基板对准装置的制作方法

本发明涉及一种基板对准装置，尤其涉及一种在基板处理装置中，将基板及被对象物(对象)对准的基板对准装置。

背景技术：

一般来说，等离子化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition；pecvd)设备，在显示屏制造工艺或半导体制造工艺中，在真空状态中利用气体的化学反应，使绝缘膜、保护膜、氧化膜、金属膜等沉积到基板上从而使用。

图1是图示现有基板处理装置的示意图。

参照图1，现有基板处理装置包括：真空腔室10；基座20，设置在所述真空腔室10内部，可以升降，并且安装有基板2，在基座20的上部具备电极及喷出工序气体的花洒30。

通过所述花洒30向真空腔室10的内部供给工序气体及同时根据向电极施加rf电源，向真空腔室10的内部供给的工序气体形成等离子化，从而可以沉积在安装在基座20上面的基板2上。

另外，将各种膜(例如，绝缘膜、保护膜、氧化膜、金属膜)以特定图案形态沉积到基板2上时，将掩膜4配置在基板2的上面，由于在配置掩膜4的状态中执行沉积工序，所以在基板2上可以形成特定沉积图案。

并且，为了在基板2上准确地形成特定沉积图案，基板2的掩膜4位置需要准确地对准。为此，在将掩膜4安装在基板2上面之前，可以执行用于将关于基板2的掩膜4位置排列的对准工序。

作为对准方法中的一个，目前是将形成在基板上的目标标记(targetmark)及形成在掩膜4上的对象标记(objectmark)用对准摄像机40拍摄从而比较之后，相对于基板2将掩膜4移动相当于目标标记的对象标记距离及方向误差的大小，从而执行对准工序。。

但是，目前，用于拍摄形成在基板2上目标标记及形成在掩膜4上对象标记的对准摄像机40配置在外部，由此便产生对准摄像机运转距离(workingdistance)增加的问题，作为对准摄像机，由于不可避免地需要使用具备长运转距离的高性能摄像机，不仅具有原价上升的问题，还具有对准控制存在复杂的问题。

并且，目前对象标记的一部分配置在对准摄像机聚焦区域(fieldofview；fov)的外侧时，很难准确识别对象标记，存在频繁发生错误对准判断情况的问题。

于是，最近进行用于提高对准准确度及效率性的多样性检测，至今还很薄弱所以需要开发。

技术实现要素：

(要解决的问题)

本发明的目的在于，提供一种可以提高对准准确度及效率性的基板对准装置。

特别是，本发明的目的在于，提供一种可以缩短对准摄像机的运转距离，并且可以节减原价及可以提供便利的基板对准装置。

并且，本发明的目的在于，提供一种使关于记号的摄像机位置(聚焦区域)可变，防止根据识别率低下导致错误对准的基板对准装置。

并且，本发明的目的在于，提供一种可以将结构简化，并且可以提高设计者诱导的基板对准装置。

(解决问题的手段)

为了达到上述本发明的目的如果根据本发明的优选实施例，利用在基板上形成的目标标记及在对象上形成的对象标记从而执行基板目标对准的基板对准装置，包括：摄像机腔室，在真空腔室内部中提供独立密封的大气压收容空间；及对准摄像机，设置于摄像机腔室内部，并且拍摄目标标记及对象标记；及腔室移动单元，使摄像机腔室在真空腔室内部移动。依靠这样的结构，可以缩短对准摄像机的运转距离，并且可以调整关于记号的对准摄像机聚焦区域。

作为参考，本发明中称其为对象可理解为显示器制造工序或半导体制造工序中，对于基板需要排列的被对象物，借助于对象的种类及特性本发明不受限定。例如，对象可以包括为了在基板上形成特定沉积图案从而在基板上叠层的掩膜。

摄像机腔室可以根据需求的条件及设计规格安装在真空腔室中的多个位置上。例如，为了使摄像机腔室配置在基板的下部而将其安装在真空腔室的下部。举另一个例子，为了使摄像机腔室配置在基板的上部而将其安装在真空腔室的上部或者安装在真空腔室的侧壁上。

摄像机腔室，可以构成为向内部提供大气压收容空间的多样结构。例如，摄像机腔室可以包括形成大气压收容空间的腔室主体及使收容到腔室主体内部的对准摄像机能观察目标标记及对象标记而形成在腔室主体的观察窗。

