蚀刻装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开一种蚀刻装置。根据本发明的一实施例的蚀刻装置作为用于蚀刻被处理对象的蚀刻装置，包括：腔室，提供用于执行所述蚀刻的空间；一个以上的喷射部，位于所述腔室内，并对所述被处理对象喷射蚀刻液；多个移送辊轮，用于使所述被处理对象移动；吸入部，用于吸入所述被处理对象的上表面的蚀刻液，其中，所述吸入部包括一个以上的吸入管，所述移送辊轮分别包含旋转轴以及沿着所述旋转轴的长度方向形成的多个支撑部件，所述吸入管分别位于一个移送辊轮的支撑部件与相邻于所述一个移送辊轮的邻接移送辊轮的支撑部件之间的间隔内。
【专利说明】
蚀刻装置
技术领域
[0001]本发明的实施例涉及一种蚀刻装置，具体而言，涉及一种既能够彻底防止汇聚(puddling)现象，又不会使柔性薄基板的行进受阻的蚀刻装置。
【背景技术】
[0002]通常，蚀刻(etching)是一种图案形状加工方法，其在所要处理的素材(例如印刷电路基板)的表面上对所需要的部分进行遮蔽(masking)处理之后，通过喷嘴对其余的部分喷射化学药品(例如蚀刻液)而形成所需的形状，该方法最近在半导体制造工艺中被广为使用。
[0003]根据这种蚀刻加工方法而制造出的产品的品质大体上与蚀刻液和蚀刻装置有关。具体而言，蚀刻液的种类、温度、浓度等以及蚀刻装置中的喷嘴的形状、个数、大小、间隔、布置、素材移动速度等多样的条件将会作用为蚀刻品质的变量。此外，通过喷嘴喷射的蚀刻液直接接触到素材(喷射蚀刻)的情况和不直接接触素材而被残留的蚀刻液所浸渍(dipping)的情况对品质带来很大的差异。
[0004]另外，在蚀刻工艺过程中会发生汇聚(puddling)现象。汇聚现象为被喷射到素材表面上的蚀刻液过度地沉积在素材表示的现象，而且会根据汇聚现象而引起不均匀的蚀刻等不期望的蚀刻，从而使产品的品质降低。汇聚现象在一般的蚀刻装置中根据喷嘴的个数、节距(pitch)或者排列而只是存在着大小的差异，然而该现象是不可避免的。
[0005]图1是表示根据现有的蚀刻装置而发生的汇聚现象的剖面图。
[0006]参照图1，通过吸嘴等喷射部10喷射的蚀刻液将会沉积在基板50的上表面而形成蚀刻液残留物20。越靠近基板50的中央，蚀刻液残留物20将会存在越多，因此在基板50的中央会因沉积的蚀刻液而形成蚀刻，而不是被喷射的蚀刻液形成蚀刻。与根据被喷射的蚀刻液的情况相比，在由于沉积的蚀刻液而被蚀刻的情况下不能进行正常的蚀刻，因此一种产品的品质将会变得相互不同。为了防止发生这种现象，在现有技术中公开了一种设置用于吸入蚀刻液的吸入棒(bar)的方法。
[0007]图2是表示设置于现有的蚀刻装置内的吸入棒的剖面图。
[0008]参照图2，现有的蚀刻装置通过上部辊轮30a和下部辊轮30b移送基板50。而且，在布置上部辊轮30a的过程中布置吸入棒40 ο吸入棒40的下部形成有吸入口 41，从而能够吸入沉积在基板50的上表面的蚀刻液。然而，因吸入棒40直接接触基板50，在基板50为具有柔性的薄基板(例如，柔性印刷电路(FPC)基板)的情况下，基板50可能会由于吸入棒40的吸入口41的吸力而被贴附在吸入口 41。于是，不能正常地形成借助上部辊轮30a以及下部辊轮30b的基板50的移送，从而会降低产品生产效率。
[0009][现有技术文献]
[0010][专利文献]
[0011 ] 韩国授权专利公报第10-1150022号(2012.05.31)
【发明内容】
[0012]本发明的实施例旨在提供一种既能够防止汇聚现象又能够防止被处理对象贴附于吸附部的现象的蚀刻装置。
[0013]本发明的实施例旨在提供一种即使在对象物为超薄基板的情况下也能够进行蚀刻工序的蚀刻装置。
[0014]本发明的实施例旨在提供一种可确保用于防止汇聚现象的吸入部的吸力的蚀刻
目.ο
