等离子体显示面板及其制造方法

文档序号:2928417阅读:168来源:国知局
专利名称:等离子体显示面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及等离子体显示面板(PDP),更具体地说,涉及一种具有高 发光效率以及适于批量生产的改进结构的PDP及其制造方法。
背景技术
使用PDP的等离子体显示器为平板显示器。等离子体显示器由于具有 如下有利性质被认为是下一代大型平板显示器,例如,它特性好、结构薄、 重量小、视角宽,并且较之其它平板显示器,其制造方法更简单且屏幕尺寸 更大。通常,PDP根据其驱动电压的类型可^皮分类为直流(DC) PDP、交流 (AC) PDP和混合型PDP。 PDP根据其放电结构可被分类为反向放电PDP 和表面方文电PDP。在全球范围生产的PDP主要是三电极表面》文电PDP。由于三电极表面放电PDP可能使荧光减弱,可见光的透射率降低,发 光效率减小等等,因此当前正在研究具有新结构的PDP。图1是韩国未审专利公开No. 2005-0104003中公开的PDP的局部分解 透视图。该PDP包括前基板10和后基板20,它们间隔预定距离并且彼此面 对。多个前障肋31和后障肋24;(皮此垂直地_没置,并位于前基纟反10和后基 板20之间,从而隔开放电空间S。彼此上下间隔的多个第一》文电电极35和 第二放电电极45掩埋在前障肋31中,以便在放电空间S中产生显示放电。
前障肋31掩埋第一放电电极35和第二放电电极45,以便防止第一》文电电 极35和第二放电电极45由于离子轰击而受损,并且为显示放电提供有利的 环境,而且这些前障肋31由介电物质形成。荧光层25设置在由后障肋24 所分开的区域中。在后基板20上设置多个寻址电极22,它们横跨放电空间 S而延伸。介电层21设置在后基板20和后障肋24之间,以用于4务埋寻址 电极22。在上述PDP中,由于通过隔开放电空间S的侧壁产生放电,因此设置 在后基板20上的荧光层25几乎不会受到离子轰击的损害。前基板10不采 用不透明的电极元件,因此增强了可见光的透射率。放电通过》文电空间S的 所有侧壁来产生。等离子体可聚集在每个放电空间S的中部,从而极大地增 强了紫外线。不过,由于第一i文电电极35和第二^:电电极45掩埋在前障肋31中, 因此上述PDP不易于使用传统制造方法来批量生产。由此,这种PDP由于 其制造问题而通常不被使用。发明内容在本发明中,提供了一种具有高发光效率以及适于批量生产的改进结构 的PDP及其制造方法。才艮据本发明的一方面, 一种PDP包括彼此隔开的前基4反和后基板。多 个电极片堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于形成多个放电空间的孔。 所述电极片包括多个放电电极,其延伸从而围绕直线排列的每一个放电空 间的至少一部分,并彼此分开。绝缘构件位于所述放电电极之间,并且由与 所述放电电极相同的金属的氧化物材料形成,以便支撑和绝缘所述放电电 极。根据本发明的另一方面, 一种PDP包括彼此隔开的前基板和后基板。 第一电极片和第二电极片堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于形成多个 放电空间的孔。第一电极片包括多个第一放电电极,其延伸从而围绕沿第 一方向排列的每一个放电空间的至少一部分,并彼此分开。绝缘层与第一放 电电极一体形成,从而在它们之间形成竖直台阶,并且绝缘层由与所述第一 放电电极相同的金属的氧化物材料制成,从而支撑和绝缘所述第 一放电电极。第二电极片包括多个第二放电电极,其延伸从而围绕沿第二方向排列 的每一个放电空间的至少一部分,并彼此分开。绝缘层与第二》文电电极一体 形成,乂人而在它们之间形成竖直台阶,并且绝纟彖层由与所述第二》文电电^l相 同的金属的氧化物材料制成,从而支撑和绝缘第二放电电极。根据本发明的另一方面, 一种PDP包括彼此隔开的前基板和后基板。 第 一电极片和第二电极片堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于形成多个 放电空间的孔。第一电极片包括多个第一放电电极,其具有将成直线排列 的放电空间围绕的放电部分以及将所述放电部分电连接的电连接部分;和与 相邻的第一放电电极一体形成的一或多个桥,其以比所述电连4妄部分小的宽 度延伸,以便支撑和绝缘第一放电电极。第二电极片包括多个第二放电电 极,其具有将成直线排列的放电空间围绕的放电部分以及将所述放电部分电连接的电连接部分;和与相邻的第二放电电极一体形成的一或多个桥,其以 比所述电连接部分小的宽度延伸,以便支撑和绝缘第二放电电极。根据本发明的又一方面,提供了如下一种PDP的制造方法,该PDP具 有多个放电电极和设置成阵列的多个放电空间,所述多个放电电极围绕》文电 空间延伸并彼此分开。制备金属片的原料。将放电电极覆盖于金属片 一侧上, 形成第一光致抗蚀剂(PR)掩膜。将放电电极覆盖于金属片的另一侧上, 形成第二 PR掩膜。金属片的经第一 PR掩膜曝光的一侧被选择性地首先蚀 刻。金属片的经第二PR掩膜曝光的另一侧接下来被选择性地蚀刻。将第一 PR掩膜和第二PR掩膜从金属片剥落。将金属片进行阳极电镀,以便将放电 电极的外表面以及放电电极之间的区域绝缘。通过重复上述操作制备两个或 更多金属片。将金属片彼此面对地层叠。将金属片竖直排列。使用熔接密封 剂,将前基板和后基板结合,使之彼此面对,同时金属片置于两者之间。