腔室移动单元可以构成为使摄像机腔室在真空腔室内部中向3个轴方向(例如，x轴、y轴、z轴或r轴、θ轴、z轴)移动的多种结构。例如，腔室移动单元一端连接在大气压腔室，另一端可以包括：运转轴，配置在真空腔室外侧；直线驱动部，设置在真空腔室的外侧并且使运转轴沿着运转轴的轴方向直线移动；以及旋转驱动部，设置在真空腔室的外侧并且使运转轴旋转驱动。

直线驱动部可以构成为使运转轴沿着运转轴的轴方向移动的多种结构。例如，直线驱动部可以包括：可旋转的螺旋部件；第1发动机，提供用于使所述螺旋部件旋转的驱动力；第1动力传达部件，将所述第1发动机的驱动力向所述螺旋部件传达；运行部件，连接所述运转轴，并对应于所述螺旋部件的旋转，沿着所述螺旋部件进行直线移动。

旋转驱动部具备在真空腔室的外侧，从而使运转轴旋转驱动，并且由于运转轴旋转，摄像机腔室可以向x轴及y轴方向移动。根据不同情况，摄像机腔室借助于x轴直线驱动手段及y轴直线驱动手段直线移动，并且只要能使其向x轴及y轴移动的结构也是可行的。旋转驱动部可以由使运转轴旋转驱动的多种结构形成。例如，所述旋转驱动部，包括：第2发动机，提供用于使所述运转轴旋转的驱动力；及第2动力传达部件，将所述第2发动机的驱动力向所述运转轴传达。

为使腔室移动单元的结构及运转结构减小化，旋转驱动部的结构设置可以借助于直线驱动部的驱动力，与运转轴一起进行直线移动。不同地，也可以使旋转驱动部及直线驱动部各自独立运转构成。例如，直线驱动部包括：可以旋转的螺旋部件；第1发动机，提供用于使所述螺旋部件旋转的驱动力；第1动力传达部件，将所述第1发动机的驱动力向所述螺旋部件传达；运行部件，连接所述运转轴，并对应于所述螺旋部件的旋转，沿着所述螺旋部件进行直线移动。旋转驱动部可以包括：第2发动机，提供用于使所述运转轴旋转的驱动力；及第2动力传达部件，将所述第2发动机的驱动力向所述运转轴传达，旋转驱动部可以借助于第1发动机的驱动力与驱动部件一起直线移动。

摄像机腔室可设置为向配置在所述对象区域上的对准摄像机的拍摄位置及配置在所述对象区域外侧的对准摄像机的非拍摄位置。此处，称之为对准摄像机的拍摄位置可以理解为：在平面投影时，对准摄像机的聚焦区域是配置于对象区域的状态，称之为对准摄像机的非拍摄位置可以理解为：平面投影时，对准摄像机的聚焦区域是配置在对象的外侧区域的状态。

向摄像机腔室的拍摄位置及非拍摄位置的移动可以根据需求的条件及设计规格以多种方式实现。例如，摄像机腔室可以由借助于腔室移动单元向拍摄位置及非拍摄位置移动的结构构成。根据不同的情况，摄像机腔室借助于另外的移动单元向拍摄位置及非拍摄位置移动，或者也可以由从拍摄位置向非拍摄位置直线移动的结构构成。

另外，可以使运转轴形成为具有空心截面形态。并且，可以在具有空心截面形态的运转轴内部配置有与摄像机连接的摄像机电缆。并且，在摄像机腔室的大气压收容空间中可以连接用于供给冷却气体的冷却管，冷却管在运转轴的内部而设置，并且一端配置在大气压收容空间，另一端可以配置在真空腔室的外部。

并且，在运转轴上，可设置用于在真空腔室及运转轴之间密封的密封部件。作为一种密封部件，可以使用能阻拦真空区域(真空腔室内部)及大气压区域(真空腔室外部)界限的多种密封手段。例如，可以使用磁流体密封(magneticfluidseal)作为密封部件。并且，在真空腔室及运行部件之间，可以提供用于收尾的外罩部件。外罩部件的一端连接在真空腔室的外面，另一端可以连接在运行部件上，对应于运行部件的移动可以在真空腔室及运行部件之间伸缩。