[0015]根据本发明的一个实施例，提供一种蚀刻装置，作为用于蚀刻被处理对象的蚀刻装置，包括:腔室，提供用于执行所述蚀刻的空间；一个以上的喷射部，位于所述腔室内，并对所述被处理对象喷射蚀刻液;多个移送辊轮，用于使所述被处理对象移动;吸入部，用于吸入所述被处理对象的上表面的蚀刻液，其中，所述吸入部包括一个以上的吸入管，所述移送辊轮分别包含旋转轴以及沿着所述旋转轴的长度方向形成的多个支撑部件，所述吸入管分别位于一个移送辊轮的支撑部件与相邻于所述一个移送辊轮的邻接移送辊轮的支撑部件之间的间隔内。
[0016]所述被处理对象可具有柔性。
[0017]所述被处理对象可以是柔性印刷电路(FPC)基板。
[0018]所述喷射部可包括位于所述被处理对象的上侧的上部喷射部以及位于所述被处理对象的下侧的下部喷射部。
[0019]所述移送辊轮可包括:上部辊轮，与所述被处理对象的上表面相接；下部辊轮，与所述被处理对象的下表面相接。
[0020]所述吸入管可分别位于一个上部辊轮的支撑部件与相邻于所述一个上部辊轮的邻接上部辊轮的支撑部件之间的间隔内。
[0021]所述一个移送辊轮的所述支撑部件可按如下方式布置:当从所述旋转轴的方向观察时，部分重叠于所述邻接移送辊轮的支撑部件。
[0022]所述支撑部件可以是将所述旋转轴作为中心的圆形部件。
[0023]所述一个移送辊轮的旋转轴与所述邻接移送辊轮的旋转轴之间可布置有一个以上的连接支撑部件。
[0024]所述连接支撑部件可支撑所述被处理对象。
[0025]所述连接支撑部件可以使所述一个移送辊轮与所述邻接移送辊轮之间形成连接，并维持相连间隔。
[0026]所述吸入部可包括形成有所述一个以上的吸入管的主体。
[0027]所述吸入管的下端与所述被处理对象之间的间隔可以是0.5?3mm。
[0028]所述吸入管的吸力可处在超过OmmHg、500mmHg以下的范围。
[0029]根据本发明的实施例，吸入部包含吸入管，吸入管位于一个移送辊轮的支撑部件和与之相邻的移送辊轮的支撑部件之间的间隔内，因此既防止发生汇聚现象又防止被处理对象贴附于吸入部，从而能够提高蚀刻工艺的效率。
[0030]根据本发明的实施例，吸入管位于支撑部件之间，从而即使是针对柔性印刷电路基板等超薄基板的情况下也能够执行蚀刻工艺。
[0031]此外，一个移送辊轮的支撑部件以从旋转轴方向观察时部分重叠于邻接的移送辊轮的支撑部件的方式被布置，从而能够可靠地支撑被处理对象以防止被处理对象贴附于吸入部。
[0032]另外，在一个移送辊轮的旋转轴与相邻移送辊轮的旋转轴之间布置有一个以上的连接支撑部，从而能够更为可靠地支撑被处理对象。
[0033]此外，借助于支撑部件以及连接支撑部件而可靠地支撑被处理对象，从而能够确保用于防止汇聚现象的吸入部的吸力。
【附图说明】
[0034]图1是表示根据现有的蚀刻装置而发生的汇聚现象的剖面图。
[0035]图2是表示设置于现有的蚀刻装置内的吸入棒的剖面图。
[0036]图3是表示根据本发明的一实施例的蚀刻装置的剖面图。
[0037]图4是根据本发明的一实施例的吸入部的侧面图。
[0038]图5是根据本发明的一实施例的吸入部的底面图。
[0039]图6是根据本发明的一实施例的移送辊轮的局部立体图。
[0040]图7是表示根据本发明的一实施例的移送辊轮和吸入部的局部正面图。
[0041 ]图8是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮和吸入部的侧面图。
[0042]图9是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮的局部立体图。
[0043]图10是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮的局部平面图。
[0044]图11是表示根据本发明的一实施例的移送辊轮以及吸入部的放大侧面图。