图1是传统PDP的局部分解透视图;图2是根据本发明实施例的PDP的分解透视图;图3A是沿图2的线III - III截取的局部剖视图;图3B是沿图2的线III, - III,截取的局部剖视图;图4是图2所示的放电电极的放大透视图;图5是图2所示的电极片的改造结构的俯视图;图6A是根据图3A所示的改造示例的PDP的局部剖视图;图6B是根据图3B所示的改造示例的PDP的局部剖视图;图7A - 7H是图示根据本发明实施例的电极片制造方法的局部剖视图;图8是根据本发明另 一实施例的PDP的分解透视图;图9A是沿图8中标出的线IX-IX截取的局部剖视图;图9B是沿图8中标出的线IX,-IX,截取的局部剖视图;图10是图8所示的电极片的一部分的放大透视图;和图11是图8所示的电极片的俯视图。
具体实施方式
现在参照图2、图3A、图3B和图4,PDP包括前基板110和后基板120, 它们4皮此隔开预定的间隙。第一电极片130和第二电极片14(M皮此面对地插 置于基板IIO、 120之间,并形成多个放电空间S,。前基板110为图像显示 表面,其上可实现预定图像。为此,前基板IIO可以是由具有良好透光性的 玻璃制成的玻璃基板。通过在原料金属片中形成具有预定图样的放电电极135、 145,并将一 部分金属片通过氧化来绝缘,形成相应的具有一体结构的第一电极片130和 第二电极片140。下文中将更为详细地描述第一电极片130和第二电极片140 的结构。多个放电空间S,形成在第一电极片130中,并排列成矩阵图样。在此, 在放电空间s,所代表的空间中,形成用于引发显示放电的预定电场,并且充 入由于放电而可被激发的放电气体。在本发明的实施例中,第一电极片130 和第二电极片140沿竖直方向彼此面对,并一起形成放电空间S,。因此,在 第一电极片130和第二电极片140中相应形成的上空间和下空间成为》丈电空 间S,的对应部分。贯穿本说明书,为了便于描述,在片130、 140的每一个 中形成的上空间或下空间均称为放电空间S'。不过,严格地说,在片130、 140的每一个中形成的空间仅构成放电空间S,的一部分。由于在第一电极片130和第二电极片140中形成圆形开口图样,因此每 个放电空间S,均具有圆柱形形状。作为圆形开口图样的替代方案,如果在电 极片130、 140中的每一个中均形成多边形图样,那么每个放电空间S,可形 成为多面体结构,例如六面体结构。每个放电空间S,也可形成为充入》文电气 体的任意结构,而不限于特定形状。第一电极片130包括多个第一放电电极135,它们围绕直线排列的放电 空间S,并沿一个方向(x方向)延伸。每个第一》丈电电极135均包括放电 部分135a,其围绕放电空间S,并产生放电;和电连接部分135b,其用于电 连接放电部分135a并将驱动功率供给到相邻》文电部分135a。因为》丈电部分 135a根据其形状将放电空间S,限定为相应形状,因此,可以适当地改变放 电部分135a的形状,从而根据具体实施例形成具有不同形状的放电空间S,。图2、图3A、图3B和图4所示的第一;^文电电极135完全围绕;改电空间 S,的侧面。举例而言,为了限制》文电电流,第一放电电极135可仅^义围绕放 电空间S,的一部分。在这种情况下,放电电极135的形状可以是部分开口的。 如同电极片130的除了》文电电极135之外的其它区域,开口部分可由用于与 放电电极135形成竖直阶差(vertical step difference)的绝缘层131形成。当驱动电压经与外部电源相连的一端施加到;故电电极135时,则在放电 部分135a所围绕的放电空间S,中形成用于放电点火的预定电场。;改电电极 135可由具有良好导电性的诸如铝的金属材料制成,从而使得由电阻引起的 阻抗损失最小。
在第一放电电极135的外表面上,通过诸如阳极电镀的氧化处理形成具有预定厚度To的氧化膜135t。氧化膜135t所围绕的放电电极135的较大部 分作为核心部分135c,其未被氧化并保持电导通。第一放电电才及135可利用 氧化膜135t与外部环境电绝缘。例如,当使用铝(Al)形成;^丈电电极时, 氧化膜135t可由绝缘的氧化铝(A1203 )形成。在与放电空间S,接触的表面 上形成的氧化膜135用作保护层,以防止放电过程中与放电粒子碰撞而引发 的电极受损,该氧化膜还用作传统的介电层,以掩埋放电电极并为放电的产 生创建有利条件。考虑到耐压特性,用于保护放电电极135的氧化膜135t 可形成足够的厚度。可通过控制工艺条件,例如施加电压、电解液的选择以 及进行氧化过程的时间,来优化氧化膜135t的厚度TQ。第一放电电极135 的表面涂覆有氧化膜135t,以便防止与设于第一放电电极135下方的第二放 电电极145产生电短路。在第一放电电极135之间形成有与其一体形成的绝缘层131。