技术总结
本发明涉及一种蚀刻液组合物，以组合物的总重量为100％计，包含下述组分：4‑25重量％的过氧化氢，0.01‑10重量％的蚀刻抑制剂，0.01‑10重量％的螯合剂，0.01‑3重量％的蚀刻添加剂，0.01‑10重量％的过氧化氢稳定剂，余量为水；以及一种导电性金属膜的刻蚀方法，包括将蚀刻液组合物与所述导电性金属膜接触，导电性金属膜以选自铝、铝合金、铜和铜合金中的至少一种构成上层金属膜，以钼和/或钛构成下层金属膜。
技术研发人员：李嘉
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
文档号码：201611243212
技术研发日：2016.12.29
技术公布日：2017.05.10