专利名称：一种氯硅烷液体过滤装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种过滤装置，特别是一种氯硅烷液体过滤装置。
背景技术：
在多晶硅的生产过程中，氯化氢气体与硅在合成炉内发生反应，生成含有三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅的合成尾气。这些合成尾气进入尾气回收装置，经过四级冷凝、 压缩、吸收、解析后，形成三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅混合液体。由于进入合成炉内的氯化氢气体无法绝对干燥，少量的水蒸气会进入合成炉内， 同时，硅粉中还含有Ti、Al、Fe、B、Ca、P以及以金属氯化物形式存在的杂质，这些杂质与三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅发生化学反应，在管道内壁上生成粘稠状的硅合物，从而堵塞管道。同时，这些杂质会随着合成尾气进入尾气回收装置，杂质中的水在回收过程中会使三氯氢硅、二氯二氢硅和四氯化硅发生水解反应，从而生成二氧化硅，使得到的氯硅烷液体含有大量的悬浊物，严重时液体略显黄色。这些杂质一方面会使氯硅烷液体在精馏工序中的提纯负荷增加，造成时间和能源的浪费；另一方面也使沉积生产的多晶硅产品质量下降。这一问题严重的影响着国内多晶硅企业的生产，制约着多晶硅产品质量的提高。
实用新型内容本实用新型的发明目的在于针对现有技术中，通过尾气回收装置得到的氯硅烷液体中含有大量杂质，影响多晶硅正常生产的问题，提供一种氯硅烷液体过滤装置，其结构简单，安装使用方便，适应性强，过滤效果好，能有效去除氯硅烷液体中的杂质。本实用新型采用的技术方案如下一种氯硅烷液体过滤装置，包括过滤罐、设置于过滤罐顶部的物料出口和设置于过滤罐下部的物料进口，所述过滤罐内设置有过滤装置。所述过滤装置由若干粉末烧结过滤芯组成。所述过滤罐由过滤罐顶盖、过滤罐体和过滤罐底盖组成。所述过滤罐顶盖上设置有反冲洗口，所述反冲洗口与装有惰性气体的储气罐相连。 所述过滤罐顶盖上设置有放空口。所述过滤罐底盖上设置有排污口。所述过滤罐底盖为圆锥形。氯硅烷液体首先从物料进口进入过滤罐，经过粉末烧结过滤芯组成的过滤装置后，从物料出口流出。氯硅烷液体经过粉末烧结过滤芯时，其中的杂质会附着在粉末烧结过滤芯的壁上，从而达到除杂的目的。为了防止物料进口和物料出口之间的压差过大，损坏装置，在过滤罐顶盖上设置反冲洗口，该反冲洗口和装有惰性气体的储气罐相连。当物料进口和物料出口之间的压差达到预定值时，储气罐释放惰性气体，并通过反冲洗口进行反吹，使压差恢复到正常值，从而保证设备不间断连续的运行。当反吹结束后，进入过滤罐中的惰性气体能够通过放空口排出。同时，将过滤罐底盖设置为圆锥形，在过滤罐底盖上设置排污口，有利于杂质的排放。本实用新型中的过滤装置采用粉末烧结过滤芯，能够有效保证过滤的效果。同时， 本实用新型也能够根据实际情况的不同，选择相应的过滤装置，从而满足不同过滤精度要求。综上所述， 由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是1、本实用新型可采用高精度的粉末烧结过滤芯组成的过滤装置，过滤效率能达到 99. 9%以上；2、本实用新型能够根据实际情况的不同，选择相应的过滤装置，从而满足不同过滤精度要求，降低设备成本；3、本实用新型在过滤罐顶盖上设置反冲洗口，该反冲洗口和惰性气体相连，可以采用控制系统或人工手动进行反吹，从而使过滤罐内的压力保持在正常的范围内，从而保证设备不间断连续的运行；4、本实用新型安装简单，使用方便，只需要和配管、气源和电源连接，即可正常工作；5、本实用新型结构简单，构思巧妙，适应性好，能够满足多晶硅生产的需要。
图1是本实用新型的主视图。图2是本实用新型的俯视图。图中标记100为过滤罐、101为过滤罐顶盖、102为过滤罐体、103为过滤罐底盖、 200为过滤装置、201为粉末烧结过滤芯、301为物料出口、302为反冲洗口、303为放空口、 401为物料进口、402为排污口。
