径的涂布针24。涂布针24的前端部贯通第2孔23a而浸渍在修正液22中。
图7是将涂布针24和容器21部分放大后的视图，是表示开设在容器21底部上的第1孔21a、开设在盖23上的第2孔23a、涂布针24的尺寸关系的视图。当将第1孔21a的直径设为Dd，将第2孔23a的直径设为Du，将涂布针24的直径设为D时，Dd和Du大于D，并处于Dd＞Du＞D的关系。该关系式在涂布针24无凹凸、在为直条式的场合成立。
另外，当将第1孔21a的直径Dd与涂布针24的直径D之差的一半(单侧间隙)设为Δd，将第2孔23a的直径Du与涂布针24的直径D之差的一半(单侧间隙)设为Δu时，处于Δd＞Δu的关系，将开设在容器21底部上的第1孔21a与涂布针4的间隙设定得大于开设在盖23上的第2孔23a与涂布针24的间隙。因此，可用第2孔23a与涂布针24确保容器21的姿势，此外，即使涂布针24处于与第2孔23a的内面接触的状态，涂布针24也不与第1孔21a的内面接触，故可抑制第1孔21a的磨损所造成的变形。从而附着在涂布针24前端部24a上的修正液22的液量不会产生变化，可进行稳定的涂布。
回到图6(A)，涂布针24的基端部固定支承在涂布针固定板55上。涂布针固定板55固定在直线移动导向构件56的滑动部56b上，直线移动导向构件56的轨道部56a固定在支承台59上。直线导向构件56具有将滚动体(滚珠等)夹在轨道部56a与滑动部56b之间的滚动导向的结构，轨道部56a与滑动部56b以极轻的力可作自如的直线运动，成为线性导向。为提高涂布精度，有时也赋予较轻的施压。
在直线移动导向构件56的上下端分别设置挡块57、58，防止滑动部56b从轨道部56a脱出。若直线移动导向构件56兼有挡块功能，则也可不要挡块57、58。
在支承台59上设置有使输出轴60a向上方的气缸60。在气缸60输出轴60a的前端水平固定有将销61a固定在前端上的驱动板61，与输出轴60a成为一体而进行上下移动。如图6(B)所示，销61a从设在涂布针固定板55上的缺口部55a下方接触，具有利用气缸60输出轴60a的上下移动而使涂布针固定板55向上下移动的功能。
容器21例如由聚丙烯树脂、氟树脂、聚缩醛树脂等树脂形成，在容器21的侧部设置突起部21b。在该突起部21b上将磁性体的销62固定成从突起部21b向上方突出。容器21也可通过注射成形制作，在该场合，也可在注射成形时一体成形销62。
另外，在固定直线移动导向构件56的支承台59的下端面固定有磁铁63。通过将固定在容器21上的销62的上端面吸附在磁铁63的下端面上，从而将容器21支承成以一个点悬吊在支承台59上的状态，并使涂布针24贯通开设在盖23上的第2孔23a时，由于其间隙Δu小，故容器21被保持在规定的位置。另外，通过将开设在容器21底部上的第1孔21a与涂布针24的间隙Δd设定得比Δu足够大，从而涂布针24不与第1孔21a接触地可进行上下移动。例如，设定为Δd＝200μm，Δu＝100μm。
若涂布针24插入于设在容器21的盖23上的第2孔23a中，则容器21的姿势受到涂布针24和第2孔23a的一定程度的约束，从而决定容器21的姿势，并保持该姿势。
由于开设在容器21底部上的第1孔21a与涂布针24不接触，故可防止发生粉尘，可抑制粉尘进入修正液22中。另外，容器21只是利用磁铁63与固定在容器21上的销62的吸力而被一个面支承，即使涂布针24与第2孔23a接触，对于容器21的固定方法也有调心性，故对涂布针24的影响很少。销62与磁铁63所接触的面基本是平的，且它们是3mm左右的直径。另外，将销62与磁铁63的接触面设定成，使第1孔21a的中心与第2孔23a的中心连接起来的基准线基本与涂布针24的中心线一致。