[0045]符号说明
[0046]100:蚀刻装置150:被处理对象
[0047]200:腔室210a:上部喷射部
[0048]210a’:上部喷射部的喷嘴210b:下部喷射部
[0049]210b’:下部喷射部的喷嘴230a:上部辊轮
[0050]231a:端部232a:旋转轴
[0051 ]233a:支撑部件235a_l、235a_2:连接支撑部件
[0052]230b:下部辊轮231b:端部
[0053]232b:旋转轴233b:支撑部件
[0054]240:吸入部241:主体
[0055]242:吸入管300:栗
[0056]400:过滤器500:管线
【具体实施方式】
[0057]以下，参照图3至图11而对根据本发明的一实施例的蚀刻装置的具体实施例进行说明。然而这仅仅是示例性的实施例，本发明并不局限于此。
[0058]在对本发明的实施例进行说明的过程中，如果认为对有关本发明的公知技术的具体说明有可能对本发明的主旨造成不必要的混乱，则省略其详细说明。另外，后述的术语均为考虑到本发明中的功能而定义的术语，其可能因使用者、运用者的意图或惯例等而不同。因此，需要以贯穿整个说明书的内容为基础而对其进行定义。
[0059]本发明的技术思想由权利要求书的范围来确定，以下的实施例仅仅是用于对本发明所属的技术领域中具有基本知识的人有效地说明本发明的技术思想的一手段。
[0060]在蚀刻工艺中发生的汇聚(puddling)现象仅发生在被处理对象(基板)的上表面，而不会在下表面发生。其原因在于，在被处理对象的下表面，蚀刻液将会因重力而垂直滴落，因此会自然地被去除;然而在上表面，被喷射的蚀刻将会沉积。因此，消除汇聚现象的最有效的方法为通过吸入部吸入残留蚀刻液。
[0061]S卩，蚀刻液将会连续地从用于喷射蚀刻液的喷嘴喷射，因此在到达被处理对象的蚀刻液向被处理对象的外侧脱离之前会供应新的蚀刻液，所以如果不单独进行去除蚀刻液的过程，则蚀刻液将会沉积在被处理对象的上表面。尤其，越靠近被处理对象的中间，蚀刻液的沉积量将会越多。
[0062]然而，在对柔性印刷电路(FPC)基板等较薄的柔性基板进行蚀刻操作的过程中，为了去除蚀刻液而通过被夹设到上部辊轮之间的吸入棒(bar)吸入蚀刻液的情况下，基板将会由于吸入棒的吸力而被贴附在吸入棒，因此可能不会被移送。于是，可能无法正常进行柔性电路基板上形成电路的工艺，从而可能无法生产最终的产品。
[0063]根据本发明的一实施例，可以提供一种蚀刻装置，该蚀刻装置用于有效地去除沉积在被处理对象的上表面的蚀刻液，并且对柔性电路基板等超薄基板的情况而言，蚀刻工艺也不会由于吸入部而受阻。
[0064]图3是表示根据本发明的一实施例的蚀刻装置100的剖面图。
[0065]参照图3，蚀刻装置100是用于蚀刻被处理对象150的装置，其可以包括:腔室(chamber)200，提供用于进行蚀刻的空间；喷射部210a、210b，位于腔室200内，并对被处理对象150喷射蚀刻液;移送辊轮230a、230b，用于使被处理对象150移动；吸入部240，用于吸入被处理对象150的上表面的蚀刻液。
[0066]被处理对象150可以是具有柔性的基板，尤其可以是柔性电路(FPC:FlexiblePrinted Circuit)基板。
[0067]喷射部210a、210b可以包括位于被处理对象的上侧的上部喷射部以及位于被处理对象的下侧的下部喷射部。
[0068]移送辊轮230a、230b可以包括与被处理对象的上表面相接的上部辊轮以及与被处理对象的下表面相接的下部辊轮。
[0069]吸入部240可以位于上部辊轮230a侧。为了对吸入部240提供吸力，可以使用如图3所示的栗300，还可以使用专用的栗(未图示)。吸入部240的具体构造将会在下述的部分进行描述。
