本发明涉及化学制剂技术领域,特别涉及一种能生产出适合精密电子行业需要的无水乙醇的提纯工艺。
背景技术:
硫酸铜是制备其他铜化合物的重要原料:同石灰乳混合可得波尔多液,用作杀菌剂;硫酸铜也是电解精炼铜时的电解质。
在精密电子行业中,对硫酸铜的要求会更为苛刻。硫酸铜中通常会含有其他金属盐的杂质,如果在制造过程中金属离子被还原而残留电子产品上,那就有可能严重影响产品的导电性能,成为产品质量提高的瓶颈。
因此需要一种新的提纯方法得到适合精密电子行业需要的高纯度硫酸铜。
技术实现要素:
本发明的主要目的在于提供一种能生产出适合精密电子行业需要的无水乙醇的提纯工艺。
本发明通过如下技术方案实现上述目的:
一种高纯度硫酸铜提取工艺,步骤为:
①溶解:将1质量份粗硫酸铜用15质量份的去离子水溶解,用硫酸将溶液pH调整到1~2,取溶液;
②氧化:在步骤①所得溶液中加入双氧水氧化,保温40~50℃,搅拌30分钟取溶液;
③调pH:在步骤②所得溶液中加入氢氧化铜,调节pH到3~4,取溶液;
④吸附:在步骤③所得溶液中加入聚合硫酸铝和硅藻土,搅拌30分钟后,精滤,取滤液;
⑤干燥:将步骤④所得滤液的溶剂进行蒸发,产生结晶,将结晶过滤后60℃减压烘干得到高纯度硫酸铜晶体。
具体的,所述步骤②中采用33%的双氧水,用量为0.1质量份。
具体的,所述步骤④中聚合硫酸铝的用量为0.01质量份。
具体的,所述步骤④中硅藻土的用量为0.1质量份。
采用上述技术方案,本发明技术方案的有益效果是:
本工艺可获取超低金属杂质含量的无水乙醇,符合精密电子行业的使用需求,相对于精馏工艺大大缩减了提取能耗成本,具有更好的市场竞争力。
具体实施方式
一种高纯度硫酸铜提取工艺,步骤为:
①溶解:将1质量份粗硫酸铜用15质量份的去离子水溶解,用硫酸将溶液pH调整到1~2,取溶液;
②氧化:在步骤①所得溶液中加入双氧水氧化,保温40~50℃,搅拌30分钟取溶液;
③调pH:在步骤②所得溶液中加入氢氧化铜,调节pH到3~4,取溶液;
④吸附:在步骤③所得溶液中加入聚合硫酸铝和硅藻土,搅拌30分钟后,精滤,取滤液;
⑤干燥:将步骤④所得滤液的溶剂进行蒸发,产生结晶,将结晶过滤后60℃减压烘干得到高纯度硫酸铜晶体。
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例:
①将20kg粗硫酸铜(含硫酸铜96wt%)用300kg的去离子水溶解,一边搅拌一边滴加硫酸,使溶液pH达到1到2之间,取溶液;
②在以上溶液中加入2kg33%的双氧水氧化,保温40~50℃,搅拌30分钟取溶液;
③在以上溶液中缓慢加入氢氧化铜,将pH调节到3到4之间,取溶液;
④在以上溶液中加入0.2kg聚合硫酸铝和2kg硅藻土,搅拌30分钟后,精滤,取滤液;
⑤干燥:将上述滤液的溶剂进行蒸发,产生结晶,将结晶过滤后60℃减压烘干得到硫酸铜晶体。
将实施例所得晶体进行硫酸铜和水不溶物含量检测。
对照例:
将20kg粗硫酸铜(含硫酸铜96wt%)溶于水中,加硫酸,加碳酸铜调pH,聚合氯化铁絮凝,活性炭脱色过滤,结晶干燥得到硫酸铜晶体。
将对照例所得晶体进行硫酸铜和水不溶物含量检测。
实施例所得硫酸铜与对照例所得硫酸铜对比情况见表1。
表1:
由表1可知,本工艺能够获得纯度达99.9%以上的高纯度硫酸铜,残留水不溶物极少,相比于对照例具有显著的优势,在精密电子行业使用具有更好的市场竞争力。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。