技术总结
本发明公开一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法，其装置包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室；镀膜室内设有呈S型的平面靶，平面靶中，靶座中部带有内凹腔体，导磁板设于内凹腔体底部，外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上，外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周，外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。其方法是基片放置于基片托板上后，由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室，在镀膜室内，由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理；镀膜完成后，由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室，最后送至进出片平台上；基片的送入方向与送出方向相反。本发明具有设备结构紧凑、镀膜效率高的特点。
技术研发人员：朱建明
受保护的技术使用者：肇庆市科润真空设备有限公司
文档号码：201611216893
技术研发日：2016.12.26
技术公布日：2017.05.31