一种用于齿圈加工的加热工艺设备的制作方法

文档序号:21258908发布日期:2020-06-26 22:18阅读:175来源:国知局
一种用于齿圈加工的加热工艺设备的制作方法

本实用新型主要涉及淬火设备的技术领域,具体涉及一种用于齿圈加工的加热工艺设备。



背景技术:

齿圈在铣削成型后,需要进行淬火,淬火是一种热处理工艺,是将钢加热到临界ac3以上温度,大约820℃~870℃,保温一段时间后,使其全部奥氏体化,再进行快速冷却,进行马氏体转变,可以提高齿圈的结构性能,但是目前的淬火设备简陋,由此一种用于齿圈加工的加热工艺设备被提出。

目前的用于齿圈加工的加热工艺设备在加热后不能快速均匀冷却,大大降低了淬火的效果。



技术实现要素:

本实用新型主要提供了用于齿圈加工的加热工艺设备,用以解决上述背景技术中提出的在加热后不能快速均匀冷却,大大降低了淬火的效果的技术问题。

本实用新型解决上述技术问题采用的技术方案为:

包括座体,所述座体的表面上开设有通槽,所述通槽为半封闭结构,且通槽的下方开设有伸缩槽,所述伸缩槽的底端安装有送料气缸,所述送料气缸的顶端伸缩连接有托盘,所述通槽远离座体边沿处的顶端安装有涡流线圈,所述涡流线圈的顶端安装有顶板,所述顶板的两侧通过支撑柱与座体的表面固定连接,两个所述支撑柱的外侧均连接有防护网,所述座体的右侧安装有控制盒,所述控制盒的表面上安装有显示屏,所述显示屏的底端安装有操控按键,所述控制盒的内部安装有控制器,所述控制器的一侧安装有定时器,所述送料气缸和涡流线圈均与定时器电性连接,所述定时器、显示屏和控制器均与操控按键电性连接,所述操控按键与外界电源电性连接。

进一步的,所述伸缩槽的内壁上镶嵌有冷却环,所述冷却环的内壁上开设有密集的小孔,且冷却环为中空夹层结构。

进一步的,所述座体的一侧上安装有水泵,所述水泵的一侧通过管道连接有水箱,所述水泵通过管道连接有球形节,所述球形节上的四周分别连接有四个支管,所述支管分别等间距与冷却环的外壁连接。

进一步的,所述伸缩槽的底端边沿处开设有环槽,所述环槽靠近座体背部的位置处连接有排水通道。

进一步的,所述座体背部的内部安装有推料气缸,所述推料气缸的活塞杆上安装有推料块,所述推料块贯穿至通槽的内壁上,所述推料块为弧形结构,且推料块的表面与通槽的内壁相吻合。

进一步的,所述托盘的直径数值小于伸缩槽的直径数值,且托盘的截面为锥形结构。

进一步的,所述座体和托盘均为高铝水泥材质。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:

1.该用于齿圈加工的加热工艺设备的座体整表面为高铝水泥材质,耐火性好,使用寿命长,淬火时,将齿圈沿着通槽推至末端,与线圈相对应,接着利用托盘将齿圈送至涡流线圈中,在淬火后,可以通过送料气缸立即下降,使得齿圈处于伸缩槽中与冷却环相对应,此时冷却环上的小孔喷出水流,将齿圈冷却,整个过程有序、快捷,大大提高了冷却速度和冷却的均匀度。

2.该用于齿圈加工的加热工艺设备在通槽上设置有推料块,在齿圈冷却后,托盘复位至与通槽在同一平面上,接着推料块在推料气缸作用下推出,使得齿圈超出与涡流线圈重合的部分,此时可人工通过钩杆勾出齿圈,并进行统计和整理,使用方便,实用性强。

3.该用于齿圈加工的加热工艺设备在伸缩槽的底端开设有环槽,当冷却环的水喷出并冷却后,剩下未挥发的水会从带有锥度的托盘上流出,并流至环槽中距离,同时从环槽一侧的排水通道排出,避免水的聚集,在淬火时,由于水的挥发产生较大水雾,干扰生产环境。

以下将结合附图与具体的实施例对本实用新型进行详细的解释说明。

附图说明

图1为本实用新型的实体效果图;

图2为本实用新型的局部透视图;

图3为本实用新型的座体局部拆解图;

图4为本实用新型座体底部实体效果图;

图5为本实用新型推料气缸实体效果图;

图6为本实用新型冷却环结构示意图;

图7为本实用新型托盘结构示意图;

图8为本实用新型控制盒结构示意果图;

图9为本实用新型淬火工艺程序流程图。

图中:1、座体;2、通槽;3、涡流线圈;4、支撑柱;5、顶板;6、防护网;7、推料块;8、水泵;9、水箱;10、控制盒;11、托盘;12、送料气缸;13、伸缩槽;14、冷却环;15、环槽;16、排水通道;17、推料气缸;18、支管;19、球形节;20、控制器;21、定时器;22、显示屏;23、操控按键。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型,下面将参照相关附图对本实用新型进行更加全面的描述,附图中给出了本实用新型的若干实施例,但是本实用新型可以通过不同的形式来实现,并不限于文本所描述的实施例,相反的,提供这些实施例是为了使对本实用新型公开的内容更加透彻全面。

