1.一种蚀刻液组合物，以组合物的总重量为100％计，包含下述组分：
4-25重量％的过氧化氢，
0.01-10重量％的蚀刻抑制剂，
0.01-10重量％的螯合剂，
0.01-3重量％的蚀刻添加剂，
0.01-10重量％的过氧化氢稳定剂，
余量为水。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻抑制剂选自杂环芳香族化合物、杂环脂肪族化合物、芳香族多元醇、喹啉和直链结构多元醇中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述杂环芳香族化合物选自呋喃、噻吩、吡咯、恶唑、噻唑、吡唑、三唑、四唑、苯亚呋喃、吲哚、苯亚咪唑、苯亚吡唑和氨基四唑中的至少一种；
所述杂环脂肪族化合物选自呱嗪、甲基呱嗪、吡咯烷和四氧嘧啶中的至少一种；
所述芳香族多元醇选自五倍子酸、甲基酸酯、乙酯、丙醇盐和丁基脂中的至少一种；
所述直链结构多元醇选自甘油、赤藓糖醇、山梨糖醇、甘露醇和木糖醇中的至少一种；
所述喹啉为6-羟基喹啉和/或8-羟基喹啉。
4.根据权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻添加剂包括有机酸及其盐和/或无机酸及其盐，其中，
所述有机酸选自醋酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡萄糖酸、甘氨酸、琥珀酸、丁二酸、烷基二甲基磺酸、烷基苯磺酸、烷基二苯醚二磺酸、烷基萘磺酸、萘磺酸、萘二磺酸、甲醛与萘磺酸聚合物、丙烯酰胺甲基丙烷磺酸聚合物、丙烯酸、乙烯基苯磺酸聚合物和磺酸盐化合物中的至少一种；
所述无机酸选自硝酸、硫酸、盐酸、次氯酸、高锰酸、磷酸、硼酸、次硫酸、高氯酸、过一硫酸、过二硫酸和过二碳酸及其盐中的至少一种。
5.根据权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂选自亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、亚甲基磷酸、羟基乙叉二膦酸、亚乙基二胺四亚甲基磷酸、肌氨酸、丙氨酸、氨基丁酸、谷氨酸、甘氨酸和1-二膦酸中的至少一种。
6.根据权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述过氧化氢稳定剂选自乙二醇、丙二醇、聚乙二醇、聚丙乙烯二醇、乙醇和异丙醇中的至少一种。
7.根据权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，
以组合物的总重量为100％计，包含下述组分：
5-15重量％的过氧化氢，
0.01-0.15重量％的蚀刻抑制剂，
0.01-8重量％的螯合剂，
0.3-1.5重量％的蚀刻添加剂，
5-10重量％的过氧化氢稳定剂，
余量为水。
8.一种导电性金属膜的刻蚀方法，包括将根据权利要求1-7中任意一项所述的蚀刻液组合物与所述导电性金属膜接触，所述导电性金属膜以选自铝、铝合金、铜和铜合金中的至少一种构成上层金属膜，以钼和/或钛构成下层金属膜。
9.根据权利要求8所述的蚀刻液组合物，其特征在于，完成蚀刻后，所述上层金属膜的厚度为300-400nm，所述下层金属膜的厚度为20-30nm。
10.根据权利要求9所述的刻蚀方法，其特征在于，所述导电性金属膜在蚀刻过程中形成具有30-70度的锥角的蚀刻轮廓。