陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备的制作方法

文档序号:3428453阅读:237来源:国知局
专利名称:陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备的制作方法
技术领域
本发明涉及一种陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备。
背景技术
CN200510100123.3中公开了 "一种仿石抛光砖及其生产方法"。它的目 的是提供一种所制造出来的瓷砖表面图案具有天然石材所具有的玉石般质 感的、立体效果的仿石抛光砖及其生产方法。其技术构成所述仿石拋光 砖,由主要含有Si02、 A1A、 MgO、 K20、 Na20的透明配方粉料及传统陶瓷粉
料经多管布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光制成;其中透明配方粉 料中Si02的含量为66% 75%wt,八1203的含量为16% 25%wt , MgO的含量 为0. 6% 2. 5%wt, K20的含量为0. 5% 2. 5%wt,歸的含量为4. 5 10%wt, 透明配方粉料的含量占9(m 5(F,t。所述仿石抛光砖的生产方法,依次包 括粉料配制、多管布料、瓷砖坯体成型、干燥、烧成、抛光工序,其特殊 之处在于粉料由透明配方粉料和传统陶瓷粉料构成,透明配方粉料主要由 含有SiO2、 A1203、 MgO、 K20、 Na20中的一种或一种以上化学成分的一种或一 种以上的物料经球磨、过筛除铁、制粉、陈腐、磨微粉制成。其不足之处 在于这种抛光砖产品其图案是呆滞的平面花纹图案,缺少立体感觉;极
光系列产品依靠极光抛光设备使陶瓷砖表面产生光泽差异。

发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足之处,提供一种表面产
生神似自然极光图案效果的瓷砖制造工艺;本发明的另一目的是提供一种
在制造过程中通过三维运动的磨具,将陶瓷砖的表面进行光泽差异式的抛 光处理形成光图案,且采用了在电机中心轴供水的冷却方式,有效地解决 摩擦过热问题的极光抛光设备。本发明的目的可以通过以下措施来达到
这种陶瓷砖的制造工艺,包括有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖,其特殊之 处在于:对烧制的有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖的表面进行光差抛光处理,使其 形成神似自然极光效果的光图案。
本发明的目的还可以通过以下措施来达到
这种为实施陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,包括由主传动 电机驱动连杆、带动主磨盘做仿形、横向摆动的动力装置,由升降气缸及 相应管路构成的压力机构,由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构,抛 光机构以及对抛光过程进行冷却的冷却机构;其特殊之处在于所述冷却 机构由抛光机构中的磨具、磨具中心部位开设的圆孔、套设在磨具圆孔内 并与磨具中心孔壁形成的喷水口贯通的供水管组成;冷却液从供水管注入 磨具中心喷水口进行冷却。
与磨具圆孔连通的供水管穿过电机圆柱形空心转子的空心轴。
与磨具圆孔连通的供水管连通主旋转盘中心管道及与主旋转盘同轴心 连接的传动轴中心管道后接入冷却机构。
所述主旋转盘同轴心连接的传动轴上套装传动轮、动力装置对应部位 也套装有传动轮, 一皮带分别套装在传动轴传动轮与动力装置的传动轮上。
所述主旋转盘同轴套装的传动齿轮与动力装置对应部位上的齿轮通过 啮合传动。
本发明的目的还可以通过以下措施来达到
这种为实施陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,包括由主传动电 机驱动连杆、带动主磨盘做具有仿形横向摆动的动力装置、由升降气缸及 相应管路构成的压力机构、由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构、冷 却机构、抛光机构,其特殊之处在于所述抛光机构由与电机输出轴同轴安 装的主磨盘、磨具组成。所述磨具由一圆形或方形盘片、该盘片圆心开设的穿孔、该盘片表面 呈环状均匀布设的若干磨块或磨粒组成。
