专利名称：壳体的制备方法及该方法所制备的壳体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种壳体的制备方法，尤其涉及ー种金属和陶瓷的复合材质壳体制备方法及由该方法所制备的壳体。
背景技术：
激光熔覆技术是利用高能密度的激光束在金属基材表面形成合金复合层，采用激光熔覆技术所形成的合金复合层与冶金结合所形成合金复合层具有不同成分和性能，该エ艺可以在普通的金属基材上形成高性能的合金覆层表面，由其是在航天、汽车等相关领域内被广泛应用。激光熔覆技术也应用于消费电子产品的外壳等领域，但消费电子产品的外壳要求合金覆层与基材的结合強度、壳体韧性及加工精度高，现有的激光熔覆技术对于具有三维结构的消费电子产品的外壳加工，存在壳体的边缘合金结合力不足的弊端。
发明内容
有鉴于此，有必要提供ー种金属和陶瓷的复合材质壳体制备方法，该方法制备的壳体，其边缘金属和陶瓷的合金结合力強。一种壳体的制备方法，其包括如下步骤
提供金属基材；
在该金属基材上形成陶瓷层； 利用激光熔覆该陶瓷层，使得该陶瓷层与位于其下部金属基材部分熔融一体形成复合
层；
冷却后，对该形成有复合层的金属基材进行热处理；
冲压成型，得到边缘具有立体结构的壳体。另外，本发明还提供了采用所述方法所制备的壳体。本发明提供ー种激光熔覆技术，在金属基材上形成ー陶瓷和金属层部分相互熔融的复合层，之后，再对该具有复合层的壳体进行热处理，以消除激光合金化过程中由于温度梯度造成的内应カ及金属和陶瓷的边缘合金化结合不足的弊端，最后把加工好的壳体进行冲压，得到边缘具有三维结构的壳体。
图1为本发明一较佳实施例壳体激光熔覆形成复合层示意图。图2为本发明一较佳实施例壳体激光熔覆后形成复合层的截面剖视图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种壳体的制备方法，该壳体为金属和陶瓷的复合壳体，包括如下步骤 提供金属基材； 在该金属基材上形成陶瓷层； 利用激光熔覆该陶瓷层，使得该陶瓷层与位于其下部金属基材部分熔融一体形成复合层； 冷却后，对该形成有复合层的金属基材进行热处理； 成型加工以形成三维结构的壳体。
2.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于所述金属基材为不锈钢或铝合金。
3.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于所述陶瓷层采用喷涂或涂覆的方法形成，该陶瓷层的陶瓷材料为氧化物陶瓷或碳化物陶瓷或氮化物陶瓷。
4.如权利要求3所述的壳体的制备方法，其特征在于所述陶瓷层中的陶瓷粒为10unT30um，喷涂厚度为 O. 03 O. 08mm。
5.如权利要求3所述的壳体的制备方法，其特征在于所述陶瓷层中的陶瓷粒直径为10unT30um，喷涂陶瓷层的厚度为O. 03^0. 08mm。
6.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于激光熔覆工艺参数如下激光器为脉冲红宝石激光，激光介质为钕(Nd)，激光波长1. 06um，激光功率为2 50W，聚焦光斑直径O. 5-1. 0mm，激光功率密度8MW/cm2，激光熔融深度O. Γθ. 5mm，激光熔融宽度l(T20mm，激光束性质摆动式690-750HZ，进给速度为5 10mm/s。
7.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于激光熔覆陶瓷与金属基材的深度 O. 2 1. Omm。
8.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于所述热处理工艺参数金属基材为不锈钢，将该不锈钢基材壳体的温度0°C升到900°C的时间为3(Γ50分钟；保持900°C的温度时间为6(Tl20分钟；升温之后降温，温度由900°C降到600°C为3(Γ60分钟；600°C降到200°C用8(Γ150分钟；200°C自然降温至室温，完成热处理。
9.如权利要求1所述的壳体的制备方法，其特征在于所述热处理工艺参数金属基材为铝合金，将铝合金基材的壳体的温度从0°c升到600°C的时间为3(Γ50分钟；保持600°C的温度时间为6(Γ 120分钟；升温之后降温，温度由600°C降到150°C为3(Γ60分钟；150°C降到室温用8(Γ150分钟。
10.一种如权利要求1-9任一项所述制备方法所制备的壳体。
全文摘要
本发明提供一种壳体的制备方法，提供金属基材；在该金属基材上形成陶瓷层；利用激光熔覆该陶瓷层，使得该陶瓷层与位于其下部金属基材部分熔融一体形成复合层；冷却后，对该形成有复合层的金属基材进行热处理；冲压成型，得到边缘具有立体结构的壳体。本发明还提供所述方法制备的壳体。
文档编号C23C24/10GK103031555SQ201110304370
公开日2013年4月10日 申请日期2011年10月10日 优先权日2011年10月10日
发明者王仁博, 关辛午 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司