铝溅镀靶材的制作方法

技术总结
本发明提供一种具有与现有的铝溅镀靶材相同程度的导电性且可减少损伤的发生的溅镀靶材。本发明的铝溅镀靶材包含0.005原子％～0.04原子％的Ni、及0.005原子％～0.06原子％的La，且剩余部分为Al及不可避免的杂质。

技术研发人员：松村仁実
受保护的技术使用者：株式会社钢臂功科研
文档号码：201680002116
技术研发日：2016.06.03
技术公布日：2017.05.31