所述磨具的转速为500转/分钟 3500转/分钟。
本发明相比现有技术,具有如下优点
1、 采用本发明极光抛光设备生产的光图案陶瓷砖,是对陶瓷砖的表面 进行光差处理,其生产消耗较一般的抛光机节水、节电,很少产生抛光废 料。
2、 采用本发明的极光抛光设备对被抛砖坯的表面平整度要求较低,因 主旋转盘采用摆动运动方式,其仿形功能强;不像抛光机要经过对砖面刮 平、粗磨、精抛等过程;根据砖形凹凸情况对砖坯表面要刮去0.6-1.2mm,
如此大的刮平切削量无疑是资源和能源的极大浪费,并且还因此产生大量 的抛光废料。
3、 采用本发明极光抛光设备生产的光图案陶瓷砖其产品表面光图丰 富,变幻无穷;该表面产生神似自然极光效果图案瓷砖以板材自身光泽度 不同,反光效果不同而形成光图案,这种光图案陶瓷砖为消费者提供更多 的选择。
4、 采用本发明生产的表面产生神似自然极光效果图案瓷砖更光亮洁 净,容易清洁。


图1是本发明的制造工艺工序示意图。
图2是本发明专为制造工艺设计的专用设备的结构示意图。
图3是本发明极光抛光设备的第一种结构示意图。
图4是本发明磨具第一种构造的结构示意图。
图5是图4的侧视图。
图6是本发明磨具第二种构造的结构示意图。图7是图6的侧视图。
图8是本发明极光拋光设备的第二种结构示意图。
图9是本发明磨具的第一种结构示意图。
图10是图9的侧视图。
图11是本发明磨具的第二种结构示意图。
图12是图11的侧视图。
图13是本发明磨具的第三种结构示意图。
具体实施例方式
本发明下面将结合附图作进一步详述
在本实施例中,所述表面产生神似自然极光效果图案的瓷砖,由下述 重量百分比的原料制成
瓷砂59% 80%黑、白泥15% 40%、添加剂0.5% 5% 请参阅图1所示,所述表面产生神似自然极光效果图案瓷砖的制造工
艺,包括
(1) 粉料制备;
(2) 单管布料、多管布料、颗粒料压制成型;
(3) 生坯干燥对表面进行装饰;
(4) 辊道窑烧成;
(5) 对烧制的成品砖表面进行光差抛光处理,使其形成神似自然极光效 果的光图案。
所述a)粉料制备工序进一步包括
4. 1按配方配料、加水、经球磨机研磨制成泥浆;
4. 2泥浆经喷雾干燥制成含水率为5% 7%的颗粒粉料。
所述(2)单管布料、多管布料、颗粒料压制成型包括 各色粉料经配料单管布料的斑点瓷质砖;各种粉料经多管布料微粉、造粒颗粒砖瓷质砖;采用立体布料的而成瓷质图案砖。 所述(3)生坯干燥进行表面装饰工序进一歩包括
在釉坯表面用平面花网印花或不经印花的净色产品;或者,另采用 在无釉砖坯上印渗花釉,在助渗剂的作用下渗到坯体内层的渗花砖产品。 所述工序(5)的光差抛光处理工序进一歩包括
对陶质或瓷质有釉砖产品的釉面或花釉层进行有规则的光图案或无规 则的反光光带、光束、光团、光斑图案的极光抛光加工。 所述工序(5)的光差抛光处理工序进一歩包括
对烧制的瓷质无釉砖、渗花图案砖、多管布料微粉砖、斑点颗粒砖进 行有规则的光图案或无规则的反光光带、光束、光团、光斑图案的极光抛 光加工。
所述工序(4)辊道窑烧成工序的温度为1100°C 1300°C。 请参阅图2 图7所示,实施表面产生神似自然极光效果图案瓷砖制
造工艺而专门设计的极光抛光设备,包括由主传动电机11驱动连杆(图中
未示)、带动主磨盘13做具有仿形横向摆动的动力装置1、由升降气缸21 及相应管路构成的压力机构2、由输送带31及搭载被抛产品32的砖坯输送 机构3、冷却机构4、抛光机构5,所述抛光机构5由齿轮传动(图中未示) 或与电机输出轴122同轴安装所带动的主磨盘13、磨具14组成。所述冷却 机构4由抛光机构中的磨具14、磨具中心部位开设的圆孔141、套设在磨 具圆孔141内并与磨具中心孔壁形成的喷水口 142贯通的供水管41组成; 冷却液从供水管41注入磨具中心喷水口 142进行冷却。请参阅图3所示, 与磨具圆孔141连通的供水管41穿过电机圆柱形空心转子的空心轴121。 电机ll转子转动,电机11定子和供水管41相对不动,供水管41的端部 连接在磨具14上并经磨具14表面喷射到被抛产品32的表面,磨具14与 升降气缸21经管路连通并在升降气缸21的压力下作高速旋转,对被抛产