所述摄像机腔室如果是配置在基板上部结构的情况，那么摄像机腔室的设置，可以向对准摄像机配置在对象区域上的拍摄位置，及所述对准摄像机配置在对象区域外侧的非拍摄位置移动。在所述摄像机腔室向非拍摄位置移动的状态下，可以保障基板及对象在真空腔室的内部可以更自由地移动。

另外，在完成利用对准摄像机的对准工序后，即使摄像机腔室配置于非拍摄位置，在执行沉积工序期间，也可能存在类似颗粒的异物质对摄像机腔室(特别是，观察窗)产生影响。特别是，当摄像机腔室配置于基板上部的结构时，受异物质影响的可能性较大。为此，在真空腔室的内面可以形成一个用于摄像机腔室收容的腔室收容部，摄像机腔室在非拍摄位置中可以收容到腔室收容部。

更优选为，在沉积工序执行期间，为了使基于类似颗粒的异物质的影响最小化，可以在摄像机腔室中连接屏蔽部件(shieldmember)，所述腔室收容部在所述摄像机腔室收容于所述腔室收容部的状态下被所述屏蔽部件阻挡。

(发明的效果)

根据如上所述的本发明，可以提高对准准确度及效率性。

特别是，如果根据本发明，在真空腔室的内部中，利用提供独立密闭的大气压收容空间的摄像机腔室，将对准摄像机配置于真空腔室的内部，由于使摄像机腔室借助于腔室移动单元向3轴(例如，x轴、y轴、z轴或r轴、θ轴、z轴)方向移动，可以将对准摄像机的运转距离缩短，从而可以节减原价并且提供控制的容易性。

并且，如果根据本发明，使关于记号的摄像机的位置(聚焦区域)可变，即使在记号的一部分配置于对准摄像机聚焦区域的外侧情况中，可以事先防止根据记号的识别率低下的错误对准，可以稳定执行对准工序。

并且，如果根据本发明，借助于直线驱动部的驱动力旋转驱动部可以与运转轴一起运转，可以使腔室移动单元的结构简洁化，可以使腔室移动单元装载时需要的空间最小化。

并且，如果根据本发明，借助于基板处理工序时发生的异物质，使对准摄像机的性能低下及损伤最小化。

附图说明

图1是现有基板处理装置的附图。

图2是用于说明根据本发明的基板对准装置的附图。

图3至图5是用于说明根据本发明的基板对准装置的结构及运行结构的附图。

图6是作为一种根据本发明的基板对准装置，用于说明摄像机腔室的拍摄位置及非拍摄位置的附图。

图7至图10是用于说明根据本发明另一实施例的基板对准装置的附图。

图11是作为一种根据本发明的基板对准装置，用于说明摄像机的位置(聚焦区域)可变状态的附图。

符号说明：

110:真空腔室120：基座

130:花洒210：基板

212:目标标记220：对象

222:对象标记310：摄像机腔室

320:对准摄像机330：腔室移动单元

340:运转轴350：直线驱动部

352:螺旋部件354：第1发动机

356:第1动力传达部件358：运行部件

360:旋转驱动部362：第2发动机

364：第2动力传达部件

具体实施方式

参照以下附图，虽然对本发明的优选实施例进行了详细的说明，但不借助于本发明的实施例限制或限定。作为参考，在本说明中的相同号码实际指代相同要素，在这种规则下，可以引用其他附图中记载的内容从而说明，判断该领域的技术人员不言自明或重复的内容被省略。

图2是用于说明根据本发明的基板对准装置的附图，图3至图5是用于说明根据本发明的基板对准装置的结构及运转机构的附图，图6是作为一种根据本发明的基板对准装置，用于说明摄像机腔室的拍摄位置及非拍摄位置的附图。

如果参照图2至图5，根据本发明，提供一种基板对准装置，是利用形成在基板210上的目标标记212及形成在对象220上的对象标记222，从而为了执行基板210的对象220对准，包括：摄像机腔室310、对准摄像机320、腔室移动单元330。

作为参考，在本发明中，称之为对象220的可理解为在显示屏制造工序或半导体制造工序中需要对于基板210排序的被对象物，借助于对象220的种类及特性，本发明不受限制或限定。例如，对象220为了在基板210上形成特定沉积图案可以包括叠层在基板210上的掩膜。

