专利名称：透明导电层的溅射靶材构造的制作方法
技术领域：
透明导电层的溅射靶材构造
技术领域：
本实用新型涉及一种透明导电层的溅射靶材构造，特别是涉及一种具有厚度变化的溅射靶材构造。
背景技术：
液晶显示器(liquid crystal display, LCD)是利用液晶材料的特性来显示图像的一种平板显示装置(flat panel display，FPD)，其相较于其它显示装置而言具轻薄、 低驱动电压及低功耗等优点，已经成为整个消费市场上的主流产品。现今液晶显示面板的制作过程中，大致可分为前段矩阵(Array)工艺、中段成盒(Cell)工艺及后段模块化 (Module)工艺。前段的矩阵工艺为生产薄膜式晶体管(TFT)阵列基板及彩色滤光片(CF) 基板；中段成盒工艺则将TFT基板与CF板组合，并两者之间注入液晶并切割符合产品尺寸的面板；后段模块化工艺则为组装的面板与背光模块、面板驱动电路、外框等的工艺。其中， 在中段成盒工艺中包含有一透明导电层(ITOJndium Tin Oxide)的制作过程，所谓透明导电层(ITO)即是成份为氧化铟锡的透明导电材料。需在CF基板以及TFT基板上形成透明导电层，一般采用ITO层来实现，因为ITO层除了其透明性与导电性优良之外，还具有良好的蚀刻特性及可靠性，因此被应用于制作LCD 中所需要的透明导电层。现有的透明导电层的制作方法，主要是通过溅镀(Sputtering)原理，以磁控溅射的方法在基板上镀上一层ITO层。溅镀是利用电浆中的电位梯度将离子(通常选用钝气离子)加速并撞击靶材(阴极)，通过动量及能量转移，使原子从靶材表面移开， 使其具挥发性而飞向基板(阳极)的一种物理现象。在透明导电层的制作过程中溅射靶材是主要的消耗材料。通常，溅射靶材具有固定的本体形状，如长方体状。靶材在整个ITO层制作过程中各部分的使用率是不相同的。因此溅射靶材在使用时其两端和边缘的使用率较低，造成材料的浪费。而ITO靶材的价格非常昂贵，这样直接造成制作成本的浪费。因此，有必要提供一种透明导电层的溅射靶材构造，以解决现有技术所存在的问题。
实用新型内容本实用新型的主要目的是提供一种透明导电层的溅射靶材构造，以解决现有技术中溅射靶材利用率不一所产生的材料浪费的问题。为达上述目的，本实用新型提供一种透明导电层的溅射靶材构造，包括所述溅射靶材构造包含一中央板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部；其中所述短边厚度变化端部的厚度大于所述中央板状部的厚度；所述长边厚度变化边部的厚度小于所述中央板状部的厚度；以及所述中央板状部、所述二短边厚度变化端部及所述二长边厚度变化边部的上表面为同平面设置。在本实用新型的一实施例中，所述短边厚度变化端部具有一非平面状的短边端[0009]在本实用新型的一实施例中，所述非平面状的短边端面是呈凿状的端面。在本实用新型的一实施例中，所述呈凿状端面在直角边上形成45度的切边的宽度为所述溅射靶材构造宽度的1/3至1/2。在本实用新型的一实施例中，所述非平面状的短边端面是呈外凸式的双峰形端在本实用新型的一实施例中，所述短边厚度变化端部的长度为所述溅射靶材构造长度的1/16至1/8。在本实用新型的一实施例中，所述短边厚度变化端部的厚度为所述中央板状部厚度的3/2至2倍。在本实用新型的一实施例中，所述二长边厚度变化边部的宽度为所述溅射靶材构造宽度的1/10至1/8。在本实用新型的一实施例中，所述二长边厚度变化边部的厚度为所述中央板状部厚度的9/10至8/10。在本实用新型的一实施例中，所述溅射靶材构造设于一固定钢板的上表面上，所述固定钢板上表面的形状与所述溅射靶材构造的底部形状相对应。本实用新型的所述透明导电层的溅射靶材构造依据溅射靶材实际的消耗情况，在不同的部位设计不同的厚度变化方案，以减少所述溅射靶材在使用过程中材料的浪费，从而节省透明导电层的制作成本。
图1是本实用新型揭示的透明导电层的溅射靶材材料消耗的示意图。图2是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第一实施例的立体示意图。图3A是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第二实施例的立体示意图。图;3B是图3A另一视角的立体示意图。图4是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第三实施例的立体示意图。图5是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第四实施例的立体示意图。