8品32表面进行抛光。所述磨具14由中心带有穿孔141的方形碟或圆形碟 组成。或者,请参阅图8所示,电机11使用其替代机构与磨具圆孔141 连通的供水管41连通主旋转盘6中心管道63及与主旋转盘6同轴心连接 的传动轴61中心管道611后接入冷却机构。所述主旋转盘6同轴心连接的 传动轴61上套装传动轮62、动力装置1对应部位也套装有传动轮15, 一 皮带7分别套装在传动轴传动轮62与动力装置的传动轮15上。主旋转盘6、 与其同轴心连接的传动轴61转动,主旋转盘中心管道63及与主旋转盘6 同轴心连接的传动轴中心管道15相对不动,供水管41的端部连接在磨具 14上并经磨具14表面喷射到被抛产品32的表面,磨具14与升降气缸21 经管路连通并在升降气缸21的压力下作高速旋转,对被抛产品32表面进 行抛光。
请参阅图6、图7、图9、图10所示,所述磨具14由一圆形盘片、该 盘片圆心开设的穿孔141、该盘片表面呈环状均匀布设的若干磨块或磨粒 142组成。
请参阅图4、图5、图11、图12、图13所示,所述磨具14由--方形 盘片、该盘片中心开设的穿孔141、该盘片表面呈环状均匀布设的若干磨块 或磨粒142组成。
工作原理请参阅图3所示,主磨盘13上配有磨具电机12,磨具14 在升降气缸21的压力下同时作高速旋转,所述磨具的转速为2800转/分钟, 对被抛产品32的表面进行抛光。磨具14盘上的磨具工作贴(图中未示) 通过魔术贴粘结,其连接牢固并容易更换。被抛产品32进入极光抛光设备, 在行进过程中通过三维运动的磨具14,将被抛产品32的表面进行光泽差异 式的抛光处理形成光图案。磨具14的形状不同且大小不等其运动轨迹和线 速度不同,导致被抛产品32表面形成的光图案不同。磨具14作高速旋转 并赋予被抛产品32表面一定的压力,摩擦生热容易使磨具14过热受损,电机12心轴供水管41同时为电机的空心轴121,电机12转子转动,定子 (图中未示)和空心轴即供水管41相对不动,保证了电机12密封运转; 冷却方式用水量少并且供水量随转速不同而变化。所述磨具14高速旋转并 施与被抛产品32表面一定的压力,其冷却采用电机中心管41供水方式, 供水管41为电机空心轴设计,电机11转子转动,定子和空心管即供水管 41相对不动,这种冷却方式其用水量少、冷却效率高,并且供水量随转速 不同可调。其工作系统中主电机11驱动连杆(图中未示)使主磨盘13公转 并摆动,主磨盘13带动3 8个磨具14自转;施于被抛产品32表面的压 力大小靠调节升降气缸21压力来实现。主磨盘13带动磨具14做三维的运 动;主磨盘13公转与否并速度可调,磨具14自转并速度可调;光泽度差 异通过主磨盘13、磨具14的转速以及磨具14施与被抛产品32的压力大小 来实现,以不同的速度旋转作用于被抛产品32陶瓷砖的表面,使之因光泽 度的差异产生光形不一的光带、光束或光斑;这种光图案随观察角度的不 同,形状和颜色发生变化;它是运动着的装饰图案,其光图效果美轮美奐、 流光溢彩。
请参阅图8所示,磨具14盘上的磨具工作贴(图中未示)通过魔术贴 粘结,其连接牢固并容易更换。被抛产品32进入极光抛光设备,在行进过 程中通过三维运动的磨具14,将被抛产品32的表面进行光泽差异式的抛光 处理形成光图案。磨具14的形状不同且大小不等其运动轨迹和线速度不同, 导致被抛产品32表面形成的光图案不同。磨具14作高速旋转并赋予被抛 产品32表面一定的压力,摩擦生热容易使磨具14过热受损,主旋转盘6、 与其同轴心连接的传动轴61转动,主旋转盘中心管道63及与主旋转盘6 同轴心连接的传动轴中心管道15相对不动,供水管41的端部连接在磨具 14上并经磨具14表面喷射到被抛产品32的表面,磨具14与升降气缸21 经管路连通并在升降气缸21的压力下作高速旋转,对被抛产品32表面进
10行抛光。所述磨具14由中心带有穿孔141的方形碟或圆形碟组成。冷却方 式用水量少并且供水量随转速不同而变化。所述磨具14高速旋转并施与被 抛产品32表面一定的压力,这种冷却方式其用水量少、冷却效率高,并且 供水量随转速不同可调。其工作系统中动力装置1经皮带传动机构带动与 主旋转盘6同轴心连接的传动轴61转动,主旋转盘6随之转动,使主旋转 轮6公转并摆动,主旋转轮6带动3 8个磨具14自转;施于被抛产品32 表面的压力大小靠调节升降气缸21压力来实现。主旋转轮6带动磨具14 做三维的运动;主旋转轮6公转与否并速度可调,磨具14自转并速度可调; 光泽度差异通过主旋转轮6、磨具14的转速以及磨具14施与被抛产品32 的压力大小来实现,以不同的速度旋转作用于被抛产品32陶瓷砖的表面, 使之因光泽度的差异产生光形不一的光带、光束或光斑;这种光图案随观 察角度的不同,形状和颜色发生变化;它是运动着的装饰图案,其光图效 果美轮美奂、流光溢彩。
