用于等离子体增强化学气相沉积的设备的制造方法_2

文档序号:10072406阅读:来源:国知局
领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,加热装置200可以为电阻丝加热器。发明人发现,较现有的采用真空炉壁电阻式加热器相比,采用电阻丝加热器对容纳腔室进行加热可以显著提高玻璃基板的加热效率,并且使得玻璃基板受热均匀,从而在显著提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性的同时提高沉积薄膜的生产效率。
[0035]根据本实用新型的实施例,参考图2,第一管段41上可以具有第一预热组件44,根据本实用新型的具体实施例,该第一预热组件44的具体类型并不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,该第一预热组件44可以为电阻丝加热器,并且该电阻丝加热器缠绕在第一管段41上。由此,可以使得反应气体经气体管道进入沉积腔室的过程中被设置在第一管段上的预热组件加热,并且通过精确控制使其温度接近沉积腔室中玻璃基板的温度,从而消除传统技术中反应气体对玻璃基板温度分布不均匀的影响,进而显著提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
[0036]根据本实用新型的实施例,参考图3,第二管段42上可以具有第二预热组件45,根据本实用新型的具体实施例,该第二预热组件45的具体类型并不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,该第二预热组件45可以为电阻丝加热器,并且该电阻丝加热器缠绕在第二管段42上。由此,可以使得反应气体经气体管道进入沉积腔室的过程中被设置在第二管段上的预热组件加热,并且通过精确控制使其温度接近沉积腔室中玻璃基板的温度,从而消除传统技术中反应气体对玻璃基板温度分布不均匀的影响,进而显著提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
[0037]根据本实用新型的实施例,参考图4,第一管段41上可以具有第一预热组件44,第二管段45上可以具有第二预热组件45,根据本实用新型的具体实施例,第一预热组件44和第二预热组件45的具体类型并不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,第一预热组件44和第二预热组件45可以分别独立地为电阻丝加热器,并且该电阻丝加热器可以分别独立地缠绕在第一管段41和第二管段42上。由此,可以使得反应气体经气体管道进入沉积腔室的过程中被设置在第一管段和第二管段上的预热组件加热,并且通过精确控制使其温度接近沉积腔室中玻璃基板的温度,从而消除传统技术中反应气体对玻璃基板温度分布不均匀的影响,进而进一步提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
[0038]根据本实用新型的实施例,参考图5,第二管段42上可以具有第二预热组件45,根据本实用新型的具体实施例,该第二预热组件45的具体类型并不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,该第二预热组件45可以为沿水平方向延伸的U型管。由此,通过延长位于容纳腔室中的第二管段的长度,使得反应气体经气体管道进入沉积腔室的过程中被设置在炉体上的加热装置预热,使其温度接近沉积腔室中玻璃基板的温度,从而消除传统技术中反应气体对玻璃基板温度分布不均匀的影响,进而进一步提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
[0039]根据本实用新型的实施例,参考图6,第一管段41上可以具有第一预热组件44,第二管段45上可以具有第二预热组件45,根据本实用新型的具体实施例,第一预热组件44和第二预热组件45的具体类型并不受特别限制,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择,根据本实用新型的一个实施例,第一预热组件44可以为电阻丝加热器,第二预热组件45可以为沿水平方向延伸的U型管,并且电阻丝加热器可以缠绕在第一管段41上。由此,可以使得反应气体经气体管道进入沉积腔室的过程中被设置在第一管段和第二管段上的预热组件加热,并且通过精确控制使其温度接近沉积腔室中玻璃基板的温度,从而消除传统技术中反应气体对玻璃基板温度分布不均匀的影响,进而进一步提高玻璃基板上沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