第一;^L电 电极135采用绝缘层131彼此支撑,并且可防止电极片130出现弯曲变形或 类似情况,这样就可以更加便于在生产过程期间进行处理。如图所示,绝缘 层131构成了电极片130的除放电电极135之外的所有区域。由于在表面上 执行氧化的阳极电镀工艺的特性,在绝缘层131的一部分中可形成开口,从 而促进氧化处理。在这种情况下,在开放和暴露的表面上也可进行氧化。绝缘层131支撑第一放电电极135,并将第一放电电极135相互电绝缘。 为此,绝缘层131形成为电绝缘层,并可由金属氧化物形成,在与形成第一 放电电极135过程中所使用材料相同的金属材料上执行氧化过程就可获得 该金属氧化物。例如,当通过对形成电极图样的铝片进行阳极电镀而将对应 于绝缘层131的部分绝缘时,绝缘层131可由铝(Al)的氧化物即氧化铝 (A1203 )形成。绝缘层131可形成相对较小的厚度Ti,同时与第一放电电极135形成竖 直阶差。例如,绝缘层131可形成较小厚度Ti,同时与第一》文电电极135沿 竖直方向形成阶差山、d2。绝缘层131的厚度Ti可根据阳极电镀的具体工艺
来形成。虽然氧化过程是从绝缘层131表面到其内部经阳极电镀而进行的, 不过绝缘层131可形成较小厚度,使得绝缘层131的对应部分被完全氧化。 当绝缘层131的厚度Ti较大时,绝缘层131的内部未被氧化却保持电导通。 这样,绝缘层131将第一放电电极135短路。因此,绝缘层131需要形成包 含一定工艺余量的足够小厚度。为了形成具有不同厚度的第一放电电极135 和绝缘层131,绝缘层131的两侧部分在作为原料的铝片中被蚀刻,从而形 成带有第一放电电极135的双侧台阶结构。在这种情况下,当在绝缘层131 的一侧和另一侧上同等地设计绝缘层131和》欠电电极135之间的阶差山、d2 时,可以对称地执行双侧蚀刻,并且不需要将绝缘层131的两侧彼此区别开, 从而更加简化了生产过程。放电电极135和绝缘层131之间的竖直阶差山、(12被设计成具有不同厚 度,从而使暴露于相同氧化环境的第一放电电极135保持导通,并且绝缘层 131—直被完全绝缘。不过,在绝缘层131的上部分和下部分中附带形成的 台阶空间g可作为针对诸如惰性气体的气体和放电气体的出口和入口,其 中,排放放电空间S,的惰性气体并充入放电气体。由此,可缩短排放-密封 处理时间,并可保持放电气体的高纯度,而不存在驻留在放电空间S,中的残 留惰性气体,从而使台阶空间g有助于放电稳定性。与第一电极片130面对的第二电极片140设置在第一电极片130的下 侧。第二电极片140可与上述的第一电极片130类似地形成。更具体地i兌, 在第二电极片140中以预定排布形成多个放电空间S,。多个第二放电电极 145围绕放电空间S,并沿一个方向延伸而形成。每个第二放电电极145均包 括围绕放电空间S,的放电部分145a以及电连接放电部分145a的电连接部 分145b。第二放电电极145沿着y方向延伸,其与沿着x方向延伸的第一 放电电极135相交叉。这是因为,在无源矩阵(PM)寻址过程中, 一个放 电电极用作寻址电极,而另一放电电极用作扫描电极,从而可以执行对将发 生显示放电的放电空间进行选择的操作。例如,第一放电电极135可以作为 扫描电极而被驱动,第二放电电极145可以作为寻址电极而被驱动。本发明
的技术范围不限于上述电极结构,并且本发明的技术要旨也可以用于包括另 外的寻址电极的电极结构,所述另外寻址电极被排列成使得第一放电电极135和第二放电电极145彼此平行地延伸,并且所述另外寻址电极沿着与放 电电极135、 145交叉的方向延伸。在这种情况下,放电电极135、 145中的一个放电电极用作扫描电极,并可以与寻址电极一起引起寻址放电,以便选 捧》史电空间。第二放电电极145被用于形成它们之间区域的绝缘层141所支撑和绝 缘,并且绝缘层141形成较小厚度Ti,,同时与第二放电电极145—起形成 阶差dr、 d2,。更具体地说,绝缘层141可形成薄膜的厚度Ti,,同时沿着第 二放电电极145的上下两端的两个方向形成阶差山,、d2,。第一电极片130 和第二电极片140可以被插置于它们之间的非导电介质粘合层165彼此面对 地结合。与前基板110面对的后基板120可以是主要由玻璃制成的玻璃基板,这 类似于前基板110。在后基板120的内表面上与放电空间S,对应的位置处形 成多个槽120,,并且在后基板120的内表面中沿着槽120,设置荧光层125。 槽120,的形成将荧光层125所处区域分隔开并增大了该区域面积。荧光层 125被设置成不同颜色,从而实现全色显示。例如,当采用光的三原色实现 彩色图像时,红、绿和蓝荧光层125被交替地设置在槽120,中。在每个放电 空间S,中,红、绿和蓝单色光根据荧光层125的类型被发出并被组合,从而 形成一种彩色图像。第一放电电极135和第二放电电极145 —起引起放电空间S,的显示放 电。例如,AC电压可施加到第一放电电极135和第二放电电极145,从而 导致放电。其结果是,充入放电空间S,中的放电气体被激发,并产生紫外线。 紫外线经荧光层125被改变成用户可以感知到的可见光线,并且该可见光线 经前基板110发出,从而可以形成预定图像。图5示出了可用在图2的PDP的改造示例中的电极片的平面结构。