本实用新型涉及一种浸渍装置，具体涉及一种模具上的镶块浸渍装置。
背景技术：
现有技术中，如专利ZL201110333470.6公开了一种模具镶块固定结构，包括模具座和镶块，还包括第一斜楔和第二斜楔；所述模具座设置有用于阻挡镶块移动的突出的第一挡块和用于阻挡第一斜楔移动的突出的第二挡块，所述模具座在第二挡块与镶块的预定安装位置之间设置有第一螺纹孔；所述第一斜楔设置有第一倾斜侧面及用于与所述第一螺纹孔配合以在第一螺纹孔内安装螺栓的通孔；所述第二斜楔设置有与所述第一倾斜侧面配合的第二倾斜侧面及用于与镶块侧面配合的第一安装侧面。该模具镶块固定结构不方便进行浸渍处理，浸渍处理效率低。
技术实现要素：
针对现有技术存在的不足，本实用新型提供了一种通过第一磁吸片与第二磁吸片可以吸附在镶块的端面上，从而方便对镶块进行牢固安装，方便对镶块进行浸渍处理的模具上的镶块浸渍装置。为了实现上述目的，本实用新型是通过如下的技术方案来实现：一种模具上的镶块浸渍装置，包括底座，底座的底部设有第一移动轮与第二移动轮，第一移动轮与第二移动轮的形状大小相同，第一移动轮与第二移动轮均为万向轮；底座上设有浸渍池，浸渍池的内部为空腔结构，浸渍池的端部上设有密封盖；浸渍池的底部一侧设有第一出液泵，浸渍池的底部另一侧设有第二出液泵；浸渍池的端部一侧内设有第一软条，第一软条的上端与浸渍池的端部一内侧连接，第一软条的下端设有第一磁吸片，浸渍池的端部另一侧内设有第二软条，第二软条的上端与浸渍池的端部连接，第二软条的下端设有第二磁吸片，第二磁吸片与第一磁吸片对应。进一步地，所述第一软条的上端与浸渍池之间设有第一固定环。进一步地，所述第二软条的上端与浸渍池之间设有第二固定环。进一步地，所述第一磁吸片为片状结构。进一步地，所述第二磁吸片为片状结构。进一步地，所述浸渍池的端部侧壁上设有进液泵。本实用新型的有益效果：由于本实用新型模具上的镶块浸渍装置，通过第一移动轮与第二移动轮可以方便对该浸渍装置进行灵活移动调节；可以将浸渍液倒入浸渍池内，再将待处理的镶块安放在浸渍池内，通过密封盖盖住浸渍池的端部；通过第一磁吸片与第二磁吸片可以吸附在镶块的端面上，从而方便对镶块进行牢固安装，方便对镶块进行浸渍处理。附图说明图1为本实用新型模具上的镶块浸渍装置的结构示意图。具体实施方式为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。如图1所示，一种模具上的镶块浸渍装置，包括底座1，底座1的底部设有第一移动轮2与第二移动轮3，第一移动轮2与第二移动轮3的形状大小相同，第一移动轮2与第二移动轮3均为万向轮；底座1上设有浸渍池4，浸渍池4的内部为空腔结构，浸渍池4的端部上设有密封盖5；浸渍池4的底部一侧设有第一出液泵6，浸渍池4的底部另一侧设有第二出液泵7；浸渍池4的端部一侧内设有第一软条8，第一软条8的上端与浸渍池4的端部一内侧连接，第一软条8的下端设有第一磁吸片9，浸渍池4的端部另一侧内设有第二软条11，第二软条11的上端与浸渍池4的端部连接，第二软条11的下端设有第二磁吸片12，第二磁吸片12与第一磁吸片9对应；第一软条8的上端与浸渍池4之间设有第一固定环10，第二软条11的上端与浸渍池4之间设有第二固定环13；第一磁吸片9为片状结构；第二磁吸片12为片状结构；浸渍池4的端部侧壁上设有进液泵14。本实用新型模具上的镶块浸渍装置，通过第一移动轮2与第二移动轮3可以方便对该浸渍装置进行灵活移动调节；可以将浸渍液倒入浸渍池4内，再将待处理的镶块安放在浸渍池4内，通过密封盖5盖住浸渍池4的端部；通过第一磁吸片9与第二磁吸片12可以吸附在镶块的端面上，从而方便对镶块进行牢固安装，方便对镶块进行浸渍处理。其中，第一软条8的上端与浸渍池4之间设有第一固定环10，第二软条11的上端与浸渍池4之间设有第二固定环13；所以安装更加牢固。其中，第一磁吸片9为片状结构；第二磁吸片12为片状结构；所以方便安装。其中，浸渍池4的端部侧壁上设有进液泵14；所以通过进液泵14可以方便输入液体。以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。