[0040]下面对采用本实用新型实施例的用于等离子体增强化学气相沉积的设备进行沉淀成膜的工艺进行详细描述。
[0041]具体的,将多个TC0玻璃基板通过卡槽成对固定在每一个子沉积腔室中,并且每个子沉积腔室中的一个玻璃基板与电极相连,另一个通过导线接地,然后开启位于炉体侧壁上的电阻丝加热器容纳腔室进行加热,使得容纳腔室中温度保持在200?250°C,待玻璃基板上温度稳定后,设定反应气体的流量、气压和气体管道上预热组件的功率,并且精确控制反应气体的温度,使得大流量的反应气体(磷烷、硼烷、氢气、硅烷)经气体管道进入沉积腔室的过程中被预热组件加热,从而使得进入沉积腔室的反应气体的温度接近于玻璃基板的温度,待反应气体进入每一个子沉积腔室时,反应气体在两个玻璃基板间电场的作用下被电离形成等离子体,并且形成的等离子体在电场的作用下在玻璃基板表面进行沉积,获得具有薄膜的玻璃基板。
[0042]在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
[0043]尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
【主权项】
1.一种用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,包括: 炉体,所述炉体内限定出容纳腔室; 加热装置,所述加热装置设在所述炉体的侧壁上; 沉积单元,所述沉积单元位于所述容纳腔室中,所述沉积单元顶部具有气体入口,所述沉积单元内限定出沉积腔室,所述沉积腔室包括多个彼此隔开的子沉积腔室,每一个所述子沉积腔室中具有两个平行间隔设置的玻璃基板,其中,所述玻璃基板中的一个与电极相连,所述玻璃基板中的另一个接地;以及 气体管道,所述气体管道穿过所述炉体与所述气体入口相连,所述气体管道包括位于所述容纳腔室外的第一管段和位于所述容纳腔室内的第二管段,所述第一管段和/或第二管段上具有预热组件。2.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述第一管段上具有第一预热组件,所述第一预热组件为电阻丝加热器,所述电阻丝加热器缠绕在所述第一管段上。3.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述第二管段上具有第二预热组件,所述第二预热组件为电阻丝加热器,所述电阻丝加热器缠绕在所述第二管段上。4.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述第一管段上具有第一预热组件,所述第二管段上具有第二预热组件,所述第一预热组件和第二预热组件均为电阻丝加热器,并且所述电阻丝加热器分别独立地缠绕在所述第一管段和第二管段上。5.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述第二管段上具有第二预热组件,所述第二预热组件为沿水平反向延伸的U型管。6.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述第一管段上具有第一预热组件,所述第二管段上具有第二预热组件,所述第一预热组件为电阻丝加热器,所述电阻丝加热器缠绕在所述第一管段上,所述第二管段为沿水平反向延伸的U型管。7.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述加热装置为电阻丝加热器。8.根据权利要求1所述的用于等离子体增强化学气相沉积的设备,其特征在于,所述玻璃基板通过卡槽设置在所述子沉积腔室内。
【专利摘要】本实用新型公开了用于等离子体增强化学气相沉积的设备,包括:炉体,炉体内限定出容纳腔室;加热装置,加热装置设在炉体的侧壁上;沉积单元,沉积单元位于容纳腔室中,沉积单元顶部具有气体入口,沉积单元内限定出沉积腔室,沉积腔室包括多个彼此隔开的子沉积腔室,每一个子沉积腔室中具有两个平行间隔设置的玻璃基板,其中,玻璃基板中的一个与电极相连,玻璃基板中的另一个接地;以及气体管道,气体管道穿过炉体与气体入口相连,气体管道包括位于容纳腔室外的第一管段和位于容纳腔室内的第二管段,第一管段和/或第二管段上具有预热组件。该设备可以有效提高沉积薄膜的厚度及结构的均匀性。
【IPC分类】C23C16/513
【公开号】CN204982047
【申请号】CN201520554309
【发明人】马建奎
【申请人】河北曹妃甸汉能薄膜太阳能有限公司
【公开日】2016年1月20日
【申请日】2015年7月28日
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