在将容器21安装在支承台59上的场合，如图8所示，在拿住从支承台59的下方向上注入修正液22后的容器21并将涂布针24的前端部24a插入第2孔23a后，若将销62吸附在磁铁63上，这容器21的安装结束。然后，也可试着使涂布针24上下移动并使其从第1孔21a中突出，熟悉容器21的位置。
通过作成这种结构，不使用工具，且用不着在意容器21的固定位置就可简单地装拆容器21。
如图9所示，也可将磁铁63固定在容器21的突起部21b上，将销62固定在支承台59的下端面上。
图10(A)～(D)表示使用图6所示的涂布单元50而对基板41所产生的缺陷部41a进行修正的工序。首先，如图10(A)所示，使涂布单元50与基板41相对移动以使缺陷部41a来到涂布单元50的涂布针24的正下方。
接着，如图10(B)所示，使气缸60的输出轴60a向下方(图中是缩回输出轴60a的方向)移动，并使与输出轴60a成为一体进行移动的驱动板61向下方移动。固定在驱动板61前端上的销61a从下方与设在涂布针固定板55上的缺口部55a接触，通过驱动板61的下降，涂布针固定板55就沿着直线移动导向构件56而向下方移动。与此同时涂布针24也向下方移动，涂布针24的前端部24a从开设在容器21底部上的第1孔21a突出。在该状态下，修正液22附着在涂布针24的前端部24a上，成为可涂布的状态。
然后，如图10(C)所示，用副Z轴载物台64使涂布单元50整体下降，使涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触。由此，涂布针24前端部24a的修正液22被涂布在缺陷部41a上。
涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触后，再利用副Z轴载物台64而使涂布单元50向下方移动0.5mm至1mm左右，此时，涂布针24由于沿直线移动导向构件56而退避到上方，故涂布针24不会受到过分的力。
涂布后，如图10(D)所示，使气缸60的输出轴60a向上方(图中是使输出轴60a突出的方向)移动，并将涂布针24的前端部24a返回到浸渍于容器21的修正液22中的状态，并使副Z轴载物台64向上方移动，将涂布单元50整体向上方移动。在再次进行涂布的场合，重复相同的工序。这里，利用副Z轴载物台64进行涂布单元50的下降，也可代替这种下降而利用搭载有观察光学系统2的Z轴载物台12来进行。
(实施形态3)图11(A)～(C)是表示本发明实施形态3的图形修正装置的涂布单元70结构及动作的剖视图，是与图4(A)～(D)对比的视图。在图11(A)～(C)中，该涂布单元70与实施形态1的涂布单元20不同点在于，臂28、26被臂71、72置换，增加了销62及磁铁63、73、74。
在支承台33的下端部的侧面固定有向水平方向延伸的臂71的基端。臂71和支承台33也可成形为一体，且将臂71作成支承台33的一部分。在臂71的前端部的下表面埋设固定有磁铁63，注入有修正液22的容器21通过固定在容器21上的销62被吸附在磁铁63上而被固定在臂71上。
在直线移动导向构件30的滑动部上固定有L字形的臂72的基端部。涂布针24的基端部固定在涂布针固定板25上，涂布针固定板25安装在臂72的前端部72a上。
臂72的前端部72a上表面和涂布针固定板25的下表面分别埋设固定有磁铁73、74，且它们配置成以互相不同的极性相对，并如图12所示，互相稍许错开以使磁铁73、74的位置不完全重叠。错开方向，是这些磁铁73、74的吸力与设在臂72的前端部72a上的二条边的定位部72b、72c接触的方向(箭头B)，涂布针固定板25与定位部72b、72c的二条边接触，且被吸引到臂72的前端部72a侧并被位置固定。通过气缸34输出轴34a的上下移动，涂布针固定板25借助臂72而可向上下移动，与此同时，涂布针24向上下移动。