[0070]当从喷射部210a、210b喷出的蚀刻液沉积在腔室200的下部或者被吸入部240吸入时，蚀刻液可以借助于栗300循环而重新被供应至喷射部210a、210b。在重新供应的喷射液被供应至喷射部210a、210b之前，可以设置过滤器400以去除蚀刻液所包含的金属残留物等异物。在图3中，图示为蚀刻液在到达栗300之前经由过滤器400，然而并不局限于此，栗300和喷射部21 Oa、21 Ob之间还可以设置有过滤器400。
[0071]为了连接栗300与喷射部210a、210b之间和残留蚀刻液的存储库(未图示)与栗300之间，管线(line)500可以形成于其中间。
[0072]图4是根据本发明的一实施例的吸入部240的侧面图，图5是根据本发明的一实施例的吸入部的底面图。
[0073]参照图4以及图5，吸入部240可以包括主体241和从主体241的下表面向下方延伸的吸入管242。主体241中可以形成与吸入管242连接的内部空间(未图示)，主体241的内部空间可以通过用于提供吸力的吸入手段(例如，栗300)和管线(未图示)而互相连接。因主体241中形成内部空间，优选地，具有可形成内部空间的程度的预定高度。
[0074]吸入管242可以如上所述地形成为从主体241的下表面向下方延伸的形态。吸入管242可以形成有一个以上，优选地可以形成多个而从被处理对象150的上表面的多个部位进行吸入。吸入管242形成薄的管形状，从而能够被插入并吸入到较窄的间隔空间内。根据图5，吸入管242在主体241的下表面被布置为2列，然而并不局限于此，可以根据吸入管242的设置状况等而实现多样的变形。
[0075]吸入部240可以在腔室200内布置有一个以上。优选地，多个吸入部240可以沿着被处理对象150的进行方向而被布置。据此，根据被处理对象150沿着移送辊轮230a、230b被移送而连续地由多个喷射部210a、210b喷射蚀刻液的情况下，可以借助多个吸入部240而连续地吸入沉积在被处理对象150的上表面的蚀刻液。
[0076]图6是根据本发明的一实施例的移送辊轮230a、230b的局部立体图。
[0077]参照图6，移送辊轮230a、230b可以包括接触到被处理对象150的上表面的上部辊轮230a和接触到被处理对象150的下表面的下部辊轮230b。上部辊轮230a和下部辊轮230b的形状可以相同或者类似，因此将会以上部辊轮230a为中心而进行说明，并省略针对下部辊轮230b的说明。
[0078]各个上部辊轮230a分别可以包含端部231a、旋转轴232a、多个支撑部件233a。端部231a对应于各个上部辊轮230a的两端，尽管未在图6中图示，还可以沿着周围形成锯齿形状而执行类似于齿轮的功能。在这种情况下，端部231a可以执行传递用于使上部辊轮230a旋转的旋转力的传递单元的功能。多个支撑部件233a可以以沿着旋转轴232a的长度方向相互分离预定间隔的方式形成。各个支撑部件233a可以是将旋转轴232a作为中心的圆形部件。上部辊轮230a的支撑部件233a在与旋转轴232a—同旋转而将接触到其下部的被处理对象150移送的同时，可以执行以相互分离预设间隔的方式被布置而支撑被处理对象150的功能。因此，当借助吸入部240而对被处理对象150的上表面进行吸入过程时，为了防止作为具有柔性的薄膜的被处理对象150贴附于吸入部240的吸入管242，可以执行支撑被处理对象的功能。
[0079]此外，根据图6，一个上部辊轮230a的支撑部件233a可以以从旋转轴232a方向观察时部分重叠于与之相邻的上部辊轮230a的支撑部件233a的方式布置。因此，从旋转轴232a方向观察时，一个上部辊轮230a的支撑部件233a和与之邻接的上部辊轮230a的支撑部件233a之间不存在间隔，从而能够可靠地支撑被处理对象150。
