专利名称：溅镀治具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种治具，特别是涉及一种用于固定待镀物以进行溅镀制程的溅镀治具。
背景技术：
「溅镀」是利用电浆产生的离子去撞击阴极靶材，将靶材内的原子撞出而沉积于阳极的待镀物表面，以堆积成膜层。由于溅镀可达成较佳的沉积效率、精确的成分控制，以及较低的制造成本，因此已被业界广泛应用。然而有的溅镀制程并不需要涂布整个待镀物表面，例如只需涂布一侧表面、两侧表面的中央部位，或其他侧面、部位，所以溅镀时，需以治具固定该待镀物，同时以挡板遮蔽无需溅镀的部位，以确保该部位仍可保持洁净。而随着电子设备轻、薄、短、小的设计趋势，应用于陶瓷电容、热敏电阻、压敏电阻或突波吸收器…等被动组件或芯片的尺寸也逐渐微小化、精密化，对此小尺寸的待镀物而言，产品的生产效率及良率往往即是厂商生存竞争的重点。但因尺寸微小的待镀物较难个别夹持定位，所以一般对于大量微型化待镀物进行溅镀加工时，通常只是将其分别摆放在溅镀平台上，于进行溅镀时，容易遇到非等向性溅镀的问题，使得无需溅镀的部位也会遭到溅镀，导致产品良率降低。此外，利用机具自该溅镀平台上一一取放所述微型化待镀物，也较费时不便，往往造成生产效率难以提升。
发明内容本实用新型的目的在于提供一种可夹持大量待镀物进行溅镀的溅镀治具。本实用新型的另一目的在于提供一种可有效提升生产效率及产品良率的溅镀治具。本实用新型溅镀治具，包含一个第一平板结构，该第一平板结构具有一个上表面，及一个下表面；该第一平板结构还具有数个分别贯穿该上表面与该下表面的贯穿孔，而该溅镀治具还包含一个对应该第一平板结构且用于与该第一平板结构共同夹合数个待镀物的第二平板结构，所述待镀物分别对应容装于所述贯穿孔中。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的每一个贯穿孔都具有一个溅镀槽，及一个连通该溅镀槽且供该待镀物嵌置的容置槽，该溅镀槽呈中空开孔状，并具有一个连通该上表面的上开口，及一个相反于该上开口且邻近该容置槽的下开口，该容置槽呈中空状，并具有一个连通该溅镀槽的下开口的上开口、一个远离该溅镀槽且连通该下表面的下开口，及一个围绕在该上开口周围的遮挡面，该待镀物由该下开口进入该容置槽且靠置于该遮挡面。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的每一个贯穿孔中，该溅镀槽的该上开口的尺寸大于等于该下开口的尺寸，且该容置槽的该上开口的尺寸等于该溅镀槽的该下开口的尺寸。本实用新型所述溅镀治具，该第二平板结构具有一个上表面、一个下表面，及数个分别贯穿该上表面与该下表面且对应连通该第一平板结构的所述贯穿孔的贯穿孔，所述待镀物分别容置于该第一平板结构的所述贯穿孔与该第二平板结构的所述贯穿孔间。本实用新型所述溅镀治具，该第二平板结构的每一个贯穿孔都具有一个溅镀槽，及一个连通该溅镀槽且供该待镀物嵌置的容置槽，该溅镀槽呈中空开孔状，并具有一个连通该上表面的上开口，及一个相反于该上开口且邻近该容置槽的下开口，该容置槽呈中空状，并具有一个连通该溅镀槽的下开口的上开口、一个远离该溅镀槽且连通该下表面的下开口，及一个围绕在该上开口周围的遮挡面，该待镀物由该下开口进入该容置槽且靠置于该遮挡面，各待镀物都容置于相连通的该第一平板结构的容置槽与该第二平板结构的容置槽内。本实用新型所述溅镀治具，该第二平板结构的每一个贯穿孔中，该溅镀槽的该上开口的尺寸大于等于该下开口的尺寸，且该容置槽的该上开口的尺寸等于该溅镀槽的该下开口的尺寸。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐，该第二平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐。本实用新型所述溅镀治具，该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置，该第二平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置。本实用新型的有益效果在于利用该第一平板结构与该第二平板结构共同夹合所述待镀物，并让所述待镀物分别容置于所述贯穿孔中，以供同时大量地溅镀所述待镀物，所以能有效地提升生产效率及产品良率。