电 极片150对应于图2所示的第一电极片130或者第二电极片140。电极片150 包括沿着一个方向以预定间隔排布的多个放电电极155,以及形成放电电极 155之间区域的绝缘层151。每个放电电极155包括多个放电部分155a,它 们围绕放电空间S,并沿着纵向连续排列。也就是说,所述电极片结构与上述 电极结构的不同之处在于,相邻的放电部分155a彼此部分地重叠,并且彼 此直接相连而不需要额外的电连接部分。图6A和6B图示了图5所示的改造示例的局部剖面结构。为便于参照, 执行功能与上文所述元件相同的类似元件具有相同的附图标记。PDP包括前 基板110和后基板120,并且第一电极片130,和第二电极片140,位于彼此面 对的基板110、 120之间。在第一和第二电极片130,、 140,中形成放电电极 135,、 145,,它们限定放电空间S,并引起放电空间中的显示放电,并且在放 电电极135'、 145,之间形成绝缘层131,、 141,。绝缘层131'、 141,形成的厚 度小于放电电极135,、 145,的厚度,从而使绝缘层131,、 141,的整个厚度 Ti"、 Ti",都可被氧化。具体而言,在本实施例中,绝缘层131,、 141,沿着 厚度方向与放电电极135,、 145,的一侧形成阶差d3"、 d3",,并形成与》文电 电才及135,、 145,的另一侧相同高度的平坦侧。图5所示的实施例不同于图4 所示的由绝缘层131、 141与放电电极135、 145的两侧一起形成阶差山、d2 这样的结构。为了使绝缘层131、 141形成相同厚度Ti"、 IT",本实施例的阶差d3"、 d3",可被设计为是图3所示的阶差di或d2的两倍。现在将参照图7A-图7H描述图6A和6B所示的电极片的制造方法。 如图7A所示,制备形成第一电极片所用的原料即金属片。例如,可以 制备铝片130",其具有良好的导电性,并且由于与氧气具有高化学结合力, 还具有良好的氧化度。如图7B所示,将第一和第二光致抗蚀剂P。 P2用在 铝片130"的上下两侧。光致抗蚀剂P1、 P2可由光敏树脂制成,该光敏树脂 在其暴露于诸如UV的射线中时通过化学反应被固化。如图7C所示,通过执行如下曝光过程,即使用曝光掩膜Ml将UV光 选择性地辐射到上方的第一光致抗蚀剂Pi上,并接着执行显影过程,形成 其中形成有预定图样的第一PR掩膜PRh第一PR掩膜P&具有对应于放电
电极部分W1的图样,并覆盖对应部分W1。如图7D所示,如同上述过程 中的情况,通过执行如下曝光过程,即使用曝光掩膜M2将UV光选择性地 辐射到下方的第二光致抗蚀剂P2上,并接着执行显影过程,形成其中形成 有预定图样的第二 PR掩膜PR2。第二 PR掩膜PR2具有对应于放电电极部分 Wl以及放电电才及部分Wl之间的部分W2的图样,并^隻盖对应部分Wl、 W2。分别形成于铝片130,,的上下两侧的第一 PR掩膜PR!和第二 PR掩膜 PR2可沿竖直方向对准。接着在蚀刻过程中,铝片130"的两侧利用第一 PR 掩膜PA和第二 PR掩膜PR2来蚀刻,由此形成放电空间S ,和放电电极13 5 "。 这是因为,当第一 PR掩膜和第二 PR掩膜PR2没有对准并出现交错时, 放电空间S,或放电电^ l 135"沿竖直和水平方向彼此交叉,因此PDP的显示 功能减弱。如图7E和图7F所示,通过将第一PR掩膜PR!用作蚀刻防护层,在铝 片130,,的上侧执行蚀刻。放电空间部分W3以及放电电极部分Wl之间的 部分W2通过上侧蚀刻而被选择性地蚀刻。放电电极部分Wl之间的部分 W2被半蚀刻并且与》文电电极部分Wl形成竖直阶差。进一步,如图7E和图7F所示,通过将第二PR掩膜PR2用作蚀刻防护 层,在铝片130"的下侧上执^f亍蚀刻。》文电空间部分W3通过下侧蚀刻而#皮 选择性地蚀刻。在这种情况下,执行下侧蚀刻直至完全穿透;j文电空间部分 W3之时,并且通过全蚀刻,即在铝片130,,的上下两侧上均执行蚀刻,获得 具有最终形状的放电空间S,。接着,移除第一PR掩膜PR!和第二PR掩膜PR2,从而获得如图7G所 示的电极片130"。在蚀刻过程之后获得的部分135"成为放电电极135", 并且剩余部分131"成为^L电电极135,之间的绝缘层。然后,如图7H所示,执行阳极电镀过程,从而为形成氧化膜在电极片 130,,上执行氧化处理。在阳极电镀过程中,使用铝片(即,电极片130") 作为阳极(+ ),并且使用作为催化剂的Pt、 Ni或碳材料作为阴极(-), 在诸如H2S04的酸性电解质溶液中施加DC电压,并且通过电化学反应,氧化过程从铝片130,,表面持续至其内部,从而形成氧化膜135t,。可以通过调 节阳极电镀过程的具体工艺条件(例如,电解质溶液的种类,过程时间, DC电压的强度,等等),来优化控制在每个氧化膜135t,中氧气所渗入的厚 度To,。举例而言,厚度To,可被调节成在1 - 50 n m之内。形成在电极片130" 表面上的氧化膜135t,,采用氧化铝Al203形成,从而使电极片的氧化部分成 为具有绝缘性能的陶瓷材料。在此,由于放电电极135,之间的部分具有相对 较小的厚度,因此该部分被完全氧化并被绝缘,从而用作绝缘层131,,以便 支撑和绝缘放电电极135,。