一种新型pvd镀膜机工件转台的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种新型PVD镀膜机工件转台。
【背景技术】
[0002]真空镀膜机用于在真空中对工件镀膜，真空镀膜机包含构成于工件的加工腔体的真空室，真空室内设置有转架装置，该转架装置可以通过驱动装置驱动转动，从而实现工件的转动。
[0003]现有的PVD真空镀膜真空室结构为原型或者多边形。底部结构为平底。转架一般直接安装在真空室平底上，进行转动。需要加工的工件安置在转架上，被转架带动进行自转和公转。因为转架结构是安装在真空室平底上，转架本身的传动结构较复杂，所以它需要一定的高度来安装这些传动结构。由于被加工的工件是放置在转架上的，所以工件的位置将比转架更高。这样真空室的有效空间就有部分被转架所占用，真空室的空间不能得到有效充分利用。
【发明内容】
[0004]本实用新型目的是克服现有技术的不足，提供一种新型PVD镀膜机工件转台。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是:一种新型PVD镀膜机工件转台，包括镀膜机、转盘、转架、传动轴、轴承座、隔热管，其中镀膜机底面开设有圆孔；所述传动轴设置在该圆孔中心位置，其中转动轴上方设有转盘和转架，该传动轴下方设有轴承座；所述圆孔周边设有隔热管，该隔热管为上端开口大，下端开口小的“T”型扩口管；所述隔热管上端扩口与镀膜机底面外侧连接，该隔热管下端开口与轴承座连接；所述隔热管上端扩口内部与镀膜机底面和圆孔组成一容纳凹槽，其中转盘、转架设置在该容纳凹槽内。
[0006]作为优选，所述圆孔的孔径大于转盘的直径。
[0007]作为优选，所述转盘设置在转架下方，其中转架上端面与镀膜机底面内侧齐平。
[0008]作为优选，所述容纳凹槽的槽深与转盘的高度相同。
[0009]本实用新型采用下沉结构，通过在镀膜机底部增设容纳凹槽，并将转盘和转架设置在容纳凹槽内，大大增加了真空镀膜机真空室的有效空间和装载量，使真空室的空间完全得到充分有效的使用。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
[0011 ] 下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体说明。
[0012]图1是本实用新型结构示意图。由图1可知，一种新型PVD镀膜机工件转台，主要由镀膜机、转盘4、转架3、传动轴5、轴承座7、隔热管8等组成，其中镀膜机底面I开设有圆孔2 ;所述传动轴5设置在该圆孔2中心位置，其中转动轴5上方设有转盘4和转架3，该传动轴5下方设有轴承座7。圆孔2的孔径大于转盘4和转架3的直径，转盘4设置在转架3下方，其中转架3上端面300与镀膜机底面I内侧面100齐平。
[0013]圆孔2周边设有隔热管8，该隔热管8为上端开口大，下端开口小的“T”型扩口管；隔热管8上端扩口与镀膜机底面I外侧连接，该隔热管8下端开口与轴承座7连接；隔热管8上端扩口内部与圆孔2组成一容纳凹槽6，其中转盘4、转架3设置在该容纳凹槽6内，该容纳凹槽6的槽深与转盘4的高度相同。
[0014]本实用新型采用下沉结构，通过在镀膜机底部I增设容纳凹槽6，并将转盘4和转架3设置在容纳凹槽6内，大大增加了真空镀膜机真空室的有效空间和装载量，使真空室的空间完全得到充分有效的使用。
[0015]本实用新型通过上述实施例来说明本实用新型的实施方案及结构，但本专利并不局限于上述实施方式，凡采用和本实用新型相似结构来实现本实用新型目的的所有方式，均在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种新型PVD镀膜机工件转台，包括镀膜机、转盘、转架、传动轴、轴承座、隔热管，其中镀膜机底面开设有圆孔；其特征是，所述传动轴设置在该圆孔中心位置，其中转动轴上方设有转盘和转架，该传动轴下方设有轴承座；所述圆孔周边设有隔热管，该隔热管为上端开口大，下端开口小的“T”型扩口管；所述隔热管上端扩口与镀膜机底面外侧连接，该隔热管下端开口与轴承座连接；所述隔热管上端扩口内部与镀膜机底面、圆孔组成一容纳凹槽，其中转盘、转架设置在该容纳凹槽内。
2.根据权利要求1所述的一种新型PVD镀膜机工件转台，其特征是，所述圆孔的孔径大于转盘的直径。
3.根据权利要求1所述的一种新型PVD镀膜机工件转台，其特征是，所述转盘设置在转架下方，其中转架上端面与镀膜机底面内侧齐平。
4.根据权利要求1所述的一种新型PVD镀膜机工件转台，其特征是，所述容纳凹槽的槽深与转盘的高度相同。
【专利摘要】一种新型PVD镀膜机工件转台，包括镀膜机、转盘、转架、传动轴、轴承座、隔热管，其中镀膜机底面开设有圆孔；所述传动轴设置在该圆孔中心位置，其中转动轴上方设有转盘和转架，该传动轴下方设有轴承座；所述圆孔周边设有隔热管，该隔热管为上端开口大，下端开口小的“T”型扩口管；所述隔热管上端扩口与镀膜机底面外侧连接，该隔热管下端开口与轴承座连接；所述隔热管上端扩口内部与镀膜机底面组成一容纳凹槽，其中转盘、转架设置在该容纳凹槽内。本实用新型采用下沉结构，通过在镀膜机底部增设容纳凹槽，并将转盘和转架设置在容纳凹槽内，大大增加了真空镀膜机真空室的有效空间和装载量，使真空室的空间完全得到充分有效的使用。
【IPC分类】C23C14-50
【公开号】CN204281854
【申请号】CN201420747007
【发明人】郭涛, 蔡云锋, 王宁, 郭勤辉, 周岭
【申请人】深圳市莱恩顿纳米技术有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月3日