蒸发设备的制造方法

文档序号:8392678阅读:229来源:国知局
蒸发设备的制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明的一个方面涉及蒸发设备。
【背景技术】
[0002]在显示装置中,有机发光显示器(OLED)使用通过电子和空穴的复合而生成光的有机发光二极管来显示图像。OLED具有快速响应速度且以低功耗驱动。因此,OLED作为下一代显示装置而备受瞩目。
[0003]通常,为了制造0LED,应执行在基板上形成由有机材料制成的薄膜的沉积工艺。如果装载于坩埚中的沉积材料被加热,则被蒸发的沉积材料的蒸汽穿过预定的掩模图案而安装在基板上。

【发明内容】

[0004]根据本发明的一个方面,提供了一种蒸发装置,其包括坩埚体、加热部、喷嘴部以及多个分隔板,其中坩埚体配置成在其中容纳沉积材料,加热部配置成蒸发容纳在坩埚体中的沉积材料,喷嘴部配置成具有至少一个喷孔,沉积材料通过喷嘴部喷射,以及多个分隔板设置在坩埚体内部以将坩埚体分为多个容纳空间,多个分隔板具有开口,容纳空间通过开口而彼此相通。
[0005]分隔板和坩埚体可以具有不同的热导率。
[0006]多个分隔板可以具有不同的热导率。
[0007]多个分隔板可以包括:第一分隔板和第二分隔板,第一分隔板具有低于坩埚体的第一热导率的第二热导率,第二分隔板具有高于第一热导率的第三热导率。
[0008]各个分隔板可以包括:配置成具有第一热导率的第一表面、以及配置成具有不同于第一热导率的第二热导率的第二表面,第二表面与第一表面相对。
[0009]每个分隔板具有的开口的大小或数量可与其它分隔板不同。
[0010]分隔板可以被设置成可附接至坩埚体/与坩埚体可分开。
[0011 ] 坩埚体可以包括钛,分隔板可以包括铜。
[0012]蒸发设备还可以包括:安装在坩埚体的侧部处的隔热板。
[0013]坩埚体的底部表面可以形成为具有不同高度。
[0014]位于坩埚体的边缘部处的底部表面可以形成为比位于坩埚体的中心部处的底部表面闻。
【附图说明】
[0015]将在下文参照附图更全面地描述示例性实施方式;然而,示例性实施方式可以以不同的形式实现并且不应被解释为限制于本文所提及的实施方式。相反,提供这些实施方式以使本公开是彻底和完整的,并且将示例性实施方式的范围充分传达给本领域技术人员。
[0016]在附图中,为了清楚地图示可放大尺寸。应该理解,当一个元件被称为位于两个元件“之间”时,该元件可以是两个元件之间的唯一元件,或者还可存在一个或多个中间元件。在全文中,相同的参考标记指示相同的元件。
[0017]图1是根据本发明的第一实施方式的蒸发设备的示意性截面图。
[0018]图2是图1的蒸发设备的平面图。
[0019]图3是示出设置在坩埚体内的分隔板的图。
[0020]图4A、图4B、图4C和图4D是示出分隔板的各实施方式的图。
[0021]图5是示出坩埚体的另一实施方式的截面图。
【具体实施方式】
[0022]在以下详细描述中,通过示例的方式仅示出并描述本发明的某些示例性实施方式。如本领域技术人员应理解,在不背离本发明的精神或范围的情况下可以以多种不同的方式修改所描述的实施方式。因此,附图和描述本质上被视为说明性的,而非限制性的。
[0023]图1是根据本发明的第一实施方式的蒸发设备的示意性截面图。图2是图1的蒸发设备的平面图。
[0024]该实施方式的蒸发设备例如可应用为用于制造其中的装置层通过沉积由液体或固体沉积材料所产生的蒸汽或蒸汽的反应产物而形成的半导体装置(诸如存储器或逻辑电路)的气相沉积设备,或者可应用为用于制造诸如有机发光二极管的显示装置的气相沉积设备。然而,这仅为示例性的,蒸发设备可根据沉积材料而应用为其他光电装置,例如电化学电池、光导电池、光电阻、光电开关、光电晶体管和光电管。