如图13所示，涂布针24呈带有阶梯的形状，该阶梯包括涂布针24前端部24a侧的细轴24b和固定在涂布针固定板25上的一侧的粗轴24c，细轴24b在开设在容器21底部上的第1孔21a中沿上下进退，粗轴24c在开设在容器21的盖23上的第2孔23a中沿上下进退。
开设在容器21底面上的第1孔21a的直径Dd设定得大于涂布针24的细轴24b的直径D1，开设在容器21盖23上的第2孔23a的直径Du设定得大于涂布针24的粗轴24c的直径D2。
第1孔21a的直径Dd与涂布针24的细轴24b的直径D1之差的一半(单侧间隙)Δd设定得大于第2孔23a的直径Du与涂布针24的粗轴24c的直径D2之差的一半(单侧间隙)Δu。即，各孔的直径设定成Δd＞Δu的关系。例如，设定成Δd＝200mm，Δu＝100mm。
若作成带有阶梯的涂布针24，则容易进行将固定有盖23的容器21安装在涂布单元70上的作业。即，在将涂布针前端部24a插入第2孔23a时，由于第2孔23a的直径Du比涂布针前端部24a的直径D1足够大，故可容易地将涂布针前端部24a插入。另外，即使涂布针24的粗轴24c与第2孔23a的内周面接触，由于处于Δd＞Δu的关系，故可抑制涂布针24的细轴24b与第1孔21a的内周面接触。
容器21的内部底面具有随着接近孔21a而截面积变小的锥形状，即使是较少的修正液22也可浸渍涂布针24的前端部24a，是经济的。例如，修正液22的量是20μl(微升)。修正液22有时不能放很久，容器21要定期更换。或者，将用完的容器21洗净后，可再利用。由于容器21的装拆简单，故制成容易用手抓住的结构，提高使用方便性。
回到图11(A)说明涂布动作。涂布单元40利用未图示的副XYZ轴载物台而移动到物镜40与基板41的间隙内，缺陷部41a位于涂布针24的正下方，涂布针24的前端部24a处于浸渍在修正液22中的状态。
接着，如图11(B)所示，使气缸34的输出轴34a向下方突出并使驱动板35向下方移动时，利用与驱动板35成为一体而移动的销35a从下方支承的臂42也向下方移动，与此同时，涂布针24的前端部24a从设在容器21底部上的第1孔21a中突出。
然后，如图11(C)所示，通过用未图示的副Z轴载物台使涂布单元70整体下降，从而使涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触。涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触后，再用副Z轴载物台使涂布单元70向下方移动0.5mm至1mm左右，此时，涂布针24因直线移动导向构件30而与臂72一起退避到上方，故涂布针24不会受到过分的力。
涂布后，将气缸34的输出轴34a缩回上方而回到原来状态(图11(A))，结束一次涂布。在再进行涂布的场合，重复同样的涂布。
(实施形态4)图14是表示本发明实施形态4的图形修正装置的涂布单元80结构及动作的剖视图，是与图5(A)对比的视图。在图14中，该涂布单元80与实施形态1的涂布单元20不同点是，增加了销62及磁铁63、73、74。
在图14中，在臂28的前端部下表面埋设固定有磁铁63，注入修正液22后的容器21通过固定在容器21上的销62被吸附在磁铁63上，从而固定在臂28上。在臂26前端部26a的上表面和涂布针固定板25的下表面分别埋设固定有磁铁73、74，它们被配置成以不同的极性互相相对，且如图12所示，磁铁73与74的位置稍许错开以不完全重叠。因此，涂布针固定板25被吸引到臂26的前端部26a侧并被位置固定。