需要说明的是,当元件被称为“固设于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上也可以存在居中的元件,当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件,本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常连接的含义相同,本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语知识为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本实用新型,本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请着重参照附图1-9,包括座体1,座体1的表面上开设有通槽2,通槽2为半封闭结构,且通槽2的下方开设有伸缩槽13,伸缩槽13的底端安装有送料气缸12,送料气缸12的顶端伸缩连接有托盘11,通槽2远离座体1边沿处的顶端安装有涡流线圈3,涡流线圈3运用了涡流效应,其原理是:利用交变电流通过涡流线圈3产生交变磁场,磁场内的齿圈会产生涡流,并被加热,涡流线圈3的顶端安装有顶板5,顶板5的两侧通过支撑柱4与座体1的表面固定连接,两个支撑柱4的外侧均连接有防护网6,座体1的右侧安装有控制盒10,控制盒10的表面上安装有显示屏22,显示屏22的底端安装有操控按键23,控制盒10的内部安装有控制器20,控制器20的一侧安装有定时器21,送料气缸12和涡流线圈3均与定时器21电性连接,定时器21、显示屏22和控制器20均与操控按键23电性连接,操控按键23与外界电源电性连接,定时器21为一种现有技术,其原理是:定时器21内部包含预置端子,预置端子可以预置计数值,当开始计数时,会做减法计数,当计数为零时,计数时间到,就会输出一个控制脉冲,用控制脉冲去触发下一级电路。

请着重参照附图2,伸缩槽13的内壁上镶嵌有冷却环14,冷却环14的内壁上开设有密集的小孔,且冷却环14为中空夹层结构。在本实施例中,通过水流通过冷却环14上的小孔,喷向齿圈的四周,从而使得齿圈均匀冷却。

请着重参照附图2和附图6,座体1的一侧上安装有水泵8,水泵8的一侧通过管道连接有水箱9,水泵8通过管道连接有球形节19,球形节19上的四周分别连接有四个支管18,支管18分别等间距与冷却环14的外壁连接。在本实施例中,通过启动水泵8,通过水泵8内的叶片高速转动,产生负压,将水吸入,并经过圆形的球形节19,此时水再从球形节19分别流向四个支管18,使得每个支管18的水压一样,大大提高了冷却水的均匀效果,接着水进入冷却环14的内腔,再经内腔从小孔排出。

请着重参照附图4,伸缩槽13的底端边沿处开设有环槽15,环槽15靠近座体1背部的位置处连接有排水通道16。在本实施例中,喷出的水再将齿圈冷却后,剩下未挥发的水会继续流下,并流淌在环槽15上,接着水会从排水通道16流出,避免水的聚集,导致水过多挥发,产生白色水雾,干扰生产环境。

请再次着重参照附图2和附图5,座体1背部的内部安装有推料气缸17,推料气缸17的活塞杆上安装有推料块7,推料块7贯穿至通槽2的内壁上,推料块7为弧形结构,且推料块7的表面与通槽2的内壁相吻合。在本实施例中,通过启动推料气缸17,内部充满气压,推动活塞杆运动,使得推料块7推动齿圈,使得齿圈与涡流线圈3相重合的一部分移动至涡流线圈3,这样方便人工通过钩杆将齿圈勾出。

请再次着重参照附图3和附图7,托盘11的直径数值小于伸缩槽13的直径数值,且托盘11的截面为锥形结构。在本实施例中,确保水流能完全从托盘11上流出,避免托盘11上残留有过多的水,在淬火时,影响齿圈加热时温度上升的幅度,影响了加热需要达到的时间,导致淬火后齿圈上部分结构的性能有差异。

本实用新型的具有操作方式如下:

首先通过操控按键23设定好程序,接着将齿圈放置在通槽2的开口处,接着通过钩杆将齿圈推至通槽2的内部,使得齿圈与涡流线圈3相对应,同时齿圈套在托盘11上,接着启动送料气缸12,送料气缸12上的伸缩杆带动托盘11向上移动,使得托盘11上的齿圈位于涡流线圈3的内部,同时使得涡流线圈3内通过交变电流,形成交变磁场,产生涡流,使得齿圈加热,待一定时间后,送料气缸12下降,带动齿圈下降至伸缩槽13内,使得齿圈与冷却环14相对应,此时水泵8启动,产生负压,将水吸入,并经过圆形的球形节19,此时水再从球形节19分别流向四个支管18,使得每个支管18的水压一样,大大提高了冷却水的均匀效果,接着水进入冷却环14的内腔,再经内腔从小孔排出,实现对齿圈的快速、均匀冷却,同时部分水会沿着托盘11上的锥面下落,并流淌在下方的环槽15上,并从一侧的排水通道16排出,然后送料气缸12再次上升,使得托盘11与通槽2为同一平面,同时推料气缸17启动,通过活塞杆17伸出,利用推料块7推动齿圈,使得齿圈与涡流线圈3相重合的一部分移动至涡流线圈3,此时操作人员可以通过钩杆将齿圈勾出,整个工作流程结束。

上述结合附图对实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的这种非实质改进,或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其他场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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