并且，根据本发明的基板对准装置，在基板处理装置中，将对象220安装在基板210上面之前，为了使基板210的对象220位置排序使用，基板处理装置可以包括真空腔室110及基座120。

所述真空腔室110在内部设置有规定的处理空间，侧壁至少在一侧上设置有用于供基板210和掩膜等出入的出入部。

所述真空腔室110的大小及结构可以根据要求的条件及设计规格适当地变更，基于真空腔室110特性的本发明不受限制或并不局限于此。例如，真空腔室110具备大面积处理空间，收容大面积基板210及与掩膜一起各种移送单元。

所述基座120设置在真空腔室110的内部，且可沿着上下方向升降，在基座120的上面可以安装基板210。所述基座120可以借助于类似于发动机的常规性驱动手段来沿着上下方向移动。

在所述基座120的上部供给工序气体，可以设置供给rf能量的花洒130，作为花洒130可以使用已公开的一般花洒。

所述对象220可以借助于对象支承带(未图示)来支承，对象支承带可以依靠一般的驱动手段而向x、y、z方向移动。

所述摄像机腔室310在真空腔室的内部中提供有独立密闭的大气压收容空间。

所述摄像机腔室310根据要求的条件及设计规格在真空腔室上可以安装于多个位置上。例如，所述摄像机腔室310可以安装在真空腔室的下部。以使摄像机腔室310能配置在基板的下部。

所述摄像机腔室310可以由向内部提供大气压收容空间的多种结构而构成。例如，所述摄像机腔室310可以包括：腔室主体312，形成大气压收容空间，及观察窗(sightwindow)314，形成在腔室主体312上，收容到腔室主体312内部的对准摄像机320通过所述观察窗314观察(viewing)目的记号212及对象标记222。

所述腔室主体根据要求的条件及设计规格借助于可以由四角、三角或球等形态设置的腔室主体的形状及结构，但本发明不受限制或局限于此。

所述观察窗314可以由一般透明的材质形成，在不阻碍对准摄像机320可读性(readability)的界限内，也可以包括一些不透明的程度。

所述对准摄像机320设置在摄像机腔室310内部的大气压收容空间上，并且拍摄目标标记212及对象标记222。作为所述对准摄像机320可以使用类似于视觉摄像机的一般摄像机，并且借助于对准摄像机320的种类及特性本发明不受限制或局限于此。只是，在本发明中，对准摄像机320以摄像机腔室310为媒介，由于配置于真空腔室内部可以缩短摄像机的运转距离(workingdistance)，所以没有必要使用同以往对准摄像机320相同的高性能摄像机。此处，称其为所述摄像机的运转距离意味着摄像机与拍摄对象之间的距离。

所述腔室移动单元330的设置，使摄像机腔室310在真空腔室内部，向3个轴(例如，x轴、y轴、z轴或r轴、θ轴、z轴)方向移动。

所述腔室移动单元330可以是使摄像机腔室310在真空腔室内部向3个轴移动的多样结构而构成。例如，所述腔室移动单元330可以构成为包括运转轴340、直线驱动部350和旋转驱动部360。

所述运转轴340的一端贯通真空腔室的下部，从而与在配置在大气压收容空间的摄像机腔室310连接成为一体，另一端配置在真空腔室的外侧。例如，作为所述运转轴340可以使用具有空心截面形态的空心部件。

所述直线驱动部350具备在真空腔室的外侧，使运转轴340沿着运转轴340的轴方向(例如，z轴方向)进行直线移动。

所述直线驱动部350的结构，可以由运转轴340根据运转轴340的轴方向移动的多种结构构成。例如，所述直线驱动部350包括：可以旋转的螺旋部件352；第1发动机354，用于使所述螺旋部件352旋转而提供驱动力；第1动力传达部件356，用螺旋部件352传达上述第1发动机354的驱动力；及运行部件358，连接所述运转轴340，并对应于所述螺旋部件352的旋转，沿着所述螺旋部件352进行直线移动。

所述螺旋部件352根据要求的条件及设计规格可旋转安装在真空腔室的外面，或者可旋转安装邻接在真空腔室外侧的构造物上。并且，作为所述螺旋部件352可以使用一般的滚珠丝杠，螺旋部件352的种类及特性根据要求的条件及设计规格可以多种变形。