具体实施方式为让本实用新型上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本实用新型较佳实施例，并配合附图，作详细说明。为让本实用新型上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本实用新型较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。再者，本实用新型所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。请参照图1，图1是本实用新型揭示的透明导电层的溅射靶材材料消耗的示意图。 如图1所示，在透明导电层的制作过程中主要的消耗材料是溅射靶材90，其包含二短边91 及二长边92。图1以材料厚度的变化量曲线图来表示一般溅射靶材90消耗的情况。其中， 材料消耗以A区域最多，其次是B区域，再其次是C区域，而D区域显示没有材料消耗。因此，由图1得知，在透明导电层的制作过程中，一般而言，所述溅射靶材90靠两短边91的消耗较中间为多；另外，所述溅射靶材90靠两二长边92边缘的消耗较中间为少。需要注意的是，虽然溅射靶材90靠两短边的消耗较中间为多，但在此部分的消耗又呈现出一种不规则的消耗分布，其约呈一外凸式的双峰形的消耗情况。本实用新型针对背景技术中透明导电层的溅射靶材的实际消耗情况，提供以下溅射靶材厚度变化的实施例，以减少溅射靶材在使用过程中材料的浪费，从而节省透明导电层的制作成本。请参照图2，图2是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第一实施例的立体示意图。本实用新型的第一实施例的溅射靶材构造10约呈一长方形的片状体，为了说明上的方便，将所述溅射靶材构造10的二个较短的边缘称为短边，二个较长的边缘称为长边。如图 2所示，所述溅射靶材构造10包含一中央板状部11及二短边厚度变化端部12。另外，所述中央板状部11及所述二短边厚度变化端部12的上表面为同平面设置。如图2所示，在本实施例中，由于所述溅射靶材构造10的所述短边厚度变化端部 12的消耗较中央板状部11为多，因此将所述短边厚度变化端部12设计的较厚；将所述中央板状部11设计得较薄。通过所述短边厚度变化端部12的设计，可减少所述中央板状部 11材料的浪费。另外，如图2所示，所述溅射靶材构造10设于一固定钢板20的上表面上， 所述固定钢板20上表面的形状与所述溅射靶材构造10的底部形状相对应。优选地，所述短边厚度变化端部12的长度为所述溅射靶材构造10长度的1/16至 1/8 ；所述短边厚度变化端部12的厚度为所述中央板状部11厚度的3/2至2倍。请参照图3A及3B，图3A是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第二实施例的立体示意图；图3B是图3A另一视角的立体示意图。本实用新型第二实施例的溅射靶材构造 IOa与本实用新型第一实施例的溅射靶材构造10的不同之处在于在本实施例中，所述溅射靶材构造IOa在所述溅射靶材构造IOa的宽度方向(较短的方向)的两端的边缘另设有二长边厚度变化边部13a。另外，所述中央板状部Ila及所述二长边厚度变化边部13a的上表面为同平面设置。由于所述溅射靶材构造IOa的所述长边厚度变化边部13a的消耗较中央板状部 Ila为少，因此将所述长边厚度变化边部13a设计得较所述中央板状部Ila薄。通过所述长边厚度变化边部13a的设计，可减少所述溅射靶材构造IOa在所述长边厚度变化边部13a 的材料的浪费。优选地，所述二长边厚度变化边部13a的宽度为所述溅射靶材构造IOa宽度的 1/10至1/8 ；所述二长边厚度变化边部13a的厚度为所述中央板状部Ila厚度的9/10至 8/10。在此实施例中，所述透明导电层的溅射靶材构造包含一中央板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部。其中，所述短边厚度变化端部的厚度大于所述中央板状部的厚度；所述长边厚度变化边部的厚度小于所述中央板状部的厚度；以及所述中央板状部、所述二短边厚度变化端部及所述二长边厚度变化边部的上表面为同平面设置。请参照图4，图4是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第三实施例的立体示意图。本实用新型第三实施例的溅射靶材构造IOb与本实用新型第一实施例的溅射靶材构造 10的不同之处在于在本实施例中，所述短边厚度变化端部12b具有一非平面状的短边端面。这里所指的所述非平面状的短边端面，是指在图4中所述短边厚度变化端部12b外侧上非单一平面的垂直面。具体来说，所述非平面状的短边端面是呈外凸式的双峰形端面。由于所述溅射靶材构造IOb靠两短边的消耗较中间为多，但在此部分的消耗呈现出一种不规则的消耗分布，约呈一外凸式的双峰形的消耗情况，在双峰形之外没有材料消耗的情形。因此，将所述短边厚度变化端部12b设计成与材料没有消耗处对应的形状，从而减少所述溅射靶材构造IOb在两端不必要的材料浪费。另外，本实用新型第三实施例亦可与第二实施例合并为另一可能的实施例(未绘示)°请参照图5，图5是本实用新型透明导电层的溅射靶材的第四实施例的立体示意图。