[0080]图7是表示根据本发明的一实施例的移送辊轮230a、230b和吸入部的局部正面图。[0081 ] 参照图7，吸入部240的吸入管242分别可以位于与一个上部辊轮230a邻接的上部辊轮230a之间。具体而言，吸入管242分别可以位于一个上部辊轮230a的旋转轴232a(在图7中位于端部231a的后方，未图示)和与之邻接的上部辊轮230a的旋转轴232a之间。根据本发明的一实施例，吸入部240的吸入管242分别位于两个相邻的上部辊轮230a的旋转轴232a之间，与以现有的吸入棒的形态设置吸入部件的情况不同，能够防止因柔性薄膜贴附于吸入部件而使工艺的进展受阻的现象。
[0082]与吸入部240形成于被处理对象150的上部的情况相反，位于被处理对象150的下部的下部辊轮230b之间可以不设置有吸入部240。如上所述，向被处理对象150的下表面喷射的蚀刻液因重力而向下方滴落，因此蚀刻液不会沉积于被处理对象150的下表面。
[0083]图8是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮230a和吸入部240的侧面图。
[0084]参照图8，吸入管242分别可以布置于一个上部辊轮230a_l的支撑部件233a_l和与之邻接的上部辊轮230a-2(在图8中与上部辊轮230a-l的背部重叠，因此未图示)的支撑部件233a-2之间的间隔内。因此，与如上所述的以现有的吸入棒的形状设置吸入部件的情况不同，能够防止因柔性薄基板贴附于吸入部件而使工艺的进展受阻的现象。
[0085]图9是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮230a的局部立体图。
[0086]参照图9，上部辊轮230a本身的构造与上述的实施例相同，然而一个上部辊轮230a-l的旋转轴232a-l和与之邻接的上部辊轮230a-2的旋转轴232a-2之间可以布置有一个以上的连接支撑部件235a-l。同样地，上部辊轮230a-2的旋转轴232a-2和与之邻接的上部辊轮230a-3的旋转轴之间也可以布置有连接支撑部件235a-2。连接支持部件235a-l、235a-2以一双对钩(hook)的形状形成，从而可以在对钩内收容所述邻接的上部辊轮230a的旋转轴232a。因此，连接支撑部件235a-l、235a-2可以使上部辊轮230a之间形成连接，并能够维持上部辊轮230a之间的间隔。不仅如此，连接支撑部件235a-l、235a_2的下部还可以执行将与其接触的被处理对象150与上部辊轮230a的支撑部件233a —同支撑的功能。因此，根据本实施例，能够更为可靠地防止因柔性薄基板贴附于吸入管240而使工艺的进展受阻的现象。
[0087]此外，在图9中仅针对上部辊轮230a进行了图示，然而在下部辊轮230b上也可以布置有连接支撑部件。
[0088]图10是表示根据本发明的一实施例的上部辊轮230a的局部平面图。
[0089]参照图10，由于支撑部件233&-1、233&-2、2333-3和连接支撑部件2353-1、235&-2以中间不存在间隔的方式得到布置，因此能够可靠地支撑通过其下部而移送的被处理对象150。因此，如上所述，能够更为可靠地防止因柔性薄基板贴附于吸入管240而使工艺的进展受阻的现象。
[0090]图11是表示根据本发明的一实施例的移送辊轮230a、230b以及吸入部240的放大侧面图。
[0091]参照图11，吸入部240的吸入管242的下端与被处理对象150的上表面之间可以具有预定的间隔d。间隔d可以是0.5?3mm。如果间隔d过于大，则不能正常地吸入沉积于上表面的蚀刻液。相反，如果间隔d过于小，则被处理对象150的移送将会受阻。间隔d可以通过调节固定部件(未图示)的拧紧状态而实现变更，该固定部件(未图示)可以是螺栓，其用于固定吸入部240以将吸入部240设置在腔室200内。
[0092]此外，吸入管242的吸力可以处在超过0mmHg、500mmHg以下的范围。在吸入管242的吸力超出该范围的情况下，可能会由于吸入管242的吸力而使被处理对象150的处理进展受阻。