图I是本实用新型溅镀治具的第一较佳实施例的一正视示意图；图2是沿图I中的线2-2的一剖面图；图3是沿图I中的线3-3的一剖面图；图4是该第一较佳实施例的一剖视分解示意图；及图5是本实用新型溅镀治具的第二较佳实施例的一正视示意图。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明为了方便说明，以下的实施例，类似的组件以相同的标号表示。参阅图I、图2与图3，本实用新型的溅镀治具的第一较佳实施例，是用于夹持固定数个待镀物1，例如陶瓷电容、热敏电阻、压敏电阻或突波吸收器…等被动组件或芯片，但不以此为限。该溅镀治具包含一个第一平板结构2、一个第二平板结构3，及数个分别锁接固定该第一平板结构2与该第二平板结构3的固定件4。该第一平板结构2与该第二平板结构3的材料，可为铝、不锈钢、压克力、尼龙或工程塑料等材料，惟其材料为一般技术并非本实用新型重点，所以实施上不以上述材料为限。该第一平板结构2具有一个上表面21、一个下表面22，及数个分别贯穿该上表面21与该下表面22的贯穿孔23。每一个贯穿孔23都具有一个溅镀槽231，及一个连通该溅镀槽231且供该待镀物I嵌置的容置槽232。所述贯穿孔23平行排列成数排，而且每一排贯穿孔23的各贯穿孔23都与其相邻排贯穿孔23的相邻贯穿孔相互对齐，也就是令所述贯穿孔23呈垂直纵横排列，但其排列方式不以本实施例为限。该第二平板结构3的构造相同于该第一平板结构2，在本实施例图中，该第二平板结构3对应位于该第一平板结构2的下方，但设置方向与该第一平板结构2颠倒相反，用于和该第一平板结构2共同夹合所述待镀物I。该第二平板结构3同样具有一个上表面31、一个下表面32，及数个分别贯穿该上表面31与该下表面32且对应连通该第一平板结构2的贯穿孔23的贯穿孔33。每一个贯穿孔33都具有一个溅镀槽331，及一个连通该溅镀槽331且供该待镀物I嵌置的容置槽332。而且所述贯穿孔33的排列方式对应于该第一平板结构2的贯穿孔23，同样也是呈纵横垂直排列。所述固定件4可分别为螺丝、螺钉或螺栓…等，只要能将该第一平板结构2与该第二平板结构3锁接固定在一起即可，实施上不受限于本实施例。如图I、图3及图4所示，进一步说明该第一平板结构2的贯穿孔23与该第二平板结构3的贯穿孔33的细部构造。就该第一平板结构2的各贯穿孔23而言，该溅镀槽231呈中空开孔状，本实施例为上宽下窄的锥孔状，并具有一个连通该上表面21的上开口 233，及一个相反于该上开口 233且邻近该容置槽232的下开口 234。该容置槽232呈柱孔状，并具有一个连通该溅镀槽231的下开口 234的上开口 235、一个远离该溅镀槽231且连通该下表面22的下开口 236，及一个围绕在该上开口 235周围且呈中空环状的遮挡面237。该溅镀槽231的该上开口 233的尺寸大于等于该溅镀槽231的该下开口 234的尺寸，且该容置槽232的该上开口 235的尺寸等于该溅镀槽231的该下开口 234的尺寸，该容置槽232的该下开口 236的尺寸等于该容置槽232的该上开口 235和该遮挡面237相加的尺寸。各待镀物I邻近该第一平板结构2的一端11，由该下开口 236进入该容置槽232且靠置于该遮挡面237，令该遮挡面237对应遮蔽该待镀物I无需溅镀的周缘部位。再看该第二平板结构3的各贯穿孔33，其构造及形状对称于该第一平板结构2的各贯穿孔23，该溅镀槽331也具有一个连通该上表面31的上开口 333，及一个相反于该上开口 333且邻近该容置槽332的下开口 334。该容置槽332也具有一个连通该溅镀槽331的下开口 334的上开口 335、一个远离该溅镀槽331且连通该下表面32的下开口 336，及一个围绕在该上开口 335周围且呈中空环状的遮挡面337。