专利名称：旋转阴极机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及溅射镀膜工艺，尤其是频溅射镀膜工艺中用于溅射的阴极即溅射靶，具体地说是一种旋转阴极机构。
背景技术：
目前，在中频溅射镀膜工艺中常用于溅射的两个阴极(也叫溅射靶)，通常为并排的两个平面靶，尺寸和外形全部相同，这两个靶常称为孪生靶。孪生靶在溅射室中悬浮安装，在溅射过程中，两个靶周期性轮流作为阴极与阳极。由于采用的溅射靶材的工作方式是固定，溅射靶材消耗的形状是按照磁场的正弦值成比例的，会形成一个上宽下窄的蚀刻形状，使得靶材的消耗不均匀，因此靶材一次利用率为15%左右。同时由于靶材利用率低，在镀膜生产过程中靶材消耗速度快，当靶材消耗结束时，必须要停产，更换靶材，造成生产周期比较短、设备利用率不高等不足。
发明内容本实用新型的目的是针对现有的溅射靶所存在的靶材消耗不均匀、利用率低和消耗速度快的问题，提出一种新型旋转阴极机构，通过在溅射过程中旋转靶材，使得靶材在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀，将靶材一次利用率提高到> 80%以上；同时可以有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。本实用新型的技术方案是:一种旋转阴极机构，它包括靶旋转机构、靶支架、冷却水管和依次安装在冷却水管外侧的极靴、多个条形磁铁、靶材，上述套管的一侧装有一端盖，另一端安装靶旋转机构和靶支架，所述的条形磁铁和靶材之间套装不锈钢管。本实用新型的极靴的外侧设有多个定位槽，相应的多个条形磁铁分别安装在极靴的定位槽内。本实用新型的条形磁铁的组合方式是每路条形磁铁的朝向相同，按S-N-S-N排布在不锈钢管内。本实用新型的条形磁铁为四个，均匀分布在极靴外壁的定位槽内。本实用新型的冷却水管的一端为冷却水进口，另一端为冷却水出口。本实用新型的有益效果:本实用新型为一种新型机构，通过在溅射过程中旋转靶材，使得靶材在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀，将靶材一次利用率提高到> 80%以上；同时可以有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。本实用新型由若干根长条形永磁体沿靶轴线方向排成数列，可以产生对称分布的细条型封闭跑道。因此靶所具有的性能与平面矩形磁控原理基本相同，它吸收了平面矩形靶的优点，其特点是:1、沉积的膜厚均匀；[0014]2、沉积速率高、溅射效率高；3、可在较大范围内沉积牢固、均匀性好的膜；4、通过靶的匀速旋转运动，可使靶材的利用率大大提高；5、由于靶的旋转运动，能很好的避免打火掉渣现象。
图1是本实用新型的主视结构示意图。图2是本实用新型的剖面结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。如图1所示，一种旋转阴极机构，它包括靶旋转机构4、靶支架3、冷却水管8和依次安装在冷却水管8外侧的极靴7、多个条形磁铁6、祀材5,上述套管的一侧装有一端盖9,另一端安装靶旋转机构4和靶支架3，所述的条形磁铁6和靶材5之间套装不锈钢管。本实用新型的极靴7的外侧设有多个定位槽，相应的多个条形磁铁6分别安装在极靴7的定位槽内；如图2所示，条形磁铁6的组合方式是每路条形磁铁的朝向相同，按S-N-S-N排布在不锈钢管内；条形磁铁6为四个，均匀分布在极靴7外壁的定位槽内。本实用新型的冷却水管8的一端为冷却水进口 1，另一端为冷却水出口 2。本实用新型为一种新型机构，通过在溅射过程中旋转靶材，使得靶材在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀，将靶材一次利用率提高到> 80%以上；同时可以有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。本实用新型未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
权利要求1.一种旋转阴极机构，其特征是它包括靶旋转机构(4)、靶支架(3)、冷却水管(8)和依次安装在冷却水管(8)外侧的极靴(7)、多个条形磁铁(6)、靶材(5)，上述套管的一侧装有一端盖(9 )，另一端安装靶旋转机构(4 )和靶支架(3 )，所述的条形磁铁(6 )和靶材(5 )之间套装不锈钢管。
2.根据权利要求1所述的旋转阴极机构，其特征是所述的极靴(7)的外侧设有多个定位槽，相应的多个条形磁铁(6)分别安装在极靴(7)的定位槽内。
3.根据权利要求2所述的旋转阴极机构，其特征是所述的条形磁铁(6)的组合方式是每路条形磁铁的朝向相同，按S-N-S-N排布在不锈钢管内。
4.根据权利要求2所述的旋转阴极机构，其特征是所述的条形磁铁(6)为四个，均匀分布在极靴(7)外壁的定位槽内。
5.根据权利要求1所述的旋转阴极机构，其特征是所述的冷却水管(8)的一端为冷却水进口(1)，另一端为冷却水出口(2)。
专利摘要一种旋转阴极机构，它包括靶旋转机构(4)、靶支架(3)、冷却水管(8)和依次安装在冷却水管(8)外侧的极靴(7)、多个条形磁铁(6)、靶材(5)，上述套管的一侧装有一端盖(9)，另一端安装靶旋转机构(4)和靶支架(3)，所述的条形磁铁(6)和靶材(5)之间套装不锈钢管。本实用新型为一种新型机构，通过在溅射过程中旋转靶材，使得靶材在整区域的消耗能够均匀的进行刻蚀，将靶材一次利用率提高到≥80%以上；同时可以有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。
文档编号C23C14/34GK202913051SQ201220096370
公开日2013年5月1日 申请日期2012年3月14日 优先权日2012年3月14日
发明者朱殿荣, 曹俊 申请人:无锡康力电子有限公司