通过重复上述过程,可获得具有相同结构的多个电极片。然后,如图2 所示,将电极片130、 140设置在上方和下方,使得电极片130、 140具有对 称结构,并且采用绝缘粘合剂以使它们彼此面对的方式相连接。即使在电^L 片130、 140不采用绝缘粘合剂直接相连的情况下,通过前基板110和后基 板120之间的粘合力也可以保持电极片130、 140的堆叠结构,下文中将对 此进行描述。也就是说,可以省去绝缘粘合剂。接着制备前基板110和后基板120,将它们设置在电极片130、 140的 上方和下方。前基板110和后基板120可以是以玻璃作为主要成分的玻璃基 板。然后,在后基板120中以均匀的间隔形成多个槽120,。在槽120,中设置 荧光层125。在此,槽120,所形成的均匀间隔对应于放电空间S,,其中每个 ;故电空间均;故限定于电极片结构之间。最后,前基板IIO和后基板12(M皮此 面对地竖直排列,从而使电极片130、 140位于前基板110和后基板120之 间。然后,通过沿着前基板110和后基板120的边缘釆用熔接密封剂,前基 板IIO连接到后基板120。当制造PDP时,为了减小放电电极135,之间的部分W2的厚度(见图 7F),可以采用半蚀刻方法,即半蚀刻层的一个表面,而不蚀刻该层的另一 表面(见图6A和图7F)。为了制造如图3A所示的电极片130,可采用蚀 刻层两侧的双侧蚀刻方法。参照图3A和图7F,根据双侧蚀刻方法,蚀刻放 电电极135之间的部分W2的两个表面,从而形成台阶高度山、d2。在双侧 蚀刻方法中,在放电空间部分W3上执行深蚀刻,从而完全移除》文电空间部 分W3,并在放电电极135,之间的部分W2上执行浅蚀刻,从而移除部分 W2的上部,并且在部分W2和放电电极135之间形成竖直台阶高度山、d2。 采用这种方式,可以获得如图3A所示的电极片130。在传统的三电极表面放电结构中,由于放电电极被支撑于基板上,可以 通过将介电粘合剂布设于基板,容易地形成介电层以覆盖放电电极。不过, 如图l所示,在放电电极35、 45被竖直设置并且围绕放电空间S这种结构 中,采用众所周知的传统方式形成介电层31以便覆盖放电电极35、 45,这 增大了制造工艺数量或者需要的设备较为昂贵,从而导致制造成本增大。为 了解决这一问题,需要一种新的制造方法。根据本发明的实施例,通过氧化具有放电电极图样的电极片130并在放 电电极表面上形成氧化膜135t来替代传统的介电层,可以实现适于自动控 制的筒单制造方法。具体而言,由于各个放电电极135的厚度不同于各个绝 缘层131的厚度,通过将相同的氧化条件应用于所有电极片130而并不为选 择性氧化进行单独图案化,保持了放电电极135的导电性,并且通过氧化将 绝缘层131绝缘。由此,可以使制造工艺的数量最小化。图8是根据本发明另一实施例的PDP的分解透视图。图9A是沿着图8 中标注出的线IX-IX截取的局部剖视图。图9B是沿着图8中标注出的线 IX'-IX,截取的局部剖视图。另外,图10是图8所示的电极片的一部分的 放大透视图。图ll是图IO的电极片的俯视图,其中,方形图的左上部分示 出了电极片230的俯^L图,而方形图的右下部分示出了电极片240的俯^L图。参照图8, PDP包括前基板210、与前基板210面对的后基板220、以 及第一电极片230和与第一电极片230面对的第二电极片240,其中,第一 和第二电极片230、 240位于前基板210和后基板220之间并且形成》文电空 间S,,。通过在原料金属片中以预定图样形成放电电极235、245,形成桥231、 241用于将^t电电极235、 245彼此连接,并经氧化而将桥231、 241绝缘, 来形成相应的具有一体结构的第一和第二电极片230、 240。考虑到由于放 电电极自身所带电阻而导致的能量损失,作为原料的每个金属片可为铝片, 其具有高导电性,并且可以通过进行氧化处理而相对容易地^C绝缘。更详细地说,第一电极片230包括多个第一放电电极235,它们沿着x 方向延伸并且围绕排成一行的放电空间S"。第一放电电极235包括围绕》丈 电空间S"的放电部分235a以及将放电部分235a互相电连接的电连接部分 235b。放电部分235a围绕放电空间S,,并限定了独立发光区域。另外,放电 部分235a与不同的力欠电部分245a —起成对地在相应的方文电空间S"中产生 显示放电。附图中图示的放电部分235a具有方形链式形状。如果放电部分 235a的拐角成一角度,则电场可能会集中在拐角部分,因此覆盖放电部分 235a的氧化膜235t可能受到损害。出于此原因,在一个示范性实施例中, 放电部分235a的拐角部分是圆角。每个放电部分235a的形状可为多边形链 式形状、圆形环状形状、椭圆形环状形状等等。不过,本发明不限于此。根 据放电部分235a的拐角部分的形状,由放电部分235a限定的放电空间S将 具有相应的形状。电连接部分235b沿x方向将彼此隔开预定间隔的》文电部分235a电连 接,从而允许沿x方向排列的放电部分235a接收同样的驱动信号,进而形 成放电电极235。为了使电连接部分235b电导通,电连接部分235b形成足 够大的宽度W30。