一种CFF过滤板压紧装置的制作方法

本实用新型属于金属冶炼过滤装置技术领域，特别涉及一种CFF过滤板压紧装置。

背景技术：

过滤板的压紧问题一直困扰铝熔铸熔体在线过滤。泡沫陶瓷过滤板(Ceramic Foam Filter，以下简称CFF)主要用于铝熔体在线净化。因本身相对铝液密度较小，使用时存在较大浮力，如图1所示，一般靠CFF过滤板201与过滤盆壳体202边框之间的摩擦力和外界重物解决过滤板上浮问题。而外界重物常见的有铁块、钢制压架203或耐火材料重物204等。在之前的生产中常采用铁块压紧会导致铸造成品铁含量超标，而采用钢制压架和专用的耐火砖等压紧会导致遮挡过滤面积太大，上述方式都不是最理想的方法。

因此，如何解决在线金属熔体过滤中CFF过滤板压紧问题，降低遮挡过滤面积，提高金属熔体纯洁度。

技术实现要素：

本实用新型提供了一种CFF过滤板压紧装置，解决了在线金属熔体过滤中CFF过滤板压紧问题，降低了遮挡过滤面积，提高了金属熔体纯洁度。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种CFF过滤板压紧装置，包括设置在过滤盆壳体上的支撑板以及上端用于固定于所述支撑板且底端用于抵住CFF过滤板的“U”型预制件，所述支撑板与所述“U”型预制件均为耐火耐热材料。

优选地，在上述CFF过滤板压紧装置中，所述“U”型预制件的上端通过螺栓固定于所述支撑板。

优选地，在上述CFF过滤板压紧装置中，所述“U”型预制件为泡沫陶瓷“U”型预制件。

优选地，在上述CFF过滤板压紧装置中，所述支撑板为钢板。

优选地，在上述CFF过滤板压紧装置中，所述钢板为耐热不锈钢钢板。

本实用新型所提供的一种CFF过滤板压紧装置，包括支撑板和“U”型预制件。支撑板设置在过滤盆壳体上。“U”型预制件的上端用于固定在支撑板上，且底端用于抵住CFF过滤板。支撑板与“U”型预制件均为耐火耐热材料。相对于背景技术中采用外界重物如铁块、钢制压架、耐火材料重物等，导致遮挡过滤面积过大或铸造成品铁含量超标，本方案提供一种CFF过滤板压紧装置，采用“U”型预制件的特殊形状，预制件上端固定在支撑板上，预制件下端与CFF过滤板相抵接且线性接触，解决了在线金属熔体过滤中CFF过滤板压紧问题，降低了遮挡过滤面积，提高了金属熔体纯洁度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为背景技术中常用压紧装置的结构示意图；

图2为本方案所提供的一种CFF过滤板压紧装置的结构示意图。

上图中：预制件1、支撑板2、螺栓3、CFF过滤板201、过滤盆壳体202、钢制压架203、耐火材料重物204。

具体实施方式

本实用新型的核心是提供一种CFF过滤板压紧装置，解决了在线金属熔体过滤中CFF过滤板压紧问题，降低了遮挡过滤面积，提高了金属熔体纯洁度。

为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型提供的技术方案，下面将结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

请参考图2，本实用新型所提供的一种CFF过滤板压紧装置，包括支撑板2和“U”型预制件1。支撑板2设置在过滤盆壳体上，起到支撑作用。“U”型预制件1的上端用于固定在支撑板2上，且底端用于抵住CFF过滤板。支撑板2与“U”型预制件1均为耐火耐热材料，在铝熔体在线净化时不易。相对于背景技术中采用外界重物如铁块、钢制压架、耐火材料重物等，导致遮挡过滤面积过大或铸造成品铁含量超标，本方案提供一种CFF过滤板压紧装置，采用“U”型预制件的特殊形状，预制件上端固定在支撑板上，预制件下端与CFF过滤板相抵接且线性接触，解决了在线金属熔体过滤中CFF过滤板压紧问题，降低了遮挡过滤面积，提高了金属熔体纯洁度。

进一步，在一种具体实施方式中，“U”型预制件1的上端通过螺栓3固定于支撑板2，“U”型预制件1的底端抵住CFF过滤板，使得“U”型预制件1起到固定压紧CFF过滤板的作用。

进一步，支撑板2可以为钢板、也可以为耐热不锈钢钢板或其他具有较高耐火等级的材料，因此可以避免因支撑板2材料在高温下碳化后脱落而造成杂质污染铝液。

“U”型预制件1为泡沫陶瓷“U”型预制件。采用与CFF过滤板内衬相同的材料，使得在线净化效果更高。

本方案所述过滤盆壳体与CFF过滤板与现有技术中的过滤盆壳体202与CFF过滤板201的材质和用途相同，结构形状可以相同也可以为其他结构形状。

以上对本实用新型所提供的一种CFF过滤板压紧装置进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。