专利名称：一种溅射靶材的冷却装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及溅镀等行业的溅射靶材的冷却技术，特别涉及用某些高硬度、高
熔点材料制作的靶环的循环水冷却装置。
背景技术：
目前国内外的磁控溅射设备，其溅射源-靶，无论是平面磁控溅射靶还是同轴磁 控溅射靶，其共同特征是都以循环水作为冷媒对溅射靶管内壁进行冷却，以提高其工效及 使用寿命，此种结构如附图l所示。而对某些熔点、硬度很高的材料，如碳化钨等合金，由于 采用粉末冶金等方法成型，一般成型为长度约300mm左右靶环3，使用时由多个靶环套装在 骨架4'上，冷却水从进水管1进入，沿进水管穿过磁芯，在靶环骨架的内壁进行热交换后， 从出口8流出。进出水管都在靶头2上，而靶座7与靶头通过骨架连接。这种结构的弊端 就是被冷却水直接冷却的是骨架，耙环是通过骨架间接被冷却的，所以冷却的效率不高。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种改进的溅射靶材的冷却装置，使冷却 效率更高，溅射靶的使用寿命更长。 为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下的技术方案 —种溅射靶材的冷却装置，包括一支撑骨架、多个套设在支撑骨架上的靶环，支撑 骨架内设有一穿过磁芯的进水管及一排水管，在所述靶环与所述支撑骨架之间设有一套 环，所述套环套设在所述支撑骨架上，所述套环与所述支撑骨架之间设有冲孔网。 进一步地，所述套环两端各设有一用于固定套环的压环。 本专利装置由于结构上在靶环内壁采用冲孔网加薄金属套结构代替常规钢管骨 架，使热交换的间隔层厚度大大的降低，从而提高了冷却效率，延长了靶环的的使用寿命。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型进行详细说明
图1为现有技术中溅射靶冷却装置的结构示意图； 图2为本实用新型冷却装置的结构示意图； 图3为本实用新型冷却装置的局部剖视具体实施方式如图2为本实用新型冷却装置的结构示意图；一种溅射靶材的冷却装置，包括一 支撑骨架4、多个套设在支撑骨架4上的靶环3，支撑骨架4内设有一穿过磁芯6的进水管 1及一排水管8，在靶环3与支撑骨架4之间设有一套环5，套环5套设在支撑骨架4上，套 环5与支撑骨架4之间设有冲孔网8。套环5被两端的压环9固定，冷却水从进水口 l进 入，流过置于磁芯6中的进水管，充满整个磁芯6外围，同时穿过冲孔网4压迫不锈钢薄套环5，套环5在冷却水的静压力及工作腔体内负压的双重作用下向外突起，因为受到溅射靶
环3内壁的约束而使二者充分接触，进行热交换，使靶环3得到充分冷却。 本实用新型涉及的靶环冷却装置包括但不限于上述的平面或同轴磁控溅射耙。本
领域技术人员应该认识到，上述的具体实施方式
只是示例性的，是为了更好的使本领域技
术人员能够理解本专利，不能理解为是对本专利包括范围的限制，只要是根据本专利所揭
示精神的所作的任何等同变更或修饰，均落入本专利包括的范围。
权利要求一种溅射靶材的冷却装置，包括一支撑骨架、多个套设在支撑骨架上的靶环，支撑骨架内设有一穿过磁芯的进水管及一排水管，其特征在于在所述靶环与所述支撑骨架之间设有一套环，所述套环套设在所述支撑骨架上，所述套环与所述支撑骨架之间设有冲孔网。
2. 根据权利要求1所述的一种溅射靶材的冷却装置，其特征在于所述套环两端各设有一用于固定套环的压环。
专利摘要本实用新型公开了一种溅射靶材的冷却装置，包括一支撑骨架、多个套设在支撑骨架上的靶环，支撑骨架内设有一穿过磁芯的进水管及一排水管，在所述靶环与所述支撑骨架之间设有一套环，所述套环套设在所述支撑骨架上，所述套环与所述支撑骨架之间设有冲孔网。这种改进的溅射靶材的冷却装置，使冷却效率更高，溅射靶的使用寿命更长。
文档编号C23C14/35GK201459233SQ20092007432
公开日2010年5月12日 申请日期2009年7月27日 优先权日2009年7月27日
发明者李水波 申请人:昆山新莱洁净应用材料股份有限公司