本发明冷却构造传动轮机构还可以使用以下变形结构所述主旋转盘 同轴套装的传动齿轮与动力装置部位上的齿轮通过啮合传动。因其结构与 传动轮机构相似,此处省略。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明权利要求范围所做的 均等变化与修饰,皆应属本发明权利要求的涵盖范围。
权利要求
1、一种陶瓷砖的制造工艺,包括有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖,其特征在于对烧制的有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖的表面进行光差抛光处理,使其形成神似自然极光效果的光图案。
2、 一种为实施权利要求l陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,包括 由主传动电机驱动连杆、带动主磨盘做仿形、横向摆动的动力装置,由升降气 缸及相应管路构成的压力机构,由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构,抛 光机构以及对抛光过程进行冷却的冷却机构;其特征在于所述冷却机构由抛 光机构中的磨具、磨具中心部位开设的圆孔、套设在磨具圆孔内并与磨具中心 孔壁形成的喷水口贯通的供水管组成;冷却液从供水管注入磨具中心喷水口进 行冷却。
3、 根据权利要求2所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在 于与磨具圆孔连通的供水管穿过电机圆柱形空心转子的空心轴。
4、 根据权利要求2所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在 于与磨具圆孔连通的供水管连通主旋转盘中心管道及与主旋转盘同轴心连接 的传动轴中心管道后接入冷却机构。
5、 根据权利要求4所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在 于所述主旋转盘同轴心连接的传动轴上套装传动轮、动力装置对应部位也套 装有传动轮, 一皮带分别套装在传动轴传动轮与动力装置的传动轮上。
6、 根据权利要求4所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在于所述主旋转盘同轴套装的传动齿轮与动力装置对应部位上的齿轮通过啮合传动。
7、 一种为实施权利要求l陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,包括由主传动电机驱动连杆、带动主磨盘做具有仿形横向摆动的动力装置、由升降气 缸及相应管路构成的压力机构、由输送带及搭载被抛产品的砖坯输送机构、冷却机构、抛光机构,其特征在于所述抛光机构由与电机输出轴同轴安装的主 磨盘、磨具组成。
8、 根据权利要求7所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在于所述磨具由一圆形或方形盘片、该盘片圆心开设的穿孔、该盘片表面呈环 状均匀布设的若干磨块或磨粒组成。
9、 根据权利要求7所述陶瓷砖制造工艺而专门设计的专用设备,其特征在 于所述磨具的转速为500转/分钟 3500转/分钟。
全文摘要
本发明涉及一种陶瓷砖的制造工艺、实施其工艺的专用设备。其制造工艺对烧制的有釉陶瓷砖或无釉瓷质砖的表面进行光差抛光处理,使其形成神似自然极光效果的光图案。其专用设备,包括由主传动电机驱动连杆,带动主磨盘做仿形、横向摆动的动力机构;由升降气缸及相应管路构成的压力机构;由输送带及搭载其上被抛产品构成的砖坯输送机构、抛光机构以及对抛光过程进行冷却的冷却机构,所述冷却机构由中间穿孔的电机、电机中间穿孔内套设贯穿在电机转子轴中间的圆心套中的供水管、延伸出电机圆心套筒的供水管端部连接的磨具所开设的透孔组成;所述抛光机构由与电机输出轴同轴安装的主磨盘、磨具组成。
文档编号B24B29/02GK101524825SQ20091010598
公开日2009年9月9日 申请日期2009年3月13日 优先权日2009年3月13日
发明者黄建平 申请人:黄建平
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