1.一种高纯金属溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)靶材进行表面精密机加工；
2)步骤1)所得靶材进行表面研磨，然后对表面进行清洗；
3)步骤2)所得靶材在真空条件下进行表面快速热处理；
所述表面快速热处理采用连续波激光热处理法、扫描电子束法或非相干宽带频光源法。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤1)中精密机加工后的靶材表面粗糙度≤0.8μm。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述连续波激光热处理法和扫描电子束法的扫描方式为搭接往复扫描方式或螺旋扫描方式。
4.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于，所述连续波激光热处理法的激光功率为1～3kW，激光散焦距离为20～50mm，光斑直径为10～50mm，扫描速度为10～50mm/s，加热的温度为350～450℃。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，扫描过程中靶材倾斜角度为10°～30°。
6.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于，所述扫描电子束法的电子束斑功率密度为1～3kW/cm2，扫描速度为10～50mm/s，加热速度为100～200℃/s，加热的温度为350～450℃。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非相干宽带频光源法的扫描方式为整体辐照方式，非相干宽带频光源为卤光灯、电弧灯、石墨加热器或红外设备。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非相干宽带频光源法的加热速度为50～100℃/s，加热的温度为350～450℃，保温时间为1～10min。