专利名称：特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及气体设备领域，具体而言，涉及一种特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备。
背景技术：
在等离子体增强化学气相带电沉积设备生产过程中，需要特气和微波，在高频低压的工艺环境下，在350度的高温下将从管路通入的特气(硅烷和氨气)经过微波打成等离子状态，然后附着到硅片表面，完成工艺。特气在经过特气管路时，形成的氮化硅粉末会在管内慢慢沉积到管壁和特气孔的侧壁上，经过长时间的累积，使特气管路和特气孔的气体流路变窄，影响气流流量的稳定性。
图I示出了等离子体增强化学气相带电沉积设备的特气管路的剖视结构示意图，特气管路包括进气管2和分气管1，进气管2连接到分气管I的中部，分气管I的两端封闭，侧壁上设置有多个特气孔13。目前，在对等离子体增强化学气相带电沉积设备的特气管路进行维护时，一般是对分气管I上的特气孔13进行钻头扩孔清理，清理后，特气孔13的孔径较为一致，但是依然不能很好清除分气管I内壁沉积的氮化硅粉末，这使得气流量稳定性难以得到保证。由于长时间的使用，管路内部氮化硅积累得会越来越多，最终会在特气供应时在吹扫作用下使得氮化硅被堆积在管路内两端，造成特气管路无法工作，从而需要对特气管路进行更换。
实用新型内容本实用新型旨在提供一种特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备，以解决现有技术中特气管路内氮化硅粉末难以清除的问题。为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种特气管路，包括分气管，内部具有气体容纳腔，侧壁上设置有与气体容纳腔相通的特气孔；进气管，一端与分气管内部的气体容纳腔连通，另一端与气源连通；分气管的两端部分别具有一个开口，分气管还包括用于封堵开口的第一封堵件和第二封堵件，第一封堵件和第二封堵件可拆卸地连接在分气管上。进一步地，上述开口设置在分气管的末端端面上。进一步地，上述开口设置在分气管的两端部的侧壁上。进一步地，两个上述开口的开口朝向相反。进一步地，上述开口的内壁上具有螺纹，第一封堵件和第二封堵件为与螺纹相匹配的螺栓。进一步地，上述开口的外壁上具有外螺纹，第一封堵件和第二封堵件为与外螺纹相匹配的封堵帽。进一步地，上述进气管包括第一横管，两端分别与分气管连通；第二横管，一端与第一横管连通，另一端与气源连通。[0012]进一步地，上述开口与和其最近的特气孔之间的距离不小于相邻的特气孔之间的距离。根据本实用新型的另一方面，还提供了一种等离子体增强化学气相带电沉积设备，包括特气管路，该特气管路为上述的特气管路。应用本实用新型的技术方案，在分气管的两端部设置两个开口，在特气管路工作时利用第一封堵件和第二封堵件将开口密封；当需要对特气管路进行维护时，通过其中一个开口向分气管的气体容纳腔内充气以吹扫附着在分气管的内壁和特气孔的侧壁上的氮化硅粉末等杂质，取得较好的清理效果，保证了在不更换管路的前提下通过简单的吹扫处理即能保持特气管路的通畅性和气流量的稳定性，延长了特气管路的使用寿命，节约了更换特气管路的成本。
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中图I示出了现有技术中的特气管路的结构示意图；图2示出了根据本实用新型的一种实施例的特气管路的结构示意图；图3示出了根据本实用新型的另一种实施例的特气管路的结构示意图；以及图4示出了根据本实用新型的又一种实施例的特气管路中分气管的结构示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。一种特气管路，包括分气管I和进气管2，分气管I的内部具有气体容纳腔，侧壁上设置有与气体容纳腔相通的特气孔13 ;进气管2的一端与分气管I内部的气体容纳腔连通，另一端与气源连通；上述分气管I的两端部分别具有一个开口，分气管I还包括用于封堵开口的第一封堵件11和第二封堵件12，第一封堵件11和第二封堵件12可拆卸地连接在分气管I上。如图2至4所示，具有上述结构的特气管路，采用在分气管I的两端部设置两个开口，在特气管路工作时利用第一封堵件11和第二封堵件12将开口密封；当需要对特气管路进行维护时，通过其中一个开口向分气管I的气体容纳腔内充气以吹扫附着在分气管I的内壁和特气孔13的侧壁上的氮化硅粉末等杂质，取得较好的清理效果，保证了在不更换管路的前提下通过简单的吹扫处理即能保持特气管路的通畅性和气流量的稳定性，延长了特气管路的使用寿命，节约了更换特气管路的成本。上述特气管路的开口设置在分气管I的两端部可以对整个特气管路进行清扫，开口的具体设置方式有多种，在本实用新型一种优选的实施例中，如图2所示，开口设置在分气管I的末端端面上。