本实用新型第四实施例的溅射靶材构造IOc与本实用新型第一实施例的溅射靶材构造 10的不同之处在于在本实施例中，所述短边厚度变化端部12c具有的非平面状的短边端面为一凿状的端面，也就是两角落具有切角的设计，此处所谓的切角即是机械加工领域中的切角(chamfer)，或称为倒角，一般是在直角边上形成一个45度的切边。由于所述溅射靶材构造IOc靠两短边的消耗呈一外凸式的双峰形的消耗情况，但考虑到如图4的第三实施例可能增加的加工成本，因此本实施例以另一种较为简易的端面造型来达到相近的节省材料的效果。优选地，所述呈凿状端面12c的切角宽度为所述溅射靶材构造IOc宽度的1/3至 1/2。另外，本实用新型第三实施例亦可与第二实施例合并为另一可能的实施例(未绘示)°综上所述，相较于现有技术中，由于一般的溅射靶材并未经过特殊的形状设计，在整个ITO制作过程中各部分的使用率是不相同的。因此溅射靶材在使用时其两端和边缘的使用率较低，造成材料的浪费。而ITO靶材的价格非常昂贵，这样直接造成制作成本的浪费。本实用新型的所述透明导电层的溅射靶材构造10依据所述溅射靶材构造10的实际的消耗情况，在不同的部位设计不同的厚度变化方案，以减少溅射靶材在使用过程中材料的浪费，从而节省透明导电层的制作成本。本实用新型已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本实用新型的范例。必需指出的是，已公开的实施例并未限制本实用新型的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本实用新型的范围内。
权利要求1.一种透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述溅射靶材构造包含一中央板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部；其中所述短边厚度变化端部的厚度大于所述中央板状部的厚度；所述长边厚度变化边部的厚度小于所述中央板状部的厚度；以及所述中央板状部、所述二短边厚度变化端部及所述二长边厚度变化边部的上表面为同平面设置。
2.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述短边厚度变化端部具有一非平面状的短边端面。
3.如权利要求2所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述非平面状的短边端面是呈凿状的端面。
4.如权利要求3所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述呈凿状端面在直角边上形成45度的切边的宽度为所述溅射靶材构造宽度的1/3至1/2。
5.如权利要求2所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述非平面状的短边端面是呈外凸式的双峰形端面。
6.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述短边厚度变化端部的长度为所述溅射靶材构造长度的1/16至1/8。
7.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述短边厚度变化端部的厚度为所述中央板状部厚度的3/2至2倍。
8.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述二长边厚度变化边部的宽度为所述溅射靶材构造宽度的1/10至1/8。
9.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述二长边厚度变化边部的厚度为所述中央板状部厚度的9/10至8/10。
10.如权利要求1所述的透明导电层的溅射靶材构造，其特征在于所述溅射靶材构造设于一固定钢板的上表面上，所述固定钢板上表面的形状与所述溅射靶材构造的底部形状相对应。
专利摘要本实用新型公开一种透明导电层的溅射靶材构造，包含一中央板状部、二短边厚度变化端部及二长边厚度变化边部。其中所述短边厚度变化端部的厚度大于所述中央板状部的厚度；以及所述长边厚度变化边部的厚度小于所述中央板状部的厚度。另外，所述短边厚度变化端部具有一非平面状的短边端面。本实用新型的所述透明导电层的溅射靶材构造依据材料实际的消耗情况，在不同的部位设计不同的厚度变化方案，以减少所述溅射靶材在使用过程中材料的浪费，从而节省透明导电层的制作成本。
文档编号C23C14/34GK202322993SQ20112046214
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月21日 优先权日2011年11月21日
发明者陈林 申请人:深圳市华星光电技术有限公司