技术特征：
技术总结
本发明提供了一种高透光率低辐射镀膜玻璃的制作方法，涉及镀膜玻璃技术领域，主要包括以下步骤：(1)将玻璃基板进行表面处理：清洗并烘干；(2)镀制高透光率低辐射玻璃膜层：采用磁控溅射沉积工艺，在玻璃基板上依次溅射内层介质层、功能层、外层介质层和保护层；(3)切割：切去边缘膜层并进行磨边；(4)钢化：将高透光率低辐射镀膜玻璃的镀膜面朝向导热传动辊，在680～750℃的温度下保持20～25min，得成品。本发明提供的制作方法制备的低辐射镀膜玻璃既具有较好的低辐射性能，又具有较高的可见光透过率，同时具有良好的使用性能。
技术研发人员：万永宁;李明飞
受保护的技术使用者：东莞市银通玻璃有限公司
技术研发日：2017.04.07
技术公布日：2017.07.21