1.一种原子层沉积设备，包括反应腔室、喷淋装置、加热盘，所述加热盘包括加热盘盘面、直柄、加热盘基座；其特征在于,该设备还包括侧壁的进气管路、限流衬套、真空管路及机械泵；所述喷淋装置安装于反应腔室顶部，所述加热盘盘面、直柄与加热盘基座焊接固定后通过加热盘基座使用螺钉安装于反应腔室底部；侧壁的进气管路通过螺钉或焊接连通至反应腔室，限流衬套外沿通过螺钉与反应腔室内侧固定，所述加热盘与限流衬套不接触，真空管路的一侧通过螺钉与反应腔室底部连通，其另一侧连接机械泵；
所述喷淋装置为单层、双层或多层结构；
所述限流衬套为网状结构或多孔介质；
所述限流衬套为陶瓷、铝、不锈钢或特氟龙衬套；
所述加热盘基座可以加热至550℃；
所述加热盘基座与所述反应腔室连接是通过反应腔下方采用螺钉与电机相连接，加热盘基座与电机的基座相连接实现加热盘基座在反应腔室内可以上下移动或者自转；
所述加热盘基座为陶瓷或铝。