如果电连接部分235b具有较大的宽度W30,则当第一电 极片230的一些部分通过阳极电镀等等而^皮绝缘时,电连接部分235b的表 面丧失导电性,不过电连接部分235b的内核心部分由于未被氧化而将仍然 保持导电性。也就是说,考虑到阳极电镀的工艺条件,每个电连接部分235b 形成足够大的宽度W30,从而使电连接部分235b具有如下的核心部分235c, 即氧气不能沿着宽度方向穿入核心部分235c,并且在核心部分235c中保持 导电性直至所有工艺结束。在这种情况下,考虑到驱动效率,具有导电性的 核心部分235c将具有足够的横截面积。在完成氧化过程之后,氧化膜235t 在第一放电电极235的表面上形成预定的厚度To"。在第一^L电电极235的 围绕放电空间S"(也称为放电单元S")的表面上形成的氧化膜235t,用于
保护第一放电电极235,使其免受由于放电而产生的离子碰撞。竖直排布的 第一放电电极235和第二放电电极245可被氧化膜235t电绝缘。相邻的第一放电电极235被它们之间的桥231结构性地支撑。桥231将 相邻的放电电极235彼此连接,进而防止第一电极片230摇摆或扭曲。桥 231的延伸方向与沿着x方向延伸的放电电极235交叉。举例而言,桥231 沿着与放电电极235交叉的y方向延伸。多个桥231可以以预定间隔平行地 形成,以便用作第一电极片230所需的支撑强度。桥231由绝缘氧化物材料制成,以便将相邻的第一放电电极235绝缘, 并防止传送不同驱动信号所经过的第一^L电电极235彼此电断^"。由此,围 绕放电空间S,,的放电部分235a在x方向上被电连接部分235b彼此电连接, 并且在y方向上被桥231彼此电断路。如上文所述,每个桥231可形成于相 邻的第一放电部分235a之间。如果桥231被用在相邻的第一放电电极235 之间进行绝缘和支撑,则桥231可形成在电连接部分235b之间。在示范性实施例中,由于氧化处理从表面开始进行,桥231的宽度WIO、 W20足够小而使得氧化过程沿着宽度方向朝向桥231内部进行,从而将整个 桥231完全绝缘。其结果是,在相同的氧化条件下,电连接部分235b将具 有保持导电性的核心区域235c,同时桥231由于氧化处理而^^完全绝^^。因 此,每个导电部分的宽度W30和桥的宽度W10、 W20将满足如下关系W30> W10 W30 > W20另外,由于氧化过程从暴露于电解质溶液的外表面开始进行,因此,相 对同样体积而具有较大表面积的物质易于被氧化。这样,每个导电部分235b 的每单位体积的表面积Sv3与每个桥231的每单位体积的表面积Svl之间满 足如下关系Sv3 > Svl在图IO所示的实施例中,由于一对桥231平行地形成且同时彼此分开, 因此桥231的横向部分可以经桥231之间的开口部分净皮氧化。也就是i兌,通
过形成宽度较小的多个桥231而不是形成宽度较大的单个桥,可以扩大桥 231的总表面积,并便于氧化桥231。如果桥231的总宽度等于单个桥的宽 度,那么电极片230的支撑强度在这两种情况下均可以同等效果地保持。与第一电极片230垂直排布的第二电极片240基本上具有与第一电极片 230相同的结构。也就是说,在第二电极片240中形成多个放电空间S", 并且多个第二放电电极245沿着一个方向延伸并同时围绕放电空间S"。第 二放电电极245可以沿着与第一放电电极235交叉的方向(例如,沿着与第 一放电电极235交叉的y方向)延伸。第二放电电极245包括放电部分 245a,其隔开放电空间S,,并直接参与放电;和电连接部分245b,其沿着y 方向将放电部分245a彼此电连接。可通过彼此交叉排列的第 一》文电电才及235 和第二放电电极245,来选择其中将发生显示放电的放电空间S"。第二放 电电极245被形成于它们之间的多个桥241彼此结构性地支撑,并彼此间电 断路。桥241可沿着x方向在放电部分245a之间延伸。围绕》文电空间S,, 的放电部分245a在y方向被电连接部分245b彼此电连接,并在x方向上被 桥241彼此间电断路。前基板210和后基板220可为由玻璃材料制成的玻璃基板。参照图8, 在后基板220中可以以预定间隔形成多个槽220,,以对应放电空间S"。在 槽220,中可设置荧光层225。虽然图中未示出,不过荧光层225可设置在前 基板210上以及后基板220上。为了在前基板210上形成荧光层225,在前 基板210上可形成多个槽,以便限定其中形成荧光层225的区域。在这种情 况下,通过形成对应于所有;^文电空间S,,的荧光层,可以防止;^文电所产生的 紫外光经前基板210逃逸到外部,进而改进了 PDP的紫外可见光转化效率 以及驱动效率。在图10中,第一放电电极235和第二放电电极245以使彼此交叉的方 式延伸。不过,第一放电电极235和第二放电电极245可以平行延伸。在示 范性实施例中,在前基板210和后基板220上可以另外设置的寻址电极(未 示出),使得其沿着与第一放电电极235和第二放电电极245交叉的方向延伸。可以通过类似于图7A-图7H所示的过程来制造图8所示的PDP。在 图7A-图7H所示的过程中,采用半蚀刻来形成相对绝缘层W2的台阶高度。 