另外，图14表示用观察光学系统2的物镜40对基板41的缺陷部41a进行观察的状态。在该状态下，涂布单元80配置在离开物镜40的位置，等待修正指令。这里，当赋予涂布指令时，进行图15(A)～(D)的动作并进行涂布。首先如图15(A)所示，涂布单元80的涂布部因副XY轴载物台的动作而插入在物镜40与基板41的间隙中，缺陷部41a被定位成位于涂布针24的正下方。此时，遮蔽板36不向X轴向移动，故在容器21的下方无遮蔽板36，可进行涂布。
然后，使气缸34的输出轴34a向下方突出并使驱动板35下降。图15(B)表示输出轴34a向下方移动的途中过程，图15(C)表示输出轴34a到达最下端后的状态。
当气缸34的输出轴34a向下方突出时，固定在输出轴34a上的驱动板35及固定在驱动板35前端上的销35a也一起下降，故由销35a支承的臂26也与此同时下降。另外，臂28也以悬吊在固定于臂26的销27上的状态而与此同时向下方移动，但开始期间，臂26与28的上下方向的相对位置无变化。
接着，如图15(B)所示，臂28的基端部下端与挡块32抵接时，臂28的下降停止，然后，仅臂26下降。当仅臂26下降时，固定在臂26上的涂布针24的前端部24a开始从设在容器21底面上的第1孔21a中突出，该突出如图15(C)所示，通过臂26的基端部的下端与挡块32抵接而停止。在该状态下，在涂布针24的前端部24a上附着修正液22，涂布的准备结束。此时，容器21随着气缸34输出轴34a向下方突出而向遮蔽板36的下方移动，但涂布时，容器21与遮蔽板36不干涉。
然后，如图15(D)所示，用未图示的副Z轴载物台使涂布单元80整体下降，使涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触。在涂布针24的前端与基板41的缺陷部41a接触后，再用副Z轴载物台使涂布单元80向下方移动0.5mm至1mm左右，此时，涂布针24由于因直线移动导向构件30而与臂26一起退避到上方，故涂布针24不会受到过分的力。
涂布后，将气缸34的输出轴34a缩回上方并回到原来状态(图15(A))，结束一次涂布。在再进行涂布的场合，也同样重复进行涂布。涂布作业结束，则如图14所示，若操作涂布单元80离开物镜40的视野，则可通过物镜40观察涂布状态。
这次公开的实施形态在所有方面都只是例子，不构成限制。本发明的权利要求范围不是上述的说明而由权利要求书所表示，本发明包含与权利要求书均等的意思及范围内的所有的变更。
权利要求
1.一种涂布单元，是对形成在基板上的微小图形的缺陷部进行修正的图形修正装置的涂布单元，其特征在于，具有在底部开设有第1孔、注入修正液的容器；具有与所述第1孔大致相同的直径、将所述修正液涂布在所述缺陷部上用的涂布针；将所述容器及所述涂布针支承成可上下移动的第1直线移动导向构件；将所述容器及所述涂布针支承成可相对上下移动的第2直线移动导向构件；驱动部，该驱动部使所述容器及所述涂布针上下移动并使所述容器及所述涂布针相对上下移动，使所述涂布针前端部从所述第1孔突出而将所述修正液附着在所述前端部上。
2.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述驱动部的驱动轴只有1根。
3.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，所述驱动部在使所述容器及所述涂布针下降后仅使所述涂布针下降，并使所述涂布针的前端部从所述第1孔中突出。
4.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，具有盖、支承台和磁铁，所述盖固定在所述容器上并开设有与所述涂布针大致相同直径的第2孔，所述磁铁用于将所述容器安装在所述支承台上，所述容器利用所述磁铁和插入于所述第2孔中的所述涂布针而被支承在规定位置。
