一种真空磁控溅射镀膜机的制作方法

本实用新型涉及镀膜机加工领域，具体涉及到一种真空磁控溅射镀膜机。

背景技术：

磁控溅射镀膜主要用于电子工业、磁性材料及记录介质、光学及光导通讯等，具有高速、低温、低损伤等优点.高速是指沉积速率快；低温和低损伤是指基片的温升低，损伤小，常见的磁控溅射镀膜机中采用的工件架，是固定的，在不同的大小高度的物件，需要大小不同的工件架，进而会需求很多的工件架，而如此大量的工件架会造成工件架的大量堆积，不仅占空间，而且还浪费资源。

技术实现要素：

(一)要解决的技术问题

本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机，解决了传统工件架，是固定的，在不同的大小高度的物件，需要大小不同的工件架，进而会需求很多的工件架，而如此大量的工件架会造成工件架的大量堆积，不仅占空间，而且还浪费资源的问题。

(二)技术方案

为解决所述技术问题，本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架，所述工件架设置在所述真空箱体上端内部，所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接，所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆，所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘，所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆，所述工件杆为伸缩设置，所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架，所述工件安置架设置有中间杆以及分支架。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述真空箱体包括真空风口，所述真空风口设置在所述真空箱体内壁上，所述抽真空机构通过真空管道与所述真空风口连接。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件架通过所述工件中心杆与所述转动轴相连接，所述转动轴底端设置有开口，所述工件中心杆顶端设置有环扣。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述分支架包括轴向均布的安置杆，所述分支架中心设置有可以穿过所述中间杆的通孔。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件中心杆通过所述环扣扣住所述转动轴上的开口形成可拆卸连接；所述转动轴上套设置有稳定装置，所述稳定装置包括外筒、内筒以及稳定珠，所述内筒设置在外筒内，且之间设置若干个稳定珠。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述工件杆至少设置有两杆，所述工件安置架至少设置有两个，且所述工件杆与所述工件圆盘可拆卸连接，所述工件安置架与所述工件杆可拆卸连接。

本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机进一步优选的设置为所述驱动电机通过固定架设置在所述真空箱体顶部。

(三)有益效果

1.本实用新型采用了一种真空磁控溅射镀膜机，所述工件架可以调节自由调节的高度，可以根据物件的大小来设置工件架的高度，且所述工件杆设置为伸缩，可以根据需要工件大小，自由调节。

2.所述工件架中安装架可以拆卸，可以将镀膜好的产品直接通过安装架取下，然后接着将未镀膜的产品安装架放置到工件架上，进行工作。

3.在所述转动轴外元套设有稳定装置，在驱动电机带动多大胡工件架转动的时候，防止转动轴振动没从而导致溅射镀膜不均。

附图说明

图1为本实用性提供的一种真空磁控溅射镀膜机的结构示意图；

图2为本实用性提供的一种真空磁控溅射镀膜机的正面结构示意图；

图3为图2a部局部放大结构示意图；

图4为图2b部局部放大结构示意图；

图5位本实用新型提供了一种真空磁控溅射镀膜机的分支架结构示意图；

其中：10、真空箱体；20、工件架；30、转动轴；40、驱动电机；50、工件杆；60、工件圆盘；70、工件中心杆；80、工件安置架；90、中间杆；100、分支架；110、真空风口；120、真空管道；130、开口；140、环扣；150、安置杆；160、通孔；170、稳定装置；1701、外筒；1702、内筒；1703、稳定珠。

具体实施方式

下面结合实施例和附图1-5，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

如图1所示，本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空箱体10、抽真空机构以及与工件架20，所述工件架20设置在所述真空箱体10上端内部，所述工件架20通过转动轴30与设置在真空箱体10上端的驱动电机40相连接，所述工件架20包括工件杆50、工件圆盘60以及工件中心杆70，所述工件杆50呈环形设置在所述工件圆盘60，所述工件圆盘60的圆心固定连接工件中心杆70，所述工件杆50为伸缩设置，所述工件杆50远离中心圆盘对的一端设置工件安置架80，所述工件安置架80设置有中间杆90以及分支架100。

具体的，所述真空箱体10包括真空风口110，所述真空风口110设置在所述真空箱体10内壁上，所述抽真空机构通过真空管道120与所述真空风口110连接。

具体的，所述工件架20通过所述工件中心杆70与所述转动轴30相连接，所述转动轴30底端设置有开口130，所述工件中心杆70顶端设置有环扣140。

具体的，所述分支架100包括轴向均布的安置杆150，所述分支架100中心设置有可以穿过所述中间杆90的通孔160，根据物件的高度可以通过设置所述分支架100的通孔160调节所需要的高度，以及小物件可以在所述中间杆90上设置2-3个所述分支架100，这样可以节约空间资源，同时加快工时。

具体的，所述工件中心杆70通过所述环扣140扣住所述转动轴30上的开口130形成可拆卸连接；所述转动轴30上套设置有稳定装置170，所述稳定装置170包括外筒1701、内筒1702以及稳定珠1703，所述内筒1702设置在外筒1701内，且之间设置若干个稳定珠1703，且在驱动电机40带动多大胡工件架20转动的时候，防止转动轴30振动没从而导致溅射镀膜不均。

具体的，所述工件杆50至少设置有两杆，所述工件安置架80至少设置有两个，且所述工件杆50与所述工件圆盘60可拆卸连接，所述工件安置架80与所述工件杆50可拆卸连接。

具体的，所述驱动电机40通过固定架设置在所述真空箱体10顶部。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架，其特征在于,所述工件架设置在所述真空箱体上端内部，所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接，所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆，所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘，所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆，所述工件杆为伸缩设置，所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架，所述工件安置架设置有中间杆以及分支架。

2.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述真空箱体包括真空风口，所述真空风口设置在所述真空箱体内壁上，所述抽真空机构通过真空管道与所述真空风口连接。

3.根据权利要求2所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述工件架通过所述工件中心杆与所述转动轴相连接，所述转动轴底端设置有开口，所述工件中心杆顶端设置有环扣。

4.根据权利要求3所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述分支架包括轴向均布的安置杆，所述分支架中心设置有可以穿过所述中间杆的通孔。

5.根据权利要求4所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述工件中心杆通过所述环扣扣住所述转动轴上的开口形成可拆卸连接；所述转动轴上套设置有稳定装置，所述稳定装置包括外筒、内筒以及稳定珠，所述内筒设置在外筒内，且之间设置若干个稳定珠。

6.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述工件杆至少设置有两杆，所述工件安置架至少设置有两个，且所述工件杆与所述工件圆盘可拆卸连接，所述工件安置架与所述工件杆可拆卸连接。

7.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述驱动电机通过固定架设置在所述真空箱体顶部。

技术总结
本实用新型提供一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空箱体、抽真空机构以及与工件架，所述工件架设置在所述真空箱体上端内部，所述工件架通过转动轴与设置在真空箱体上端的驱动电机相连接，所述工件架包括工件杆、工件圆盘以及工件中心杆，所述工件杆呈环形设置在所述工件圆盘，所述工件圆盘的圆心固定连接工件中心杆，所述工件杆为伸缩设置，所述工件杆远离中心圆盘对的一端设置工件安置架，所述工件安置架设置有中间杆以及分支架解决了传统工件架固定的，在不同的大小高度的物件，需要大小不同的工件架，这样容易造成工件架种类繁多，且造成工件架堆积，从而浪费资源的问题。

技术研发人员：王军;何茵
受保护的技术使用者：浙江三海微纳科技有限公司
技术研发日：2019.10.28
技术公布日：2021.01.15