该溅镀槽331的该上开口 333的尺寸大于等于该溅镀槽331的该下开口 334的尺寸，且该容置槽332的该上开口 335的尺寸等于该溅镀槽331的该下开口 334的尺寸，该容置槽332的该下开口 336的尺寸等于该容置槽332的该上开口 335和该遮挡面337相加的尺寸。各待镀物I邻近该第二平板结构3的一端12，由该下开口 336进入该容置槽332且靠置于该遮挡面337，令该遮挡面337对应遮蔽该待镀物I无需溅镀的周缘部位。组装时，先将所述待镀物I分别放置于该第二平板结构3的容置槽332，再将该第一平板结构2盖上，由于第一平板结构2的贯穿孔23与第二平板结构3的贯穿孔33相互对齐，所以该第一平板结构2的容置槽232会分别对应容纳所述待镀物I，使得各待镀物I都容置于相连通的该第一平板结构2的容置槽232与该第二平板结构3的容置槽332内，接着再通过所述固定件4将第一平板结构2与第二平板结构3锁接固定。当然也可以先将所述待镀物I分别放置于该第一平板结构2，再盖上该第二平板结构3，接着利用所述固定件4锁接。溅镀时，将已夹合固定所述待镀物I的该溅镀治具，放入一个溅镀装置(图未示)进行溅镀，若该溅镀装置只有一个靶材时，可先使该第一平板结构2面向该靶材，让靶材撞出的原子进入所述溅镀槽231，并沉积于所述待镀物I裸露于所述上开口 233的表面上，先完成一表面溅镀，接着再翻转该溅镀治具，使该第二平板结构3面向该靶材，让靶材撞出的 原子进入所述溅镀槽331，并沉积于所述待镀物I裸露于所述上开口 333的表面上，以完成另一表面溅镀，所以本实用新型能方便地置放、收取及移动、翻转所述待镀物1，并能达到同时大量溅镀的效果。又若该溅镀装置具有两个间隔相对的靶材时，即可将该溅镀治具放在所述靶材间，令该第一平板结构2与该第二平板结构3各自面向靶材，让所述靶材撞出的原子分别进入所述溅镀槽231、331，并沉积于所述待镀物I裸露于所述上开口 233、333的表面上，以更加快速地同时完成双面溅镀。当然在实施上，该第二平板结构3也可以省略所述贯穿孔33的设置，令该第一平板结构2的所述容置槽232的尺寸对应于所述待镀物I的尺寸，组装时将所述待镀物I分别装入该第一平板结构2的所述容置槽232，并以该第二平板结构3盖合定位，最后再通过所述固定件4锁接，而溅镀时令该第一平板结构2面向该靶材，让靶材撞出的原子进入所述溅镀槽231，并沉积于所述待镀物I裸露于所述上开口 233的表面上，以完成单面溅镀，所以实施时并不局限于本实施例。值得一提的是，所述溅镀槽231、331及所述容置槽232、332的尺寸、形状也可以改变，例如所述溅镀槽231、331的上开口 233、333与下开口 234、334，及所述容置槽232、332的上开口 235、335与下开口 236、336的形状不一定为圆形，可为矩形，其形状可视待镀物I的形状及待镀需求而改变。此外，本实施例的溅镀槽231、331的上开口 233、333的尺寸大于下开口 234、334的尺寸，因此待镀物I裸露于下开口 234、334的部位能充分受到溅镀，而产生较佳的溅镀效果。参阅图5，本实用新型的溅镀治具的第二较佳实施例的构造大致与第一实施例相同，不同的部分在于第一平板结构2的贯穿孔23排列方式不同，所述贯穿孔23平行排列成数排，而且每一排贯穿孔23的各贯穿孔23都与其相邻排贯穿孔23的相邻贯穿孔23相互错置，也就是令所述贯穿孔23呈非垂直纵横排列，但其排列方式不以本实施例为限。当然，由于该第二平板结构3的贯穿孔33(图4)对应于该第一平板结构2的贯穿孔23排列，所以在此不再说明。综上所述，本实用新型的溅镀治具，利用该第一平板结构2与该第二平板结构3共同夹合所述待镀物1，并让所述待镀物I分别容置于相连通的所述容置槽232、332中，所以能同时夹合固定大量待镀物1，以快速方便地移动取放，而且溅镀时能供靶材撞出的原子进入所述溅镀槽231、331，以同时大量地溅镀所述待镀物1，并能通过遮挡面237、337遮蔽该待镀物I无需溅镀的周缘部位，以解决溅镀时非等向性的问题，所以该溅镀治具可有效提 升生产效率及产品良率，以达到本实用新型的目的。