当采用上述方式设置开口时，吹扫时气体可以对整个分气管I的侧壁每个部位进行强力清理，效果较好。在本实用新型另一种优选的实施例中，上述开口设置在分气管I的两端部的侧壁上。直接在分气管I的侧壁上设置开口，加工方式简单，对两端部进行集中强力的吹扫，清理效果也较好。如图3所示，上述实施例中的开口可以选择任意的开口方向，优选两个开口的开口朝向相反。既能实现较好的清理效果又能保证吹扫时气流的稳定性。上述第一封堵件11和第二封堵件12的作用是用于封堵位于分气管I两端部的开口，只要能实现封堵作用都可作为本实用新型的封堵件。在本实用新型的又一种优选的实施例中，开口的内壁上具有螺纹，第一封堵件11和第二封堵件12为与螺纹相匹配的螺栓。将螺栓插入开口中并拧紧即可实现对开口的封堵作用。在本实用新型又一种优选的实施例中，上述开口的外壁上具有外螺纹，第一封堵件11和第二封堵件12为与外螺纹相匹配的封堵帽。将开口设置在分气管I的末端且与 分气管I的轴线平行时，采用具有与开口的螺纹相匹配的封堵帽即可实现对开口的封堵作用。上述的第一封堵件11和第二封堵件12处理采用上述方式设置外，也可以设置成与开口过盈配合的柱塞的形式。在本实用新型又一种优选的实施例中，如图4所示，特气管路的进气管2包括第一横管21和第二横管22，第一横管21的两端分别与分气管I连通；第二横管22的一端与第一横管21连通，另一端与气源连通。将进气管2与分气管I通过两个端口相连，使从气源而来的特气在分气管I中更均匀地分布，从而避免了的氮化硅粉末因为特气分布不均对分气管I的造成严重的局部堵塞增加后续的维护过程的难度的弊端。在对分气管I进行维护时，由于分气管I的管壁上分布有特气孔13，为了避免维护所用的气体过早地从特气孔13中冲出，优选开口与和其最近的特气孔13之间的距离不小于相邻的特气孔13之间的距离。在本实用新型的另一种典型的实施例中，提供了一种等离子体增强化学气相带电沉积设备，包括特气管路，该特气管路为上述的特气管路。具有上述结构的特气管路便于维护，因此也避免了由于特气管路的更换给整个等离子体增强化学气相带电沉积设带来复杂的拆卸问题，进而节约了等离子体增强化学气相带电沉积设备的使用成本。以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种特气管路,包括 分气管(1)，内部具有气体容纳腔，侧壁上设置有与所述气体容纳腔相通的特气孔(13)； 进气管(2)，一端与所述分气管(I)内部的气体容纳腔连通，另一端与气源连通； 其特征在于，所述分气管(I)的两端部分别具有一个开口，所述分气管(I)还包括用于封堵所述开口的第一封堵件(11)和第二封堵件(12)，所述第一封堵件(11)和第二封堵件(12)可拆卸地连接在所述分气管(I)上。
2.根据权利要求I所述的特气管路，其特征在于，所述开口设置在所述分气管(I)的末端端面上。
3.根据权利要求I所述的特气管路，其特征在于，所述开口设置在所述分气管(I)的两端部的侧壁上。
4.根据权利要求3所述的特气管路，其特征在于，两个所述开口的开口朝向相反。
5.根据权利要求I至4中任一项所述的特气管路，其特征在于，所述开口的内壁上具有螺纹，所述第一封堵件(11)和第二封堵件(12)为与所述螺纹相匹配的螺栓。
6.根据权利要求I或2所述的特气管路，其特征在于，所述开口的外壁上具有外螺纹，所述第一封堵件(11)和第二封堵件(12)为与所述外螺纹相匹配的封堵帽。
7.根据权利要求I所述的特气管路，其特征在于，所述进气管(2)包括 第一横管(21)，两端分别与所述分气管(I)连通； 第二横管(22)，一端与所述第一横管(21)连通，另一端与所述气源连通。
8.根据权利要求I所述的特气管路，其特征在于，所述开口与和其最近的所述特气孔(13)之间的距离不小于相邻的所述特气孔(13)之间的距离。
9.一种等离子体增强化学气相带电沉积设备，包括特气管路，其特征在于，所述特气管路为权利要求I至8中任一项所述的特气管路。
专利摘要本实用新型提供了一种特气管路及具有其的等离子体增强化学气相带电沉积设备。该特气管路包括分气管，内部具有气体容纳腔，侧壁上设置有与气体容纳腔相通的特气孔；进气管，一端与分气管内部的气体容纳腔连通，另一端与气源连通；分气管的两端部分别具有一个开口，分气管还包括用于封堵开口的第一封堵件和第二封堵件，第一封堵件和第二封堵件可拆卸地连接在分气管上。本实用新型的特气管路的分气管的两端部设置两个开口，在特气管路工作时利用第一封堵件和第二封堵件将开口密封；当需要对特气管路进行维护时，通过其中一个开口向分气管的气体容纳腔内充气以吹扫附着在分气管的内壁和特气孔的侧壁上的氮化硅粉末等杂质，取得较好的清理效果。
文档编号C23C16/50GK202688437SQ201220349119
公开日2013年1月23日 申请日期2012年7月18日 优先权日2012年7月18日
发明者李智洋 申请人:保定天威英利新能源有限公司