用于乳化液循环系统的数控车床水箱的制作方法

本实用新型涉及数控车床乳化液循环系统技术领域，具体涉及一种用于乳化液循环系统的数控车床水箱。

背景技术：

粗车锻件会产生铁屑、氧化皮和泥浆等杂质，这些杂质在乳化液里会造成数控车床出水口堵塞，同时会增加机床乳化液循环系统的压力。

现有技术中通过在乳化液循环系统中使用如图4所示的数控车床水箱，但是该水箱过滤效果并不好，容易使车削过程中产生的杂质堵塞乳化液出水口。

技术实现要素：

本实用新型克服了现有技术中水箱结构过滤效果不好的不足，提供一种分类过滤数控车床粗车加工产生的铁屑、氧化皮和泥浆，从而提高乳化液的使用寿命，减小在车削过程中杂质堵住乳化液出水口的风险的用于乳化液循环系统的数控车床水箱。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种用于乳化液循环系统的数控车床水箱，它包括底板，在所述底板的四边分别连接有支撑板，四个支撑板与底板形成一个凹槽，所述凹槽内设置有第二隔板，并且所述第二隔板与底板垂直，所述第二隔板将凹槽划分为第一过滤区和第二过滤区，所述第二隔板下方开设有若干个第二滤水孔，所述第一过滤区内设置有第一隔板，并且所述第一隔板与底板平行，所述第一隔板表面开设 有若干个第一滤水孔，所述第二过滤区在其远离第二隔板的端部设置有与底板连接的第三隔板、第四隔板和第五隔板，所述第四隔板两端分别与第三隔板和第五隔板连接，所述第三隔板和第五隔板均与支撑板连接，并且在所述第三隔板、第四隔板和第五隔板之间形成第三过滤区，所述底板在其位于第三过滤区内的表面开设有若干个第三滤水孔。

更进一步的技术方案是，所述第一隔板与底板之间的距离为50mm。

更进一步的技术方案是，所述若干个第二滤水孔位于同一水平线上，并且第二滤水孔与底板之间的距离为30mm。

更进一步的技术方案是，所述第三隔板、第四隔板和第五隔板的高度均为20mm。

本技术方案中首先通过第二隔离板将属相划分为第一过滤区和第二过滤区，第一过滤区的位置位于在车床落铁屑区域下方，第二过滤区的位置位于在车床尾座靠近机床循环水箱位置，第一过滤区通过第一隔板划分为上下两层，第一隔板上开设有第一过滤孔，通过第一过滤孔将加工过程中产生的铁屑等较大杂质阻挡在第一过滤区的上层，方便作业人员定期清理，清理过程中也不会带走较多的乳化液污染地面，细小杂质和锻件氧化皮随着乳化液流入第一过滤区的下层，第一隔板距离底板的距离为50mm，从而使第一过滤区的下层具有容纳细小杂质的能力，然后在第一过滤区下层经过沉淀后的乳化液经过第二隔板下部的第二滤水孔流向第二过滤区，初步过滤后的乳化液在第二过滤区进行二次沉淀，杂质进一步沉淀到第二过滤区底部，过滤后的乳化液通过第三过滤区下方的第三过滤孔进入循环水箱入口，通过上述结构的设置，从而可以分类过滤数控车床粗车加工中产生在乳化液中的铁屑、氧化皮和泥浆，从而提高乳化液的使用寿命，减小在车削过程中杂质堵住乳化液出水口的风险。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

通过本实用新型过滤后的数控车床乳化液的使用寿命从1个月增加到了2个月，同时降低水箱清洗频率。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例的用于乳化液循环系统的数控车床水箱的立体结构示意图。

图2为图1的剖视图。

图3为图1的俯视图。

图4为现有技术中用于乳化液循环系统的数控车床水箱的结构图。

如图1所示，其中对应的附图标记名称为：

1底板，2支撑板，3第一滤水孔，4第一隔板，5第二隔板，6第二滤水孔，7第三过滤区，8第三滤水孔，9第一过滤区,10第二过滤区，11第三隔板,12第四隔板,13第五隔板。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步阐述。

如图1-3所示的一种用于乳化液循环系统的数控车床水箱，它包括底板1，在底板1的四边分别连接有支撑板2，四个支撑板2与底板1形成一个凹槽，凹槽内设置有第二隔板5，并且所述第二隔板5与底板1垂直，第二隔板5将凹槽划分为第一过滤区9和第二过滤区10，第二隔板5下方开设有若干个第二滤水孔6，第一过滤区9内设置有第一隔板4，并且第一隔板4与底板1平行，第一隔板4表面开设有若干个第一滤水孔3，第二过滤区10在其远离第二隔板5的 端部设置有与底板1连接的第三隔板11、第四隔板12和第五隔板13，第四隔板12两端分别与第三隔板11和第五隔板13连接，第三隔板11和第五隔板13均与支撑板2连接，并且在第三隔板11、第四隔板12和第五隔板13之间形成第三过滤区7，底板1在其位于第三过滤区7内的表面开设有若干个第三滤水孔8，第一隔板4与底板1之间的距离为50mm，若干个第二滤水孔6位于同一水平线上，并且第二滤水孔6与底板1之间的距离为30mm，第三隔板11、第四隔板12和第五隔板13的高度均为20mm。

第一隔板4主要用于隔离车加工后产生的铁屑，第二隔板5主要用于分离车加工产生的氧化皮、泥浆，第三过滤区7主要用于进一步沉淀零件表面脱落的氧化皮、泥浆等细小杂质。

以上具体实施方式对本实用新型的实质进行详细说明，但并不能对本实用新型的保护范围进行限制，显而易见地，在本实用新型的启示下，本技术领域普通技术人员还可以进行许多改进和修饰，需要注意的是，这些改进和修饰都落在本实用新型的权利要求保护范围之内。