[0093]以上对本发明的具有代表性的实施例进行了详细的说明，然而在本发明所属的技术领域中具有基本知识的人员皆可理解对上述的实施例可在不脱离本发明的范围的限度内进行多样的变形。因此，本发明的权利范围并不局限于所述的实施例，本发明的权利范围需要根据权利要求书的范围以及与权利要求书均等的范围来确定。
【主权项】
1.一种蚀刻装置，作为用于蚀刻被处理对象的蚀刻装置，包括: 腔室，提供用于执行所述蚀刻的空间； 一个以上的喷射部，位于所述腔室内，并对所述被处理对象喷射蚀刻液； 多个移送辊轮，用于使所述被处理对象移动；以及 吸入部，用于吸入所述被处理对象的上表面的蚀刻液， 其中，所述吸入部包括一个以上的吸入管， 所述移送辊轮分别包含旋转轴以及沿着所述旋转轴的长度方向形成的多个支撑部件，所述吸入管分别位于一个移送辊轮的支撑部件与相邻于所述一个移送辊轮的邻接移送辊轮的支撑部件之间的间隔内。2.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述被处理对象具有柔性。3.如权利要求2所述的蚀刻装置，其中， 所述被处理对象为柔性印刷电路基板。4.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述喷射部包括位于所述被处理对象的上侧的上部喷射部以及位于所述被处理对象的下侧的下部喷射部。5.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中，所述移送辊轮包括: 上部辊轮，与所述被处理对象的上表面相接；以及 下部辊轮，与所述被处理对象的下表面相接。6.如权利要求5所述的蚀刻装置，其中， 所述吸入管分别位于一个上部辊轮的支撑部件与相邻于所述一个上部辊轮的邻接上部辊轮的支撑部件之间的间隔内。7.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中，所述一个移送辊轮的所述支撑部件以如下方式布置: 当从所述旋转轴的方向观察时，部分重叠于所述邻接移送辊轮的支撑部件。8.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述支撑部件是将所述旋转轴作为中心的圆形部件。9.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述一个移送辊轮的旋转轴与所述邻接移送辊轮的旋转轴之间布置有一个以上的连接支撑部件。10.如权利要求9所述的蚀刻装置，其中， 所述连接支撑部件支撑所述被处理对象。11.如权利要求9所述的蚀刻装置，其中， 所述连接支撑部件使所述一个移送辊轮与所述邻接移送辊轮之间形成连接，并维持相连间隔。12.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述吸入部包括形成有所述一个以上的吸入管的主体。13.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中， 所述吸入管的下端与所述被处理对象之间的间隔为0.5?3_。14.如权利要求1所述的蚀刻装置，其中，所述吸入管的吸力超过OmmHg且为500mmHg以下。
【文档编号】C23F1/08GK106065475SQ201610249047
【公开日】2016年11月2日
【申请日】2016年4月20日 公开号201610249047.0, CN 106065475 A, CN 106065475A, CN 201610249047, CN-A-106065475, CN106065475 A, CN106065475A, CN201610249047, CN201610249047.0
【发明人】朴锺模
【申请人】朴锺模