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型作详细的说明。为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，
以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。如图所示，一种氯硅烷液体过滤装置，包括过滤罐100、设置于过滤罐100顶部的物料出口 301和设置于过滤罐100下部的物料进口 401，所述过滤罐100内设置有由若干粉末烧结过滤芯201组成的过滤装置200。所述过滤罐100由过滤罐顶盖101、过滤罐体102 和过滤罐底盖103组成。在过滤罐顶盖101上分别设置有放空口 303和反冲洗口 302，所述反冲洗口 302与装有惰性气体的储气罐相连。所述过滤罐底盖103为圆锥形，在过滤罐底盖103上设置有排污口 402。氯硅烷液体首先从物料进口 401进入过滤罐100，经过粉末烧结过滤芯201组成的过滤装置200后，从物料出口 301流出。氯硅烷液态经过粉末烧结过滤芯201时，其中的杂质会附着在粉末烧结过滤芯201的壁上，从而达到除杂的目的。为了防止物料进口 401和物料出口 301之间的压差过大，损坏装置，在过滤罐顶盖101上设置反冲洗口 302，该反冲洗口 302和装有惰性气体的储气罐相连。当物料进口 401和物料出口 301之间的压差达到预定值时，储气罐释放惰性气体，通过反冲洗口 302进行反吹，使压差恢复到正常值，从而保证设备不间断连续的运行。当反吹结束后，进入过滤罐100中的惰性气体能够通过放空口 303排出。同时，将过滤罐底盖103设置为圆锥形，在过滤罐底盖103上设置排污口 402，有利于杂质的排放。 本实用新型采用高精度的粉末烧结过滤芯201进行过滤，能够有效保证过滤的效果，过滤后的物料精度达到1 μ m以下，过滤效率达到99. 9%以上。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种氯硅烷液体过滤装置，包括过滤罐(100)、设置于过滤罐(100)顶部的物料出口 (301)和设置于过滤罐(100)下部的物料进口(401)，所述过滤罐(100)内设置有过滤装置 (200)。
2.根据权利要求1所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤装置(200)由若干粉末烧结过滤芯(201)组成。
3.根据权利要求1所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤罐(100)由过滤罐顶盖(101)、过滤罐体(102)和过滤罐底盖(103)组成。
4.根据权利要求3所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤罐顶盖(101)上设置有反冲洗口(302)，所述反冲洗口(302)与装有惰性气体的储气罐相连。
5.根据权利要求3所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤罐顶盖(101)上设置有放空口(303)。
6.根据权利要求3所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤罐底盖(103)上 设置有排污口(402)。
7.根据权利要求3所述的氯硅烷液体过滤装置，其特征在于所述过滤罐底盖(103)为圆锥形。
专利摘要本实用新型公开了一种氯硅烷液体过滤装置，目的在于解决现有技术中，通过尾气回收装置得到的氯硅烷液体中含有大量杂质，影响多晶硅正常生产的问题，该装置包括过滤罐、设置于过滤罐顶部的物料出口和设置于过滤罐下部的物料进口，所述过滤罐内设置有过滤装置。本实用新型结构简单，安装使用方便，适应性强，过滤效果好，能有效去除氯硅烷液体中的杂质，同时，能够根据实际情况的不同，选择相应的过滤装置，从而满足不同过滤精度的要求。
文档编号C01B33/107GK202144455SQ20112019373
公开日2012年2月15日 申请日期2011年6月10日 优先权日2011年6月10日
发明者孙明炳, 沈伟 申请人:四川瑞能硅材料有限公司