作为所述第1发动机354可以使用一般的伺服发动机，根据情况也可以使用其他另外的一般发动机作为第1发动机。

所述第1动力传达部件356的设置，是为了用螺旋部件352传达第1发动机354的驱动力，作为第1动力传达部件356，根据要求的条件及设计规格可以使用多种动力传达部件。例如，作为所述第1动力传达部件356可以使用一般的传送带。根据情况作为第1动力传达部件可以使用一般的链条或齿轮组合。

所述螺旋部件352的旋转可以转换为运行部件358的直线移动，对应于运行部件358的直线移动，运转轴340可以一起直线移动。

所述旋转驱动部360具备在真空腔室的外侧，从而使运转轴340旋转驱动，借助于旋转驱动部360，运转轴340根据旋转摄像机腔室310可以向x轴及y轴方向移动。作为参考，虽然在本发明的实施例中，对摄像机腔室310借助于旋转驱动部360旋转，并且以便于向x轴及y轴方向移动而构成的结构为例进行说明，但根据不同的情况，摄像机腔室依靠x轴直线驱动方式及y轴直线驱动方式进行直线移动，使其向x轴及y轴方向移动的构成结构也是可以的。

所述旋转驱动部360的设置，可以由使运转轴340旋转驱动的多种结构构成。例如，所述旋转驱动部360包括：第2发动机362，用于使运转轴340旋转而提供驱动力，第2动力传达部件364，将所述第2发动机362的驱动力向运转轴340传达所构成。

作为所述第2发动机362可以使用一般的伺服发动机，根据情况可以使用其他另外一般的发动机作为第2发动机。

所述第2动力传达部件364是为了将第2发动机362的驱动力向运转轴340传达而设置，作为第2动力传达部件364根据要求的条件及设计规格可以使用多种动力传达部件。例如，作为第2动力传达部件364可以使用一般的传送带。根据情况作为第2动力传达部件可以使用一般的链条或齿轮组合。

优选为，为了使所述腔室移动单元330的结构及运转结构可以简洁化，前述的旋转驱动部360的设置为，借助于直线驱动部350的驱动力与运转轴340一起可进行直线移动。不同的是，旋转驱动部及直线驱动部各自独立运转的结构也是可行的。以下，所述直线驱动部350包括：可以旋转的螺旋部件352；第1发动机354，提供用于使所述螺旋部件352旋转的驱动力；第1动力传达部件356，将所述第1发动机354的驱动力向螺旋部件352传达；及运行部件358，连接所述运转轴340，并对应于所述螺旋部件352的旋转，沿着所述螺旋部件352进行直线移动。所述旋转驱动部360包括：第2发动机362，安装在所述运行部件358上，并且提供用于使运转轴340旋转的驱动力，及第2动力传达部件364，将所述第2发动机362的驱动力向运转轴340传达，以所述旋转驱动部360借助于第1发动机354的驱动力与运行部件358一起进行直线移动。

所述运行部件358的一端上形成了根据螺旋部件352移动的球状螺母358a，运行部件358的另外一端上可以安装第2发动机362。所述第1发动机354安装在连接于真空腔室底面的构造物上，使其在真空腔室底面与第2发动机362以非同轴方式配置。所述第1发动机354及第2发动机362的配置及安装结构根据要求的条件及设计规格可以适当地变更。

依靠这种结构，如图4所示，借助于所述第1发动机354的驱动力，螺旋部件352可以旋转，对应于螺旋部件352的旋转，从而运行部件358可以通过螺旋部件352而进行直线移动，结果，由于连接在运行部件358的运转轴340及摄像机腔室310沿着z轴方向直线移动，所以可以调节对准摄像机320的聚焦。并且，当所述对象标记222的一部分配置在对准摄像机320聚焦区域(fov)的外侧时，由于借助于第2发动机362的驱动力使运转轴340旋转，所以可以使关于对象标记222的对准摄像机位置(聚焦区域)可变。(参照图10及图11)

