专利名称：抛光液供给控制装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种抛光设备的抛光液供给控制装置，特别涉及透明导电玻璃基板的抛光设备的抛光液供给控制装置，以及对使用此抛光液供给控制装置的透明导电玻璃基板上透明导电膜的抛光过程抛光液流量供给的控制。
背景技术：
在玻璃基板上形成的通明导电膜通常用作LCD、PDP、OLED等平板显示器的阳极。而通明导电膜中多使用透过率高、电阻低的材料，此类材料中，普遍采用的是氧化铟(In2O3)中添加了锡(Sn)的氧化铟锡(Indium Tin Oxide简称为ITO)。根据不同显示器件的要求，有的需要在镀ITO之前对玻璃基板进行抛光，有的对镀ITO后的膜面进行抛光，后者有别于前者前者抛光对象是基板玻璃，要求提高玻璃的平整度，抛磨量要几十到几百纳米；而后者抛光对象是ITO膜层，不能抛掉太多，目的是为了降低膜层的粗糙度，抛磨量仅为几个到几十个纳米。前者在抛光液的供给上并不是特别严格；而后者在抛光过程中，对抛光粉的粒径，抛光液的浓度、温度、流量应有严格的控制，微小的差别可能造成大的差异，难以控制量产所需的均匀性和重复性，有必要选择一定的抛光液供给装置。
当前的抛光机虽然本身附有抛光液供给装置，也可对流量进行一定的控制，但仅能做到定性控制，很难做到定量控制，更难对整个抛光工艺进行监控，无法满足软抛光重复性和均匀性的要求，无法满足量产的需求。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种能够精确地控制非循环使用的抛光液流量的抛光液供给控制装置。
为达到上述目的本实用新型采用如下技术方案抛光液供给控制装置，其在搅拌器上设置容器，容器经供液管与流量泵相连接，所述流量泵为设有流量控制功能的流量控制泵。
本实用新型所述流量控制泵为蠕动泵。
本实用新型所述搅拌器为磁力搅拌器。
本实用新型与现有技术相比，能在满足抛光质量的前提下，为最大限度地降低抛光液的消耗提供了可靠的控制条件，降低抛光成本。用一次性使用的抛光液抛透明导电玻璃上的透明导电膜，将所述导电膜表面粗糙度控制在Ra≤1nm。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1所示，本实用新型的抛光液供给控制装置，由磁力搅拌器1、流量控制泵2、容器3和供液管4构成，磁力搅拌器1上设置有容器3，容器3经供液管4与流量泵2相连接，该流量泵2为设有流量控制机构的流量控制泵。在本实施例中，容器3为塑料桶，供液管4为橡皮管，流量控制泵为蠕动泵。
本实用新型的磁力搅拌器1外壳底部设有一排两个开关，右开关为电源开关6，左为磁旋子转动开关7；磁力搅拌器1外壳中间设置有一排转动按钮，左边按钮为磁转子转速调节按钮9，右边按钮为抛光液加热时温度调节按钮10；两按钮中间设有一温度指示刻度盘11，可加热至70℃。
本实用新型在蠕动泵泵盖上设置有压力控制杆12(竖直部分)，并在压力控制杆12内设置弹簧，所述供液管4夹设于压力控制杆12和弹簧中间，通过转动压力控制杆12上的旋钮，可以调节对压在压力控制杆下面的橡皮管4的压力，配合压力控制杆12右边的三个流量控制按钮13，可以在01至99毫升/分钟之间任意调节橡皮管内的流量，从而可以对抛光液供给量进行定量控制。
本实用新型与抛光机配合使用，很好的完成了对抛光过程的抛光液定量供给及实时监控。
本实用新型的磁力搅拌器1由交流电源直接供电，转速可调，能够保证抛光粉抛光液的充分混合，同时还可对其进行最高温度至70℃的加热，满足抛光过程中对不同抛光工艺的抛光液的温度要求。
权利要求1.一种抛光液供给控制装置，其在搅拌器(1)上设置容器(3)，容器(3)经供液管(4)与流量泵(2)相连接，其特征在于所述流量泵(2)为设有流量控制功能的流量控制泵。
2.根据权利要求1所述的抛光液供给控制装置，其特征在于所述流量控制泵为蠕动泵。
3.根据权利要求1所述的抛光液供给控制装置，其特征在于所述搅拌器为磁力搅拌器。
专利摘要本实用新型涉及一种抛光设备的抛光液供给控制装置，特别涉及透明导电玻璃基板的抛光设备的抛光液供给控制装置，以及对使用此抛光液供给控制装置的透明导电玻璃基板上透明导电膜的抛光过程抛光液流量供给的控制。本实用新型的抛光液供给控制装置，其在搅拌器上设置容器，容器经供液管与流量泵相连接，所述流量泵为设有流量控制功能的流量控制泵，流量控制泵为蠕动泵。本实用新型所述搅拌器为磁力搅拌器。本实用新型与现有技术相比，能在满足抛光质量的前提下，为最大限度地降低抛光液的消耗提供了可靠的控制条件，降低抛光成本。用一次性使用的抛光液抛透明导电玻璃上的透明导电膜，将所述导电膜表面粗糙度控制在Ra≤1nm。
文档编号B24B57/02GK2756388SQ20042009455
公开日2006年2月8日 申请日期2004年10月29日 优先权日2004年10月29日
发明者金弼 申请人:深圳南玻显示器件科技有限公司