不过,为了制造根据本发明实施例的PDP,仅采用双侧蚀刻来形成相对于原 始物质两侧的相同的放电电极和相同的桥图样。进一步,设置在前基板210和后基板220之间并隔开放电空间S,,的电 极片230、 240,其数量不限于上文所述的实施例。另外,本发明的4支术概 念可以以相同方式应用于包括任意数量的电极片在内的结构,以便确保足够 的放电空间。如上文所述,根据本发明,通过氧化带放电电极图样的金属片并形成氧 化膜来替代放电电极的表面上的介电层,不需要用于形成介电层的附加工 艺。具体而言,通过提供一种具有围绕放电空间的电极结构并适于批量生产 的新型显示面板,可以消除传统显示面板制造方面的限制,并便于高效显示 面板的使用。另外,当相同的氧化条件应用于整个金属片区域而不执行用于选择性氧 化的单独图案化时,通过以厚度、宽度等等来区分要求导电性的电极部分和 要求绝缘的绝缘部分,以使电极部分保持导电而绝缘部分被绝缘,可以使制 造工艺的数量最小化。虽然本发明已经参照其示范性实施例得到具体显示和描述,不过本领域 的普通技术人员可以理解的是,在不偏离所附权利要求书限定的本发明的精 神和范围的前提下,可以在形式和细节上进行多种变化。
权利要求
1、一种等离子体显示面板,包括彼此面对的前基板和后基板;和多个电极片,其堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于形成多个放电空间的孔,其中所述电极片包括多个金属放电电极,所述金属放电电极中的每个围绕直线排列的每一个放电空间的至少一部分延伸,并且所述金属放电电极彼此分开;和绝缘构件,其位于所述金属放电电极之间,由与所述金属放电电极相同的金属的氧化物材料形成,并且将所述金属放电电极彼此绝缘。
2、 根据权利要求1所述的等离子体显示面板,其中所述金属放电电极 由导电的铝形成,并且所述绝缘构件由绝缘的氧化铝形成。
3、 根据权利要求1所述的等离子体显示面板,其中氧化膜设置在所述 金属放电电极的外表面上。
4、 一种等离子体显示面板,包括 ;f皮此面对的前基纟反和后基纟反;和第一电极片和第二电极片,其堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于 形成多个放电空间的孔, 其中第一电极片包括多个第 一 金属放电电极,其围绕沿第 一 方向排列的每 一 个放电空间 的至少一部分延伸,并彼此分开;和第一电极片绝缘层,其位于第一金属放电电极之间,具有第一电极 片绝缘层竖直台阶,由与第一金属放电电极相同的金属的氧化物材料形成, 并且将第一金属放电电极彼此绝缘,并且 其中第二电极片包括多个第二金属放电电极,其围绕沿第二方向排列的每 一 个放电空间的至少一部分延伸,并彼此分开;和第二电极片绝缘层,其位于第二金属放电电极之间,具有第二电极 片绝缘层竖直台阶,由与第二金属放电电极相同的金属的氧化物材料形成, 并且将第二金属放电电极彼此绝缘。
5、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一金属放电电极 和第二金属放电电极由导电的铝形成,并且第一电极片绝缘层和第二电极片 绝缘层由绝缘的氧化铝形成。
6、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中绝缘氧化膜设置在 第一金属放电电极的表面上以及第二金属放电电极的表面上。
7、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一金属放电电极 和第二金属放电电极包括围绕所述放电空间并直接产生放电的放电部分, 和电连接所述放电部分的电连接部分。
8、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一金属放电电极 和第二金属放电电极彼此交叉地延伸。
9、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一电极片绝缘层 的厚度小于第一金属放电电极的厚度,并且第二电极片绝缘层的厚度小于第 二金属放电电极的厚度。
10、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中 第一电极片绝缘层的一侧与相邻的第一金属放电电极形成竖直台阶, 第二电极片绝缘层的一侧与相邻的第二金属放电电极形成竖直台阶, 第 一电极片绝缘层的另 一侧与第 一金属放电电极形成平坦表面,并且 第二电极片绝缘层的另 一侧与第二金属放电电极形成平坦表面。
11、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一电极片绝缘层 的上下两侧均与相邻的第一金属放电电极形成竖直台阶,并且第二电极片绝 缘层的上下两侧均与相邻的第二金属放电电极形成竖直台阶。
12、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中第一电极片绝缘层 设置在第一电极片上的不存在第一金属放电电极处,并且第二电极片绝缘层 设置在第二电极片上的不存在第二金属放电电极处。
