一种新型的PVD涂层的制作方法

文档序号:13660697阅读:226来源:国知局
本实用新型属于表面处理
技术领域
,涉及高速钢和硬质合金的表面处理技术,特别是涉及一种纳米结构的PVD涂层技术。
背景技术
:物理气相沉积(PVD,physicalVaporDeposiCron)是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上发展起来的一门先进的工程技术。它是将靶材(所镀薄膜材料)在真空环境下,经过物理过程而沉积在衬底(需镀膜工件)表面的过程。使用物理气相沉积技术在廉价的金属材料表面制造硬质陶瓷涂层是近年来研究的热点。高速钢和硬质合金的工件或者模具,在机械加工中应用非常广泛,而一般的高速钢和硬质合金的工件或模具的因为磨损、耐高温和润滑性等问题,导致其使用寿命会极大的衰退。技术实现要素:为了解决以上问题,本实用新型提出一种新型的PVD涂层。采用本实用新型的PVD涂层,可以有效提升高速钢和硬质合金的硬度、耐磨性、和耐高温性能,从而提高高速钢和硬质合金的使用寿命和产品质量、生产效率。一种新型的PVD涂层,其特征在于,包括硬质合金基体1、由内而外依附在基体1表面的结合层2和功能层3。所述的结合层2为Ti涂层,其厚度为0.07-0.09um;所述的功能层3为TiAl涂层,其厚度为0.09-0.11um,且TiAl涂层中Ti与Al的物质的量之比为50∶50。所述的涂层的总厚度(结合层+功能层)的总厚度为0.16-0.2um。一种新型的PVD涂层,其处理工艺如下:A、抽真空、加热:首先将基体1材料放置于真空镀膜设备中,调节设备真空度为6*10-5mbar,加热1h左右,使得温度升高到460-480℃。B、清洁基体1:离子轰击,偏置电压为10V,分子泵运行频率从起始抽真空时的100%下降到72%,在设备中同时通入纯度为99.999%的高纯度氢气(H)和99.999%的高纯度氩气(Ar),氢气(H)的流量为50-200sccm,氩气(Ar)的流量为50sccm,通气时间为20-30min。接着,偏置电压设为200V,在设备中通入高纯度氩气(Ar),氩气(Ar)的流量为50sccm,通气时间为20-30min。C、镀结合层2:分子泵频率为72%,在设备中充入氮气(N),使得设备中的压力为2.0*10-2mbar,单开Ti靶材,弧电流为150A,偏置电压为40V,涂层时间为4-6min。D、镀功能层3:分子泵频率为72%,在设备中冲入氮气(N),使得设备中的压力为4.0*10-2mbar,单开TiAl50/50靶材,弧电流为180A,偏置电压为40V,涂层时间为4-6min。E、最终出炉前将温度降低至200℃以下。采用本实用新型的方法制备的涂层的硬度为3000V,结合力采用洛氏硬度计测量可以达到HF1标准,与金属的摩擦摩擦系数为0.2,耐热温度为700℃。由此可见,采用本实用新型的经过PVD处理的硬质合金,可以有效提升硬质合金的硬度、耐磨性、和耐高温性能,从而提高硬质合金工件或模具的使用寿命和产品质量、生产效率。为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型的权利要求。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、同等替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围内。附图说明图1为本实用新型的具有PVD涂层的硬质合金的剖视结构示意图。主要元件符号说明:基体1结合层2功能层3如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本实用新型。具体实施方式具体实施案例1:一种新型的PVD涂层,其特征在于,包括基体1、由内而外依附在基体1表面的结合层2和功能层3。所述的结合层2为Ti涂层,其厚度为0.08um;所述的功能层3为TiAl涂层,其厚度为0.1um,且TiAl涂层中Ti与Al的物质的量之比为50∶50。所述的涂层的总厚度(结合层+功能层)的总厚度为0.18um。一种新型的PVD涂层,其处理工艺如下:A、抽真空、加热:首先将基体1材料放置于真空镀膜设备中,调节设备真空度为6*10-5mbar,加热1h左右,使得温度升高到460-480℃。B、清洁基体1:离子轰击,偏置电压为10V,分子泵运行频率从起始抽真空时的100%下降到72%,在设备中同时通入纯度为99.999%的高纯度氢气(H)和99.999%的高纯度氩气(Ar),氢气(H)的流量为50-200sccm,氩气(Ar)的流量为50sccm,通气时间为20-30min。接着,偏置电压设为200V,在设备中通入高纯度氩气(Ar),氩气(Ar)的流量为50sccm,通气时间为20-30min。C、镀结合层2:分子泵频率为72%,在设备中充入氮气(N),使得设备中的压力为2.0*10-2mbar,单开Ti靶材,弧电流为150A,偏置电压为40V,涂层时间为5min。D、镀功能层3:分子泵频率为72%,在设备中冲入氮气(N),使得设备中的压力为4.0*10-2mbar,单开TiAl50/50靶材,弧电流为180A,偏置电压为40V,涂层时间为5min。E、最终出炉前将温度降低至200℃以下。采用本实用新型的方法制备的涂层的硬度为3500V,结合力采用洛氏硬度计测量可以达到HF1标准,与金属的摩擦摩擦系数为0.2,耐热温度为900℃。具体实施案例2:一种新型的PVD涂层,其特征在于,包括基体1、由内而外依附在基体1表面的结合层2和功能层3。所述的结合层2为Ti涂层,其厚度为0.07um;所述的功能层3为TiAl涂层,其厚度为0.11um,且TiAl涂层中Ti与Al的物质的量之比为50∶50。所述的涂层的总厚度(结合层+功能层)的总厚度为0.18um。经过PVD表面处理的硬质合金刀具涂层的硬度为3000V,结合力采用洛氏硬度计测量可以达到HF1标准,与金属的摩擦摩擦系数为0.2,耐热温度为700℃。具体的制备过程不再参考具体实施案例1,此处不再细述。具体实施案例3:一种新型的PVD涂层,其特征在于,包括基体1、由内而外依附在基体1表面的结合层2和功能层3。所述的结合层2为Ti涂层,其厚度为0.09um;所述的功能层3为TiAl涂层,其厚度为0.09um,且TiAl涂层中Ti与Al的物质的量之比为50∶50。所述的涂层的总厚度(结合层+功能层)的总厚度为0.18um。经过PVD表面处理的硬质合金刀具涂层的硬度为3000V,结合力采用洛氏硬度计测量可以达到HF1标准,与金属的摩擦摩擦系数为0.2,耐热温度为700℃。具体的制备过程不再参考具体实施案例1,此处不再细述。以上所述实施例,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。当前第1页1 2 3 
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