一种改进的材料化学抛光设备的制造方法

文档序号:10941597阅读:399来源:国知局
一种改进的材料化学抛光设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种改进的材料化学抛光设备,包括顶架、左侧架、右侧架和工作平台,所述左侧架和右侧架之间设有横跨设有工作平台,左侧架和右侧架的顶部横跨设有顶架,左侧架的右侧和右侧架的左侧于防尘罩内还分别设有多个吸尘头,吸尘头上设有吸尘支管,吸尘支管的另一端与吸尘总管导通连接,吸尘总管上还设有吸尘风机,吸尘总管的另一端连接有收集袋,顶架的左右两侧还分别设有与吸尘风机对应连接的粉尘探测器,左侧架和右侧架的底端均设有支撑脚。本实用新型在现有技术的基础上可有效除尘和减震降噪,可自动控制,功耗低,保护了周围环境不被污染。
【专利说明】
一种改进的材料化学抛光设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及材料化学技术领域,具体是一种改进的材料化学抛光设备。
【背景技术】
[0002]材料化学是一门新兴的交叉学科,属于现代材料科学、化学和化工领域的重要分支,是发展众多高科技领域的基础和先导。在新材料的发现和合成,纳米材料制备和修饰工艺的发展以及表征方法的革新等领域,材料化学作出了独到贡献。材料化学在原子和分子水准上设计新材料的战略意义有着广阔应用前景。现有的材料化学机械抛光设备在抛光时难以精确控制抛光终点,故难以避免过抛的出现,同样要精确控制抛光终点避免过抛就要降低抛光速率,这显而易见降低了抛光的效率,浪费时间,同时现有的装置工作稳定性差,对环境的噪音污染和粉尘污染严重,与当今时代节能环保的主题相违背。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于提供一种改进的材料化学抛光设备,以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
[0005]—种改进的材料化学抛光设备,包括顶架、左侧架、右侧架和工作平台,所述左侧架和右侧架之间设有横跨设有工作平台,左侧架和右侧架的顶部横跨设有顶架,所述工作平台上从左至右依次安装有粗抛调节台、精抛调节台和研磨台,所述粗抛调节台的上方于顶架上安装有粗抛电机,粗抛电机的输出轴上安装有粗抛磨盘,所述精抛调节台的上方于顶架上安装有精抛电机,精抛电机的输出轴上安装有精抛磨盘,所述粗抛电机和精抛电机的右侧于顶架上还分别安装有粗抛液存储盒和精抛液存储盒,所述顶架、工作平台、左侧架和右侧架所构成空间的外侧还设有防尘罩,所述左侧架的右侧和右侧架的左侧于防尘罩内还分别设有多个吸尘头,吸尘头上设有吸尘支管,吸尘支管的另一端与吸尘总管导通连接,所述吸尘总管上还设有吸尘风机,吸尘总管的另一端连接有收集袋,所述顶架的左右两侧还分别设有与吸尘风机对应连接的粉尘探测器,所述左侧架和右侧架的底端均设有支撑脚,支撑脚的底部配合设有底板,底板的底部还设有一层减震层。
[0006]作为本实用新型进一步的方案:所述吸尘风机和收集袋均位于工作平台的下侧。
[0007]作为本实用新型进一步的方案:所述支撑脚为锥形结构。
[0008]作为本实用新型进一步的方案:所述减震层为弹性橡胶减震层,减震层通过粘胶粘接在底板下端面。
[0009]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该装置通过支撑脚可进行稳定支撑,且通过底板和减震层配合达到减震降噪的目的,通过将粗抛、精抛和研磨机构设为一体,提高了加工效率,节约成本,通过设置防尘罩,可减少对周围环境的粉尘和噪音污染,且通过粉尘探测器可对防尘罩内进行粉尘检测,以对应控制吸尘风机工作,通过吸尘头处产生负压,将粉尘抽吸到收集袋内储存,通过设置两个粉尘探测器和两个吸尘风机,可进行差分除尘控制,节约能耗。综上所述,该装置在现有技术的基础上可有效除尘和减震降噪,可自动控制,功耗低,保护了周围环境不被污染。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011 ]图中:1-粉尘探测器,2-粗抛电机,3-粗抛液存储盒,4-精抛电机,5-精抛液存储盒,6-防尘罩,7-顶架,8-右侧架,9-研磨台,10-支撑脚,11-底板,12-减震层,13-工作平台,14-精抛调节台,15-精抛磨盘,16-收集袋,17-吸尘风机,18-左侧架,19-吸尘总管,20-粗抛调节台,21-粗抛磨盘,22-吸尘头,23-吸尘支管。