本发明涉及触摸屏玻璃盖板技术领域，更具体的是涉及一种玻璃盖板及其制备方法。
背景技术：
触摸屏作为一种先进的电子输入设备，具有简单便捷、反应速度快、节省空间和易于人机交流等诸多优点。触摸屏技术起源于20世纪70年代，早期多用于工控计算机和pos机终端等工业或商用设备中。随着信息及电子设备产品市场的迅速壮大，以及人们对电子产品智能化、便捷化、人性化要求的不断提高，触摸屏作为一种直觉式输入接口，得到了广泛的应用。目前，触摸屏的需求动力主要来自于消费电子产品，如手机、pda、便捷游戏机、便携导航设备等，但随着触摸屏技术的不断发展，它在其它电子产品中的应用也会得到不断延伸。
玻璃盖板是贴附在触摸屏表面具有保护功能的一类玻璃产品。玻璃盖板的使用使触摸屏具有高清视觉效果、耐划伤、耐压、耐摔等优良新能，被广泛运用在手机屏、平板电脑、数码相框等触摸屏产品上。但是目前在玻璃盖板的生产工艺中，工艺复杂，制备出来的玻璃盖板电学性能和光学性能不佳，影响视觉效果。
技术实现要素：
本发明的第一目的在于：为了解决在玻璃盖板的生产工艺中，工艺复杂，制备出来的玻璃盖板电学性能和光学性能不佳，影响视觉效果的问题，本发明提供一种玻璃盖板的制备方法。
本发明的第二目的在于：为了解决玻璃盖板电学性能和光学性能不佳的问题，本发明提供一种玻璃盖板。
本发明为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：
将厚度为0.3～1.5mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为10～12的酸性池ph为5～6的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；
将清洗后的玻璃基材在400～450℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；
将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理；
接着在真空度为0.5～3pa下进行真空镀膜，形成tio2薄膜层；
在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成sio2薄膜层；
在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为80～95:0.3～0.8。
一种玻璃盖板，由上述玻璃盖板的制备方法制成。
本发明提供的一种玻璃盖板及其制备方法的有益效果为：玻璃盖板的制备方法，操作简单，各项参数可控，利于工业化大规模生产。同时在玻璃基材第一表面上镀上tio2薄膜层以及sio2薄膜层，在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯，使制备出来的玻璃盖板具有较佳的电学性能和优异的光学性能，适用于多种触摸屏。
具体实施方式
下面对本发明实施例的提供的一种玻璃盖板及其制备方法进行具体说明。
本实施例提供了一种玻璃盖板的制备方法，其包括：将厚度为0.3～1.5mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为10～12的酸性池ph为5～6的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽。玻璃基材通过保护油墨处理后使玻璃基材在后续加工中更加稳定。
在本实施例中，优选地，玻璃基材中al2o3的含量为15～17％，这种玻璃基材具有较高的化学稳定性和机械强度。需要说明的是，在其他实施例中，玻璃基材的类型不限。
将清洗后的玻璃基材在400～450℃下进行化学钢化处理，经过化学钢化处理后的玻璃基材能够提高其力学强度。由于玻璃基材经过了化学钢化处理，因此再进行第二次超声波清洗。
优选地，第二次超声波清洗包括在异丙醇溶液中超声波清洗5～10分钟后，在去离子水中浸泡12～24h。这样的能够保证化学钢化处理后的玻璃基材不残留其他杂质。
接着，将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理，利用等离子预处理，能够提高玻璃基材的可塑造性。
优选地，选用阴离子源对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理。利用阴离子源处理能够明显提高玻璃基材的镀膜率。
进一步地，用阴离子对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理的时间为60～100s。在该时间范围内，不仅能够保证玻璃基材得到充分的清洗，同时还能节约成本。
其次，在真空度为0.5～3pa下进行真空镀膜，形成的tio2薄膜层；tio2薄膜层具有良好的化学稳定性，电学性能和优异的光学性能。优选地，形成tio2薄膜层的镀膜温度为-100～-80℃。也即，在-100～-80℃下进行镀膜。在上述温度范围内，镀膜的时间短，且效率高。
在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成sio2薄膜层。sio2薄膜层具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨等特性。优选地，形成sio2薄膜层的镀膜温度为-120～-110℃。在上述温度范围内，镀膜的时间短，且效率高。
在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为80～95:0.3～0.8。添加了聚丙烯层能够保护玻璃盖板不受高强度光线的影响，提高玻璃盖板的使用寿命。其次，聚丙烯中添加二氧化钛能够明显提高聚丙烯的强度及稳定性。
需要说明的是，在本实施例中，玻璃基材的第一表面和第二表面为玻璃基材相对的两个表面。
本实施例提供的玻璃盖板的制备方法，操作简单，各项参数可控，利于工业化大规模生产。同时在玻璃基材上镀上tio2薄膜层以及sio2薄膜层，使制备出来的玻璃盖板具有较佳的电学性能和优异的光学性能，适用于多种触摸屏。
在本实施例较佳的实施方式中，tio2薄膜层的厚度为20～40nm。sio2薄膜层的厚度为60～80nm。
本实施例还提供了一种玻璃盖板，通过上述方法制成。该玻璃盖板具有较佳的电学性能和优异的光学性能，适用于多种触摸屏。
下面结合具体实施例进行进一步说明。
实施例1
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：
将厚度为0.3mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为10的酸性池ph为5的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；将清洗后的玻璃基材在400℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理；接着在真空度为0.5pa下进行真空镀膜，形成tio2薄膜层；在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成sio2薄膜层；在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为80:0.3。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
实施例2
