一种用于快速研磨抛光的工装盘的制作方法

文档序号:3330541阅读:171来源:国知局
一种用于快速研磨抛光的工装盘的制作方法
【专利摘要】本实用新型的名称为一种用于快速研磨抛光的工装盘。属于光学加工【技术领域】。它主要是解决现有手工研磨抛光和工件粘盘存在效率较低和劳动强度也大的问题。它的主要特征是:在工装盘的上面固定有可将待加工工件围挡其中的挡块,在该挡块的内侧面及挡块所围成的工装盘表面上均设有软质材料保护层;在工装盘的下面正中心设有与研抛机摆轴下压杆配合的定位孔。本实用新型具有简单易行、能快速研磨抛光薄工件的特点,主要用于压型或切割后的较薄形状不规则样品的单面或双面快速研磨抛光。
【专利说明】—种用于快速研磨抛光的工装盘

【技术领域】
[0001]本实用新型属于光学加工【技术领域】,具体涉及一种用于薄工件快速研磨抛光的工装盘及工艺方法。

【背景技术】
[0002]在光学行业加工样品过程中,有些压型或切割后的样品较薄,形状也不规则,但这些样品有时需要双面研磨抛光后测试一些性能,如杂质、透过率、析晶等,这些样品对加工后的表面质量要求并不高,不要求平面度,允许少量划痕,只要不影响测试即可。这些样品有时量很大,而且需要快速加工好。因为样品外形不规则,不统一,目前大都采用手工研磨抛光和工件粘盘后单面机械研抛的方式加工,存在效率较低和劳动强度也大的不足。


【发明内容】

[0003]本实用新型的目的就是提供一种简单易行、快速研磨抛光薄工件的工装盘。
[0004]本实用新型的技术解决方案是:一种用于快速研磨抛光的工装盘,其特征在于:在所述工装盘的上面固定有可将待加工工件围挡其中的挡块,在该挡块的内侧面及挡块所围成的工装盘表面上均设有软质材料保护层;在所述工装盘的下面正中心设有与研抛机摆轴下压杆配合的定位孔。
[0005]本实用新型工装盘的技术解决方案中所述的工装盘为厚度为2_8mm、材料为金属或塑料的圆盘或方盘等。
[0006]本实用新型工装盘的技术解决方案中所述的挡块的内侧面为平面、梯形面或斜面坐寸ο
[0007]本实用新型工装盘的技术解决方案中所述的软质材料保护层为阻尼布、抛光皮、橡胶皮或塑料等。
[0008]本实用新型在加工时直接把待加工工件嵌入四周有挡块的工装盘内,然后整体放入摆臂式单多轴研抛机上进行加工,不需要粘接工件,因此省去了工件粘接和凝固的时间,在效率得到极大提高的同时,劳动强度也大大降低。本实用新型工装盘制作简单,可根据实际情况制作多种规格,以提高加工能力和加工效率。本实用新型具有简单易行、能快速研磨抛光薄工件的特点。本实用新型主要用于压型或切割后的较薄形状不规则样品的单面或双面快速研磨抛光,也同样适用于金属、陶瓷、晶体等外形不规则的较薄材料的快速研磨抛光。

【专利附图】

【附图说明】
[0009]图1是本实用新型工装盘的俯视图。
[0010]图2是本实用新型工装盘的侧视图。
[0011]图3是本实用新型挡块与工件接触面为平面的示意图。
[0012]图4是本实用新型挡块与工件接触面为梯形面的示意图。
[0013]图5是本实用新型挡块与工件接触面为斜面的示意图。

【具体实施方式】
[0014]如图1至图5所示。本实用新型用于快速研磨抛光的工装盘3的上面固定有可将待加工工件围挡其中的挡块2,在该挡块2的内侧面及挡块2所围成的工装盘3表面上均设有软质材料保护层4。工装盘3尽量薄,厚度优选控制在2-8mm内,工装盘3材料为金属或塑料的圆盘,也可为方盘等,通过胶粘接或螺杆与工装盘3连接。挡块2数量与形状任意,但应在工装盘3上均匀对称分布,挡块2厚度应比待加工工件最终厚度略薄0.2-5mm。挡块2的内侧面为平面、梯形面或斜面等。软质材料保护层4为阻尼布、抛光皮、橡胶皮或塑料等。工装盘3的下面正中心设有与研抛机摆轴下压杆配合的定位孔5。
[0015]本实用新型采用上述工装盘快速研磨抛光薄工件的工艺步骤是:
[0016]⑴将待加工压型或切割后的光学玻璃不规则样品工件大面基本研磨平整,厚薄差根据要求而定,一般不超过0.1rnm ;
[0017]⑵将上述待加工工件嵌入四周有挡块2的工装盘3内,挡块2厚度应为比待加工工件最终厚度薄0.2-5mm,然后整体放入摆臂式单多轴研抛机上;
[0018]⑶根据实际加工情况调整研抛机的压力和转速,加工过程中待加工工件在挡块2内有晃动,以待加工工件不甩出工装盘3、不破裂为准;
[0019]⑷研磨抛光至研磨抛光面达到加工工艺要求;
[0020](5)将达到设计要求的待加工工件研磨抛光面涂假漆或粘胶带纸进行保护,然后用以上同样方法加工待加工工件的另一面。
【权利要求】
1.一种用于快速研磨抛光的工装盘,包括工装盘,其特征在于:在所述工装盘的上面固定有可将待加工工件围挡其中的挡块,在该挡块的内侧面及挡块所围成的工装盘表面上均设有软质材料保护层;在所述工装盘的下面正中心设有与研抛机摆轴下压杆配合的定位孔。
2.根据权利要求1所述的一种用于快速研磨抛光的工装盘,其特征在于:所述的工装盘为厚度为2-8mm、材料为金属或塑料的圆盘或方盘。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于快速研磨抛光的工装盘,,其特征在于:所述的挡块的内侧面为平面、梯形面或斜面。
4.根据权利要求1或2所述的一种用于快速研磨抛光的工装盘,其特征在于:所述的软质材料保护层为阻尼布、抛光皮、橡胶皮或塑料。
【文档编号】B24B37/27GK203831227SQ201420248882
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年5月15日 优先权日:2014年5月15日
【发明者】王尧宏, 何蓉 申请人:湖北新华光信息材料有限公司
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