技术特征:1.一种模具上的镶块浸渍装置,包括底座,其特征在于:底座的底部设有第一移动轮与第二移动轮,第一移动轮与第二移动轮的形状大小相同,第一移动轮与第二移动轮均为万向轮;底座上设有浸渍池,浸渍池的内部为空腔结构,浸渍池的端部上设有密封盖;浸渍池的底部一侧设有第一出液泵,浸渍池的底部另一侧设有第二出液泵;浸渍池的端部一侧内设有第一软条,第一软条的上端与浸渍池的端部一内侧连接,第一软条的下端设有第一磁吸片,浸渍池的端部另一侧内设有第二软条,第二软条的上端与浸渍池的端部连接,第二软条的下端设有第二磁吸片,第二磁吸片与第一磁吸片对应。2.根据权利要求1所述的模具上的镶块浸渍装置,其特征在于:第一软条的上端与浸渍池之间设有第一固定环。3.根据权利要求1所述的模具上的镶块浸渍装置,其特征在于:第二软条的上端与浸渍池之间设有第二固定环。4.根据权利要求1所述的模具上的镶块浸渍装置,其特征在于:第一磁吸片为片状结构。5.根据权利要求1所述的模具上的镶块浸渍装置,其特征在于:第二磁吸片为片状结构。6.根据权利要求1所述的模具上的镶块浸渍装置,其特征在于:浸渍池的端部侧壁上设有进液泵。