1.一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，包括并排连接的多个真空室，多个真空室包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室；镀膜室内设有呈S型的平面靶，平面靶包括靶座、外圈磁铁、内圈磁铁和导磁板，靶座中部带有内凹腔体，导磁板设于内凹腔体底部，外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上，外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周，外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。
2.根据权利要求1所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述靶座为矩形状结构，内凹腔体底部为矩形平面，导磁板为形状与矩形平面相同的平板结构，外圈磁铁的底部和内圈磁铁的底部分别嵌于导磁板上，外圈磁铁的顶面与内圈磁铁的顶面均与靶座的上表面相平齐。
3.根据权利要求1所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述内圈磁铁的横截面宽度大于外圈磁铁的横截面宽度。
4.根据权利要求1所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，沿基片输送方向，所述真空室前方设有进出片平台，进出片平台、粗抽室、精抽室和镀膜室之间设有连续式的基片输送机构，基片输送机构上设有承托基片用的基片托板。
5.根据权利要求4所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述基片输送机构为双层结构，包括上层传动辊和下层传动辊，多个上层传动辊并排分布形成上层结构，多个下层传动辊并排分布形成下层结构；沿基片输送方向，位于最末端的镀膜室内，上层传动辊为左右开合式结构，下层传动辊为上下升降式结构。
6.根据权利要求5所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述基片输送机构中，位于进出片平台中的各上层传动辊组成第一进片传动单元，位于粗抽室中的各上层传动辊组成第二进片传动单元，位于精抽室中的各上层传动辊组成第三进片传动单元，位于镀膜室中的各上层传动辊组成第四进片传动单元；位于进出片平台中的各下层传动辊组成第一出片传动单元，位于粗抽室中的各下层传动辊组成第二出片传动单元，位于精抽室中各下层传动辊组成第三出片传动单元，位于镀膜室中的各下层传动辊组成第四出片传动单元；
其中，第四进片传动单元两侧设有开合机构，第四出片传动单元底部设有升降机构。
7.根据权利要求6所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述第四进片传动单元中，各上层传动辊包括对称设置的左传动辊和右传动辊，开合机构包括左移动座、右移动座、左移动座导向轴和右移动座导向轴，左传动辊设于左移动座上，左移动座通过左移动座导向轴与镀膜室连接，右传动辊设于右移动座上，右移动座通过右移动座导向轴与镀膜室连接，左移动座和右移动座分别外接驱动机构；
第四出片传动单元中，升降机构包括升降气缸、升降导杆和升降托板，升降托板设于相邻两个下层传动辊之间的空隙内，升降托板底部设置升降气缸，升降托板两侧通过升降导杆与镀膜室连接。
8.根据权利要求5所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述多个真空室中，任意相邻两个真空室之间的侧壁上设有两个基片通道，粗抽室与进出片平台相邻的侧壁上也设有两个基片通道，各基片通道一侧对应设有一个真空锁。
9.根据权利要求1所述一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，所述粗抽室外侧设有第一抽真空机组，精抽室和镀膜室外侧设有第二抽真空机组；
第一抽真空机组包括第一罗茨泵和第一机械泵，粗抽室、第一罗茨泵和第一机械泵通过管道依次连接；
第二抽真空机组包括第二罗茨泵、第二机械泵、第一高真空泵和第二高真空泵，精抽室外侧设置第一高真空泵，镀膜室外侧设置第二高真空泵，第一高真空泵和第二高真空泵并联后，依次与第二罗茨泵和第二机械泵连接。
10.根据权利要求4-8任一项所述装置实现一种高效紧凑型磁控镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)基片放置于基片托板上后，由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室，在镀膜室内，由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理；
(2)基片镀膜完成后，由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室，最后送至进出片平台上；基片的送入方向与送出方向相反。