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0013]请参阅图1,本实用新型实施例中,一种改进的材料化学抛光设备,包括顶架7、左侧架18、右侧架8和工作平台13,所述左侧架18和右侧架8之间设有横跨设有工作平台13,左侧架18和右侧架8的顶部横跨设有顶架7,所述工作平台13上从左至右依次安装有粗抛调节台20、精抛调节台14和研磨台9,所述粗抛调节台20的上方于顶架7上安装有粗抛电机2,粗抛电机2的输出轴上安装有粗抛磨盘21,所述精抛调节台14的上方于顶架7上安装有精抛电机4,精抛电机4的输出轴上安装有精抛磨盘15,所述粗抛电机2和精抛电机4的右侧于顶架7上还分别安装有粗抛液存储盒3和精抛液存储盒5。
[0014]所述防尘罩6、工作平台13、左侧架18和右侧架8所构成空间的外侧还设有防尘罩6,所述左侧架18的右侧和右侧架8的左侧于防尘罩6内还分别设有多个吸尘头22,吸尘头22上设有吸尘支管23,吸尘支管23的另一端与吸尘总管19导通连接,所述吸尘总管19上还设有吸尘风机17,吸尘总管19的另一端连接有收集袋16,所述吸尘风机17和收集袋16均位于工作平台13的下侧,控制吸尘风机17动作,可使得吸尘头22产生负压,进行粉尘抽吸,并通过收集袋16进行粉尘储存,所述顶架7的左右两侧还分别设有与吸尘风机17对应连接的粉尘探测器I,通过粉尘探测器I可进行粉尘检测,以自动控制吸尘风机17工作。
[0015]所述左侧架18和右侧架8的底端均设有支撑脚10,支撑脚10为锥形结构,支撑脚10的底部配合设有底板11,底板11的底部还设有一层减震层12,所述减震层12为弹性橡胶减震层,减震层12通过粘胶粘接在底板11下端面。
[0016]本实用新型的工作原理是:该装置通过支撑脚10可进行稳定支撑,且通过底板11和减震层12配合达到减震降噪的目的,通过将粗抛、精抛和研磨机构设为一体,提高了加工效率,节约成本,通过设置防尘罩6,可减少对周围环境的粉尘和噪音污染,且通过粉尘探测器I可对防尘罩6内进行粉尘检测,以对应控制吸尘风机17工作,通过吸尘头22处产生负压,将粉尘抽吸到收集袋16内储存,通过设置两个粉尘探测器I和两个吸尘风机17,可进行差分除尘控制,节约能耗。
[0017]对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0018]此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种改进的材料化学抛光设备,包括顶架、左侧架、右侧架和工作平台,其特征在于,所述左侧架和右侧架之间设有横跨设有工作平台,左侧架和右侧架的顶部横跨设有顶架,所述工作平台上从左至右依次安装有粗抛调节台、精抛调节台和研磨台,所述粗抛调节台的上方于顶架上安装有粗抛电机,粗抛电机的输出轴上安装有粗抛磨盘,所述精抛调节台的上方于顶架上安装有精抛电机,精抛电机的输出轴上安装有精抛磨盘,所述粗抛电机和精抛电机的右侧于顶架上还分别安装有粗抛液存储盒和精抛液存储盒,所述顶架、工作平台、左侧架和右侧架所构成空间的外侧还设有防尘罩,所述左侧架的右侧和右侧架的左侧于防尘罩内还分别设有多个吸尘头,吸尘头上设有吸尘支管,吸尘支管的另一端与吸尘总管导通连接,所述吸尘总管上还设有吸尘风机,吸尘总管的另一端连接有收集袋,所述顶架的左右两侧还分别设有与吸尘风机对应连接的粉尘探测器,所述左侧架和右侧架的底端均设有支撑脚,支撑脚的底部配合设有底板,底板的底部还设有一层减震层。2.根据权利要求1所述的改进的材料化学抛光设备,其特征在于,所述吸尘风机和收集袋均位于工作平台的下侧。3.根据权利要求1所述的改进的材料化学抛光设备,其特征在于,所述支撑脚为锥形结构。4.根据权利要求1所述的改进的材料化学抛光设备,其特征在于,所述减震层为弹性橡胶减震层,减震层通过粘胶粘接在底板下端面。
【文档编号】B24B55/00GK205630242SQ201620404876
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月8日
【发明人】张艳, 李东颖
【申请人】哈尔滨理工大学
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