1.一种堆栈式溅射镀膜装置，用于对基片进行镀膜，所述镀膜装置至少包括真空镀膜室、进片室和出片室，所述真空镀膜室的内腔为所述基片的镀膜空间，所述进、出片室分别用于进、出片，其特征在于：
所述真空镀膜室的一侧设置有搬送室，所述搬送室的内腔与所述真空镀膜室的内腔相连通，两者内腔之间的连通处为搬送口，在所述搬送室内设置有搬送机构，所述搬送机构实现所述基片在所述搬送室中的输送并通过所述搬送口实现所述搬送室与所述真空镀膜室之间的基片交换；
所述进、出片室分别与所述搬送室相连接，所述搬送室的内腔与所述进、出片室的内腔相连通，所述搬送室与所述进、出片室内腔之间的连通处分别为进片口和出片口，在所述进、出片室内分别设置有进片机构和出片机构，所述进、出片机构分别实现所述基片在所述进、出片室中的输送并通过所述进、出片口实现所述进、出片室与所述搬送室之间的基片交换。
2.根据权利要求1所述的一种堆栈式溅射镀膜装置，其特征在于：所述真空镀膜室内设置有可旋转的基片架，所述基片架上具有若干承载所述基片的工位，所述搬送机构配合所述可旋转的基片架实现基片的装卸。
3.根据权利要求1所述的一种堆栈式溅射镀膜装置，其特征在于：所述搬送室的搬送机构包括机械手和丝杆模组，其中所述机械手用于实现所述搬送室与所述真空镀膜室之间的基片交换，所述丝杆模组用于实现所述基片在所述搬送室中的输送。
4.根据权利要求1所述的一种堆栈式溅射镀膜装置，其特征在于：分设于所述进、出片室的所述进片机构、出片机构均包括机械手和皮带输送机构，其中所述机械手用于实现所述进、出片室与所述搬送室之间的基片交换，所述皮带输送机构应与实现所述基片在所述进、出片室中的输送。