并且，如果参照图6，所述摄像机腔室310的设置为，可以向对准摄像机320配置在对象区域上的拍摄位置p1，及所述对准摄像机320配置在对象区域外侧的非拍摄位置p2移动。此处，称之为对准摄像机320的拍摄位置p1可理解为：平面投影时，对准摄像机320的聚焦区域配置在对象区域的状态，称之为对准摄像机320的非拍摄位置p2可理解为：平面投影时，对准摄像机320的聚焦区域配置在对象外侧区域的状态。

所述对准腔室310向拍摄位置p1及非拍摄位置p2移动，可根据要求的条件及设计规格多种方式实现。例如，摄像机腔室310可以由借助于腔室移动单元330而向拍摄位置p1及非拍摄位置p2移动的结构而构成。更具体一些，由于摄像机腔室310借助于腔室移动单元330的旋转驱动部360旋转，所以可以向拍摄位置p1及非拍摄位置p2移动。根据不同情况，摄像机腔室借助于另外的移动单元向拍摄位置及非拍摄位置移动，或者也可以从拍摄位置向非拍摄位置进行直线移动。

另外，连接在所述摄像机的摄像机光缆322可以在具有空心截面形态的运转轴340的内部配置。当然，虽然可以由使摄像机光缆322配置在运转轴340的外侧的结构而构成，优选为将摄像机光缆322在运转轴340的内部而配置，使摄像机腔室310的大气压收容空间的大气压状态能稳定维持。

并且，在所述摄像机腔室310的大气压收容空间可以连接冷却管316，通过冷却管316，在摄像机腔室310的内部空间中，以高温环境可供应用于保护对准摄像机320的冷却管。优选为所述冷却管316在运转轴340的内部而设置，从而一端配置在大气压收容空间中，另一端配置在真空腔室的外部。

另外，由于所述运转轴340的配置，将真空腔室的下部贯通，真空腔室及运转轴340之间需要密封。为此，在所述运转轴340上可以设置密封部件410，使真空腔室及运转轴340之间密封。

作为所述密封部件410，可以使用可阻挡真空区域(真空腔室内部)及大气压区域(真空腔室外部)界限的多种密封手段。例如，作为所述密封部件410可以使用一般的磁流体密封条(magneticfluidseal)。

并且，在所述真空腔室及运行部件358之间可以设置用于收尾的外罩部件420。所述外罩部件420一端可以连接在真空腔室的外面，另一端连接在运行部件358，并且对应于运行部件358的移动，可以在真空腔室及运行部件358之间伸缩。例如，作为所述外罩部件420，可以使用环形管结构的风箱，外罩部件420的种类及特性可以根据要求的条件及设计规格适当地变更。

前述及所示的本发明实施例中，虽然以安装在真空腔室的下部从而使摄像机腔室配置在基板的下部为例进行了说明，不同的是，也可以采用使摄像机腔室配置在基板上部安装的结构。

图7至图10是根据本发明实施例用于说明基板对准装置的附图。并且，与前述的构成相同及对于相同部分赋予相同或者相同相当的参照符号，关于其的详细说明将省略。

以下，以便于摄像机腔室310配置在基板上部，从而对安装在真空腔室的侧壁的例子进行了说明。根据情况，使摄像机腔室配置在基板的上部，安装在真空腔室上部的结构也是可能的。

如果参照图7至图10，摄像机腔室310安装在真空腔室侧壁上的情况，腔室移动单元330包括：运转轴340，一端连接在大气压腔室，另一端配置在真空腔室的外侧；直线驱动部350，设置在所述真空腔室的外侧，使运转轴340沿着运转轴340的轴方向进行直线移动；及旋转驱动部360，设置在所述真空腔室的外侧，使运转轴340旋转驱动。

例如，所述直线驱动部350包括：可旋转的螺旋部件352；第1发动机354，提供用于使所述螺旋部件352旋转的驱动力；第1动力传达部件356，将所述第1发动机354的驱动力向螺旋部件352传达；及运行部件358，连接所述运转轴340，并对应于所述螺旋部件352的旋转，沿着所述螺旋部件352进行直线移动。

所述螺旋部件352根据要求的条件及设计规格可旋转安装在真空腔室的外面，或者可旋转安装在邻接于真空腔室外侧的构造物上。

作为所述第1发动机354可以使用一般的伺服发动机，根据情况可以使用其他另外一般的发动机作为第1发动机。

所述第1动力传达部件356为了将第1发动机354的驱动力向螺旋部件352传达提供，作为第1动力传达部件356可以根据要求的条件及设计规格使用多种动力传达部件。例如，作为所述第1动力传达部件356可以使用一般的传送带。根据情况作为第1动力传达部件可以使用一般的链条或齿轮组合。

