一种可实现均匀滴料的供料装置的制作方法

本实用新型属于光学晶体、半导体晶片等的研磨和抛光领域，进一步说，尤其涉及一种可实现均匀滴料的供料装置。

背景技术：

研磨抛光机的原理，就是通过磨料与研磨盘、抛光垫等配合，对材料表面进行加工处理。因此，研磨抛光料的供给也是重要的一环。在精密光学及半导体器件的加工中，均匀可控的磨抛料供给不仅能达到最佳的表面加工质量，实现工艺稳定，亦可节约成本，提高效率。

目前的供料方式主要采用电机搅拌式，容器内采用电机转子搅拌，然后通过液体泵将料液抽到盘面上。电机搅拌式的流量一般都比较大，旋转阀控制不灵敏，而且流量不能精细控制，且当工艺暂停时，料液容易沉淀，再次启动需要一段时间才搅拌均匀。

技术实现要素：

本实用新型为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种可实现均匀滴料的供料装置，其中，具体技术方案为：

包括电机一和电机二，所述电机一连接滚轮，所述电机二上设置旋转导杆，所述旋转导杆的下方设置导料槽，所述旋转导杆上设置滚筒，所述滚筒上设置阀体，所述阀体包括阀座，所述阀座内设置阀体出料部分，所述阀座外设置阀体偏心取料部分，所述阀体偏心取料部分设置存料腔，所述存料腔设置料液溢出口，所述阀体出料部分与存料腔之间设置导出孔，所述阀体偏心取料部分上设置取料管。

上述的可实现均匀滴料的供料装置，其中：所述阀体出料部分和阀体偏心取料部分为一整体，所述阀体偏心取料部分与阀体出料部分连接后形成偏心结构

本实用新型相对于现有技术具有如下有益效果：阀体结构及供料方式，采用敞口式的偏心结构，可防止料液的沉淀和堵塞，整个供料过程流畅、稳定，能给研磨抛光输出均匀、精确的料液量，从而确保研磨加工工艺的稳定性和精确性。

附图说明

图1为可实现均匀滴料的供料装置的结构示意图。

图2为可实现均匀滴料的供料装置的结构示意图。

图3为滚筒和阀体的结构示意图。

图4-9为阀体的结构示意图。

图中：

1、阀座 2、阀体出料部分 3、阀体偏心取料部分 4、取料管 5、存料腔 6、料液溢出口 7、导出孔 8、料液 9、取料管出口

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。

本实用新型采用一种可旋转的定量偏心导流阀，再配合电机转动，以提供精确均匀的供料，不堵塞管路，适合沉淀式的研磨液和悬浮状抛光液。

本实用新型采用一种可实现均匀滴料的供料装置，包括电机一和电机二，所述电机一连接滚轮，所述电机二上设置旋转导杆，所述旋转导杆的下方设置导料槽，所述旋转导杆上设置滚筒，所述滚筒上设置阀体，所述阀体包括阀座，所述阀座内设置阀体出料部分，所述阀座外设置阀体偏心取料部分，所述阀体偏心取料部分设置存料腔，所述存料腔设置料液溢出口，所述阀体出料部分与存料腔之间设置导出孔，所述阀体偏心取料部分上设置取料管，所述阀体出料部分和阀体偏心取料部分为一整体，所述阀体偏心取料部分与阀体出料部分连接后形成偏心结构。

研磨液装在滚筒内，滚筒放置在支架的的滚轮上面，电机1转动，带动滚轮，滚轮驱动滚筒顺时针或逆时针转动，磨料在里边不停被搅拌均匀。

电机2带动旋转导杆转动，旋转导杆带动滚筒的阀体转动，阀体的取料管就不断的从滚筒中取料，取好料后送入存料腔。

阀体为偏心定量(体积)阀，其存液量体积可根据应用来设计尺寸大小，另外取料管的长短，粗细，以及数量，也可以根据实际应用来设计。

如图4所示，阀体出料部分2和阀体偏心取料部分3为一整体，组成阀体，可在阀座1中旋转运动。取料管4安装在阀体偏心取料部分3上。在旋转过程中，由于阀体偏心取料部分3的偏心设计，导料孔7会处在不同高度位置。

图4-5：阀体转动到上图位置，取料管4处于最低位置，浸泡在料液中，开始采集滚筒内的料液，然后继续转动，料液进入取料管4存储。

当阀体转到图8-9进料位置时，取料管4中采集的料液经取料管出口9流入存料腔5中(图中料液位置)，多余的料液会从溢出口6溢出，流回个滚筒内。导出孔7此时处于中部斜向上位置，高于存料腔5中的料液面。因此料液不会从左侧流出。

阀体继续转动到图6-7出料位置，导料孔7处于下方斜向下位置，即出料位置。此时存料腔5中的料液经导料孔7，从出料口2流出，滴到下方的导料槽中。

至此阀体完成一周转动，流出一定体积的料液。通过有刻度的量筒，我们可以测出单次流出的出液量Vs。电机转速可以通过软件设定，如每分钟N转。那么一分钟的出液量Vt＝Vs*N。通过设计，我们可以控制好Vs的大小，通过软件控制电机转速N的大小。所以每分钟的出液量大小我们也可以完全精确控制。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。