本实用新型涉及一种陶坯加工设备技术领域，特别是涉及一种淋釉部件及淋釉机。
背景技术：
目前，对棒形支柱绝缘子上釉一般是采用喷釉、水幕式淋釉或线式淋釉，喷釉的缺点是釉层厚薄不均，烧成后釉层表面易出现析晶；水幕式淋釉的缺点是釉层厚度不好控制，坯体易吸水过多。随着淋釉设备技术的发展，线式淋釉机逐渐成为对陶瓷坯件表面施釉的主流设备，但是现有的线式淋釉机的缺点是，在更换上不同颜色的釉时，淋釉机的淋釉部件难以清洗干净，导致上釉产品的外观颜色不符合质量要求，并且极大地影响了淋釉的工作效率。
因此，如何对线式淋釉机的淋釉部件进行改进，降低淋釉部件的清洗难度，保证上釉产品的外观质量，从而提高陶瓷坯件的淋釉效率，是本领域技术人员急需解决的技术问题。
技术实现要素：
为克服现有技术中存在的问题，本实用新型的第一个目的在于提供了一种淋釉部件，该淋釉部件的结构简单，易于清洗，易于操作，大大提高了陶瓷坯件的淋釉效率和上釉产品的外观质量；第二个目的在于提供一种淋釉机。
本实用新型提供的技术方案如下：
一种淋釉部件，包括导釉管和喷釉管，所述导釉管与所述喷釉管接通，所述喷釉管至少有一端活动密封，所述喷釉管上设有至少两个喷孔，釉通过所述喷孔喷至坯件上。
进一步的，所述喷釉管的内部腔体为圆柱形。
进一步的，所述喷釉管的管壁上开有孔，所述孔的孔径与所述导釉管的内径相等，所述导釉管与所述喷釉管经所述孔连通。
进一步的，所述喷孔在所述喷釉管上呈直线排列。
进一步的，所述喷釉管上至少有一排所述喷孔。
一种淋釉机，所述淋釉机采用了该淋釉部件。
本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的淋釉部件及包含该淋釉部件的淋釉机，在清洗过程中将喷釉管活动密封的一端拆开，然后用长毛刷刷洗导釉管和喷釉管内部，能够实现对淋釉部件进行无死角清洗，确保淋釉部件清洗干净，因此，该淋釉部件容易清洗，结构简单，易于操作，确保了上釉产品的外观质量，并大大提高了淋釉机对陶瓷坯件的淋釉效率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型提供的一种淋釉部件的结构示意图。
附图标记说明：导釉管1；喷釉管2；螺丝3；喷孔4。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
如图1所示，本实用新型提供的一种淋釉部件，包括导釉管1和喷釉管2，所述导釉管1与所述喷釉管2接通，所述喷釉管2至少有一端活动密封，所述喷釉管2上设有至少两个喷孔4，釉通过所述喷孔4喷至坯件上。所述喷釉管2可以是一端固定密封，另一端活动密封；也可以是所述喷釉管2的两端都是活动密封。在本实施例中，所述喷釉管2的一端通过焊接固定密封，另一端是活动密封，活动密封优选采用螺丝3密封，但必须保证所述喷釉管2的两端在使用过程中内部的釉不会发生泄露。
现有的淋釉部件，是通过从导釉管1的入口向淋釉部件内部注入清洗水进行清洗的，这种清洗方式对淋釉部件清洗不彻底，并且清洗后的清洗水不能完全从淋釉部件的内部排出。
本实用新型提供的淋釉部件，在清洗淋釉部件的过程中，将螺丝3从所述喷釉管2上拧下，然后用长毛刷对所述喷釉管2和所述导釉管1的内部进行刷洗，能够达到对淋釉部件进行彻底清洗，淋釉部件清洗完成后，淋釉部件内部的清洗水可以从拧下螺丝后的所述喷釉管2活动密封端排出，从而使淋釉部件内部的清洗水排净，确保所述喷釉管2和所述导釉管1的内部清洗干净，有效防止更换釉种后上釉产品的釉色不纯、釉层厚薄不均、坯件吸水过多。该淋釉部件的清洗过程简单，便于操作，避免了因淋釉部件清洗不干净造成陶瓷坯件的不合格，确保了上釉产品的外观质量，并大大提高了陶瓷坯件的淋釉效率和坯件的上釉质量。
所述喷釉管2的内部腔体为圆柱形。
所述喷釉管2的管壁上开有孔，所述孔的孔径与所述导釉管1的内径相等，所述导釉管1与所述喷釉管2经所述孔连通。导釉管1与喷釉管2在孔处的连接必须保证不会发生釉的泄露。本实施例中，所述喷釉管2与所述导釉管1的连通，是通过焊接两者的管壁实现，从而使导釉管1和喷釉管2的管壁形成一体。
所述喷孔4在所述喷釉管2上呈直线排列。
所述喷釉管2上至少有一排所述喷孔4。喷釉管上的喷孔可以设置一排，也可以设置多排，具体根据实际需要来设置。
本实用新型提供的淋釉部件的导釉管1大小、喷釉管2大小、螺丝3大小、导釉管1与喷釉管2的焊接位置、喷釉管2上喷孔4孔的大小和间距均可根据具体坯件的需要而确定，但必须确保喷釉管2活动密封端不漏釉，喷釉管2上喷孔4的大小、数量以及喷孔4间的距离选择，必须保证坯件在上釉时不会缺釉，坯件的釉层厚度均匀，并且釉层厚度在控制范围内。
一种淋釉机，所述淋釉机采用了该淋釉部件。该淋釉机的淋釉部件容易清洗，结构简单，易于操作，能够实现对淋釉部件进行无死角清洗，确保淋釉部件清洗干净，因此，确保了上釉产品的外观质量，并大大提高了陶瓷坯件的淋釉效率。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。