所述螺旋部件352的旋转可以转换为运行部件358的直线移动，对应于运行部件358的直线移动，从而可以与运转轴340一起进行直线移动。

所述旋转驱动部360具备在真空腔室的外侧从而使运转轴340旋转驱动，通过运转轴340的旋转摄像机腔室310可以向x轴及y轴(或者r轴及z轴)移动。

所述旋转驱动部360可以由使运转轴340旋转驱动的多种结构来提供。例如，所述旋转驱动部360可以包括：第2发动机362，提供用于使运转轴340旋转的驱动力；第2动力传达部件364，将所述第2发动机362的驱动力向运转轴340传达。

作为所述第2发动机362可以使用一般的伺服发动机，根据情况可以使用其他另外一般的发动机作为第2发动机。

所述第2动力传达部件364设置为用于将第2发动机362的驱动力传达给运转轴340，作为第2动力传达部件364可以根据要求的条件及设计规格使用所终动力传达部件。例如，作为所述第2动力传达部件364可以使用一般的传送带。根据情况作为第2动力传达部件可以使用一般的链条或齿轮组合。

优选为，以便使所述腔室移动单元330的结构及运转结构简化，前述的旋转驱动部360可以借助于直线驱动部350同运转轴340一起可直线移动提供。例如，所述第2发动机362可以安装在运行部件358上，旋转驱动部360可以借助于第1发动机354的驱动力同运行部件358一起直线移动。

优选为，当所述摄像机腔室310安装在真空腔室的侧壁上时，为了使腔室移动单元330的安装空间最小化，第1发动机354及第2发动机362可以在真空腔室的一面以同轴方式配置。在所述运行部件358中可以形成根据螺旋部件352移动的球状螺母358a，运行部件358的另一端上可以安装第2发动机362。为了使所述第1发动机354与第2发动机362同轴配置，可以安装在连接于真空腔室外侧的构造物上。

借助于这种结构，如图9所示，借助于所述第1发动机354的驱动力螺旋部件352可以旋转，对应于螺旋部件352的旋转从而根据螺旋部件352运行部件358可以直线移动，结果，由于连接在运行部件358的运转轴340及摄像机腔室310根据z轴方向直线移动，对准摄像机320的聚焦可以调节。并且，当所述对象标记222的一部分配置在对准摄像机320聚焦区域(fov)的外侧时，由于借助于第2发动机362的驱动力使运转轴340旋转，可以使关于对象标记222的对准摄像机的位置(聚焦区域)可变。(参照图10及图11)

即使是所述摄像机腔室310配置在基板上部的情况，摄像机腔室310也可以向配置在对象区域上的对准摄像机320的拍摄位置p1以及配置在对象区域外侧上的所述对准摄像机320的非拍摄位置p2移动。在所述摄像机腔室310向非拍摄位置p2移动的状态中，可以保障基板和对象在真空腔室的内部自由移动。

优选为，当所述摄像机腔室310配置在基板上部的结构时，利用对准摄像机320的对准工序结束后，即使摄像机腔室310配置在非拍摄位置p2，在沉积工序执行期间与颗粒相同的异物质可能会对摄像机腔室310(特别是，观察窗)产生影响。

为此，在所述真空腔室的里面，可以形成用于收容摄像机腔室310腔室收容部112，所述摄像机腔室310可以在非拍摄位置p2处收容到腔室收容部112。

进一步优选为，为了使借助于沉积工序执行的期间与颗粒相同的异物质的影响最小化，在摄像机腔室310中可以连接屏蔽构件(shieldmember)316，所述腔室收容部112在所述摄像机腔室310收容于所述腔室收容部112的状态下被所述屏蔽部件316阻挡。

所述屏蔽构件316可以提供可阻挡的做种结构及形态，借助于屏蔽构件316的材质及特性本发明不受限定。

如上所述，虽然参照本发明的优选实施例进行了说明，如果是属于本技术区域的具有常识的人，在不脱离下面权利要求范围中记载的本发明的思想及领域内，理解为可以将本发明进行多种修正及变更。