权利要求1.一种溅镀治具，包含一个第一平板结构，该第一平板结构具有一个上表面，及一个下表面；其特征在于该第一平板结构还具有数个分别贯穿该上表面与该下表面的贯穿孔，而该溅镀治具还包含一个对应该第一平板结构且用于与该第一平板结构共同夹合数个待镀物的第二平板结构，所述待镀物分别对应容装于所述贯穿孔中。
2.根据权利要求I所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的每一个贯穿孔都具有一个溅镀槽，及一个连通该溅镀槽且供该待镀物嵌置的容置槽，该溅镀槽呈中空开孔状，并具有一个连通该上表面的上开口，及一个相反于该上开口且邻近该容置槽的下开口，该容置槽呈中空状，并具有一个连通该溅镀槽的下开口的上开口、一个远离该溅镀槽且连通该下表面的下开口，及一个围绕在该上开口周围的遮挡面，该待镀物由该下开口进入该容置槽且靠置于该遮挡面。
3.根据权利要求2所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的每一个贯穿孔中，该溅镀槽的该上开口的尺寸大于等于该溅镀槽的该下开口的尺寸，且该容置槽的该上开口的尺寸等于该溅镀槽的该下开口的尺寸。
4.根据权利要求1、2或3所述的溅镀治具，其特征在于该第二平板结构具有一个上表面、一个下表面，及数个分别贯穿该上表面与该下表面且对应连通该第一平板结构的所述贯穿孔的贯穿孔，所述待镀物分别容置于该第一平板结构的所述贯穿孔与该第二平板结构的所述贯穿孔间。
5.根据权利要求4所述的溅镀治具，其特征在于该第二平板结构的每一个贯穿孔都具有一个溅镀槽，及一个连通该溅镀槽且供该待镀物嵌置的容置槽，该溅镀槽呈中空开孔状，并具有一个连通该上表面的上开口，及一个相反于该上开口且邻近该容置槽的下开口，该容置槽呈中空状，并具有一个连通该溅镀槽的下开口的上开口、一个远离该溅镀槽且连通该下表面的下开口，及一个围绕在该上开口周围的遮挡面，该待镀物由该下开口进入该容置槽且靠置于该遮挡面，各待镀物都容置于相连通的该第一平板结构的容置槽与该第二平板结构的容置槽内。
6.根据权利要求5所述的溅镀治具，其特征在于该第二平板结构的每一个贯穿孔中，该溅镀槽的该上开口的尺寸大于等于该溅镀槽的该下开口的尺寸，且该容置槽的该上开口的尺寸等于该溅镀槽的该下开口的尺寸。
7.根据权利要求I所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐。
8.根据权利要求I所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置。
9.根据权利要求4所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐，该第二平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互对齐。
10.根据权利要求4所述的溅镀治具，其特征在于该第一平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置，该第二平板结构的所述贯穿孔平行排列成数排，而且每一排贯穿孔的各贯穿孔都与其相邻排贯穿孔的相邻贯穿孔相互错置。
专利摘要一种溅镀治具，包含一个第一平板结构，该第一平板结构具有一个上表面，及一个下表面，该第一平板结构还具有数个分别贯穿该上表面与该下表面的贯穿孔，而该溅镀治具还包含一个对应该第一平板结构且用于与该第一平板结构共同夹合数个待镀物的第二平板结构，所述待镀物分别对应容装于所述贯穿孔中。本实用新型的溅镀治具是以该第一平板结构与该第二平板结构共同夹合所述待镀物，借以同时大量地溅镀所述待镀物，所以能提升生产效率及产品良率。
文档编号C23C14/50GK202786412SQ20122032032
公开日2013年3月13日 申请日期2012年7月4日 优先权日2011年12月19日
发明者李智渊, 黄耀贤, 蔡硕文, 蔡俊毅 申请人:鉅永真空科技股份有限公司