5.如权利要求4所述的涂布单元，其特征在于，所述磁铁固定在所述支承台上，所述涂布单元还具有固定在所述容器上并由磁性体材料形成的销，通过所述销的端面吸附在所述磁铁的端面上，所述容器被支承在所述支承台上。
6.如权利要求5所述的涂布单元，其特征在于，所述磁铁和所述销被配置成，当所述销的端面吸附在所述磁铁的端面上时，使连接所述第1孔的中心和所述第2孔的中心的基准线大致与所述涂布针的中心线一致。
7.如权利要求4所述的涂布单元，其特征在于，所述第1孔与贯通它的所述涂布针的间隙，大于所述第2孔与贯通它的所述涂布针的间隙。
8.如权利要求1所述的涂布单元，其特征在于，还具有支承台、第1臂、第2臂和移动范围限定机构，所述第1臂的前端部设置有所述涂布针，基端部通过所述第1直线移动导向构件而与所述支承台结合，且该第1臂设成相对于所述支承台可上下移动，所述第2臂的前端部设置有所述容器，基端部通过所述第2直线移动导向构件而与所述第1臂结合，且该第2臂设成相对于所述第1臂可相对上下移动，所述移动范围限定机构将所述第2臂的相对于所述第1臂的上下方向的相对移动量限定在比所述第1臂的上下移动量小的范围内，所述驱动部仅使所述第1臂的基端部上下移动，使所述容器及所述涂布针上下移动，并使所述容器及所述涂布针相对上下移动。
9.如权利要求8所述的涂布单元，其特征在于，所述第1及第2臂配置在所述支承台的一侧，所述驱动部配置在所述支承台的另一侧，所述容器设在比所述驱动部低的位置。
10.如权利要求8所述的涂布单元，其特征在于，具有固定在所述容器上并开设有与所述涂布针大致相同直径的第2孔的盖、以及将所述容器安装在所述第2臂上用的磁铁，所述容器利用所述磁铁和插入所述第2孔中的所述涂布针而被支承在规定位置。
11.一种图形修正装置，其特征在于，具有权利要求1至权利要求10中任一项所述的涂布单元。
12.如权利要求11所述的图形修正装置，其特征在于，还具有遮蔽板，该遮蔽板在所述涂布单元处于待机状态时被配置在所述容器底部的下方并承接从所述第1孔中漏出的所述修正液。
13.如权利要求12所述的图形修正装置，其特征在于，还具有移动构件，该移动构件在涂布动作时使所述涂布单元向水平方向移动并使所述容器离开所述遮蔽板，所述驱动部使离开所述遮蔽板后的所述容器底部下降到比所述遮蔽板低的位置。
14.如权利要求11所述的图形修正装置，其特征在于，具有将互相不同种类的修正液注入的多个涂布单元，将从所述多个涂布单元中根据所述缺陷部的种类所选择的涂布单元的修正液涂布在所述缺陷部上。
15.一种图形修正装置，用于对形成在基板上的微小图形的缺陷部进行修正，其特征在于，具有在底部开设孔并注入修正液的容器；涂布针，该涂布针具有与所述孔大致相同的直径并用于将所述修正液涂布在所述缺陷部上；直线移动导向构件，该直线移动导向构件将所述涂布针支承成可上下移动；驱动部，该驱动部使所述涂布针下降，使所述涂布针的前端部从所述孔中突出而将所述修正液附着在所述前端部上；遮蔽板，该遮蔽板设在所述容器底部的下方，承接从所述孔中漏出的修正液。
全文摘要
一种图形修正装置(1)，其涂布单元(20)具有底部开设有第1孔(21a)、注入修正液(22)的容器(21)；具有与第1孔(21a)大致相同直径的涂布针(24)；使容器(21)及涂布针(24)上下移动并使容器(21)及涂布针(24)相对上下移动从而使涂布针前端部(24a)从第1孔(21a)中突出将修正液(22)附着在前端部(24a)上的气缸(34)。因此，本发明的图形修正装置与必须在容器和缺陷部之间使涂布针往复移动的以往技术相比，可用简单的结构迅速修正缺陷部。
文档编号H01J11/36GK101047090SQ20071009171
公开日2007年10月3日 申请日期2007年3月29日 优先权日2006年3月30日
发明者松岛昌良, 山中昭浩, 小池孝誌 申请人:Ntn株式会社