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：将厚度为1.5mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为12的酸性池ph为6的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；将清洗后的玻璃基材在450℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理；接着在真空度为3pa下进行真空镀膜，形成tio2薄膜层；在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成sio2薄膜层；在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为95:～0.8。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
实施例3
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：将厚度为1mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为12的酸性池ph为5的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；将清洗后的玻璃基材在420℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；用阴离子源对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理60s；接着在真空度为0.5～3pa下进行真空镀膜，形成40nm的tio2薄膜层；在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成80nm的sio2薄膜层，在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为80:0.8。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
实施例4
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：将厚度为0.3mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为10的酸性池ph为5的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；将清洗后的玻璃基材在400℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；用阴离子源对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理100s；接着在真空度为0.5～3pa下进行真空镀膜，形成20nm的tio2薄膜层；在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成60nm的sio2薄膜层；在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为90:0.5。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
实施例5
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：
s1：将厚度为1mm的玻璃基材涂覆保护油墨并干燥处理后，依次进入ph为11的酸性池ph为5.5的酸性池清洗后、再进行第一次超声波清洗，之后脱水、烘干、磨边、制槽；
s2：将清洗后的玻璃基材在420℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗，在异丙醇溶液中超声波清洗8分钟后，在去离子水中浸泡20h；
s3：用阴离子源对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理80s。
s4：接着在真空度为2pa下进行真空镀膜，形成的30nm的tio2薄膜层；
s5：在tio2薄膜层的表面真空镀膜形成70nm的sio2薄膜层；
s6：在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为95:0.7。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
对比例1
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：
将厚度为0.3mm的玻璃基材磨边、制槽后进行第一次超声波清洗；将清洗后的玻璃基材在400℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理；接着在真空度为0.5pa下进行真空镀膜，形成tio2薄膜层。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
对比例2
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：
将厚度为0.3mm的玻璃基材磨边、制槽后进行第一次超声波清洗；将清洗后的玻璃基材在400℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；将玻璃基材的第一表面在真空中进行等离子清洗预处理；接着在真空度为0.5pa下进行真空镀膜，形成sio2薄膜层，在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为95:0.7。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
对比例3
一种玻璃盖板的制备方法，其包括：将厚度为0.3mm的玻璃基材磨边、制槽后进行第一次超声波清洗；将清洗后的玻璃基材在400℃下进行化学钢化处理，之后进行第二次超声波清洗；用阴离子源对玻璃基材的第一表面进行等离子清洗预处理100s；接着在真空度为0.5～3pa下进行真空镀膜，形成sio2薄膜层；在sio2薄膜层的表面真空镀膜形成60nm的tio2薄膜层，在玻璃基材的第二表面涂覆聚丙烯液体层，冷却，聚丙烯液体内含有二氧化钛，聚丙烯与二氧化钛的重量比为95:0.7。
一种玻璃盖板，通过上述方法制成。
经过观察，与市售普通玻璃盖板和对比例1～3相比，实施例1～5提供的玻璃盖板的透过率较高，抗弯曲性强。说明同时镀上tio2薄膜层、sio2薄膜层以及严格控制的其镀膜顺序能够保证玻璃盖板的电学和光学性能。
其中与实施例1和2相比，实施例3～5的透过率较高，抗弯曲性较强。说明经过利用阴离子源处理能够明显提高玻璃基材的镀膜率。其次，实施例5的玻璃盖板的透过率最高，抗弯曲性最强。说明实施例5提供的玻璃盖板的制备方法最佳。
综上，本发明提供的一种玻璃盖板的制备方法，操作简单，各项参数可控，利于工业化大规模生产。制备出来的玻璃盖板具有较佳的电学性能和优异的光学性能。
以上所述仅为本发明的优选实施方式而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。