13、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中多个后基板槽以预定间距形成于所述后基板中并且对应于it电空间,并且后基板荧光层设置在所述后基板槽中。
14、 根据权利要求13所述的等离子体显示面板,其中多个前基板槽以预定间距形成于所述前基板中并且对应于;^文电空间,并且前基板荧光层设置在所述前基板槽中。
15、 根据权利要求4所述的等离子体显示面板,其中绝缘粘合剂设置在 第一电极片和第二电极片之间,并将第一电极片和第二电极片结合。
16、 一种等离子体显示面板,包括 彼此面对的前基板和后基板;和第一电极片和第二电极片,其堆叠在前基板与后基板之间,并具有用于 形成多个^:电空间的孔, 其中第一电极片包括多个第一金属放电电极,其具有围绕直线排列的放电空间的放电部 分以及将所述放电部分电连接的第一电极片电连接部分,和位于第一金属放电电极之间的一或多个第一电极片桥,其以比第一 电极片电连接部分小的宽度延伸,并将第一金属放电电极彼此绝缘,并且 其中第二电极片包括多个第二金属放电电极,其具有围绕直线排列的放电空间的放电部 分以及将所述放电部分电连接的第二电极片电连接部分,和位于第二金属放电电极之间的一或多个第二电极片桥,其以比第二 电极片电连接部分小的宽度延伸,并将第二金属放电电极彼此绝缘。
17、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中一或多个第一电 极片桥由第一金属放电电极的金属的氧化物材料形成,并且一或多个第二电极片桥由第二金属放电电极的金属的氧化物材料形成。
18、 根据权利要求17所述的等离子体显示面板,其中 第一金属放电电极和第二金属放电电极由导电的铝形成,并且 一或多个第一电极片桥和一或多个第二电极片桥由绝缘的氧化铝形成。
19、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中绝缘氧化膜设置 在第一金属放电电极的表面上以及第二金属放电电极的表面上。
20、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中第一金属放电电 极和第二金属放电电极彼此交叉地延伸。
21、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中一或多个第一电 极片桥沿着垂直于第一金属放电电极的方向延伸,并且一或多个第二电极片 桥沿着垂直于第二金属放电电极的方向延伸。
22、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中一或多个第一电 极片桥设置在相邻第一金属放电电极的放电部分之间,并且一或多个第二电 极片桥设置在相邻第二金属放电电极的放电部分之间。
23、 根据权利要求19所述的等离子体显示面板,其中当一或多个第一 电极片桥设置在第一金属放电电极之间并且一或多个第二电极片桥设置在 第二金属放电电极之间时,彼此平行延伸的两个或更多相邻的桥形成为 一 以 预定间距重复设置的单元。
24、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中 第一电极片的放电部分沿着第一电极片电连接部分所延伸的第一方向被电连接,并且沿着第一电极片桥所延伸的第二方向被绝缘;并且第二电极片的放电部分沿着第二电极片电连接部分所延伸的第二方向 被电连接,并且沿着第二电极片桥所延伸的第一方向被绝缘。
25、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中多个后基板槽以 预定间距形成于所述后基板中并对应于放电空间,并且后基板荧光层设置在 所述后基板槽中。
26、 根据权利要求25所述的等离子体显示面板,其中多个前基板槽以预定间距形成于所述前基板中并对应于放电空间,并且前基板荧光层设置在 所述前基板槽中。
27、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中绝缘粘合剂设置 在第一电极片和第二电极片之间,并将第一电极片和第二电极片结合。
28、 根据权利要求16所述的等离子体显示面板,其中每个桥的每单位 体积的表面积大于每个放电电极连接部分每单位体积的表面积。
全文摘要
本发明提供一种等离子体显示面板及其制造方法。等离子体显示面板包括彼此隔开的前基板和后基板。多个电极片堆叠在前基板和后基板之间,并且具有用于形成多个放电空间的孔。电极片包括多个金属放电电极,所述金属放电电极围绕纵向排列的每一个放电空间的至少一部分延伸,并且电极片彼此分开。绝缘构件位于金属放电电极之间,并且由金属放电电极的金属的氧化物材料形成,以用于将金属放电电极绝缘。
文档编号H01J11/24GK101162676SQ20071013768
公开日2008年4月16日 申请日期2007年7月31日 优先权日2006年10月9日
发明者姜景斗, 崔荣镀, 崔钟佑, 曹台昇, 权宰翊, 李源周, 田炳玟, 禹锡均, 黃镛式 申请人:三星Sdi株式会社
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