[0025]虽然在该实施方式中仅描述具有线性源结构的蒸发设备,但是本发明不限于此。在另一实施方式中,蒸发设备可具有点式源结构或区域式源结构。
[0026]参照图1和图2,蒸发设备可包括坩埚体10、加热部20、喷嘴部30、分隔板40以及隔热板50。
[0027]坩埚体10具有用于在其中容纳沉积材料SM的空间。该实施方式的坩埚体10为具有矩形容器形状的线性源,其中在一个方向上布置有多个单元容纳空间(或袋)。沉积材料SM可包括高分子有机材料、低分子有机材料、聚合物、有机材料等。沉积材料SM可以处于固态或液态。容纳在坩埚体10中的沉积材料SM可具有在不执行工艺的同时填充大量沉积材料SM的结构,以使该工艺可执行较长时间。在另一实施方式中,在执行工艺的同时可从坩埚体10的外部供给沉积材料SM。
[0028]一部分坩埚体10或整个坩埚体10的材料可选自诸如不锈钢、铝、钛或铜的金属材料、通过其可观察内部的诸如石英或玻璃的材料、以及具有热绝缘效果的诸如陶瓷的材料中的任一种,或者它们的组合。然而,本发明不限于此。
[0029]加热部20是用于蒸发容纳在坩埚体10中的沉积材料SM的加热装置。加热部20置于坩埚体10内部或者附接在坩埚体10的外表面。不特别限制加热部20的种类。例如,加热部20可以是加热线圈或加热片。可替换地,加热部20可以是另一种加热装置,诸如辐射加热器、循环流体加热器或感应加热器。
[0030]喷嘴部30具有至少一个喷孔NH,被蒸发的沉积材料SM穿过喷孔NH喷射。喷嘴部30可配置成附接至坩埚体10/从坩埚体10分开。喷嘴部30可具有以下结构,即,喷孔NH向上形成在覆盖坩埚体10的上端的板中以使被蒸发的沉积材料SM穿过其喷出。喷孔NH可以设置有分别对应于容纳空间SAl至SA4的多个喷孔。可替换地,可以只形成一个喷孔NH。可以线性地布置所有喷孔NH。喷孔NH的尺寸和/或喷孔NH之间的间隔可以是均匀的,或者可根据喷孔NH的位置而改变。可通过考虑工艺的种类和沉积材料SM的性质适当地使用喷嘴部30。
[0031]分隔板40设置在坩埚体10的内部以将坩埚体10分为多个容纳空间SAl至SA4。分隔板40阻隔坩埚体10的内部空间而将坩埚体10划分为容纳空间SAl至SA4,并且可在坩埚体10的两个侧壁中分别形成沟槽,以使分隔板40通过沟槽插入坩埚体10中。可以对被划分的容纳空间SAl至SA4的尺寸和数量进行多种修改。例如,容纳空间SAl至SA4的尺寸可彼此相等或者彼此不同。
[0032]分隔板40包括开口 OA以允许容纳空间SAl至SA4彼此相连。容纳空间SAl至SA4不是完全密封的,而是通过开口 OA彼此相通。容纳于任一个容纳空间中的沉积材料SM可穿过开口 OA移动至另一相邻的空间。在沉积工艺中,沉积材料SM不是均匀地消耗,而是可根据坩埚体10的内部位置不同地消耗。在这种情况下,沉积材料SM穿过开口 OA移动至相对快速地消耗沉积材料SM的容纳空间中。
[0033]可以通过改变开口 OA的尺寸或数量来控制沉积材料SM的移动量。为此,具有不同尺寸和数量的分隔板40可被预先设置成选择性地布置在坩埚体10中。例如,具有大尺寸开口 OA或大量开口 OA的分隔板可布置在具有相对较大消耗量的沉积材料SM的容纳空间中,而具有小尺寸开口 OA或少量开口 OA的分隔板可布置在具有相对较小消耗量的沉积材料SM的容纳空间中。
[0034]可通过在坩埚体
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