一种陶瓷釉料和陶瓷的制作方法

文档序号:20874012发布日期:2020-05-26 16:13阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种陶瓷釉料,其特征在于,该陶瓷釉料的制作方法包括以下步骤:

s1:首先将骨粉与铝粉混合,同时加入镁粉,混合研磨,得混合粉末,再将混合粉末与石蜡混合,加热搅拌混合后,冷冻粉碎,过筛,得到添加剂;

s2:将玻璃纤维与盐酸混合浸泡,过滤,干燥,得预处理玻璃纤维,将预处理玻璃纤维与水混合,并加入纳米二氧化钛,超声振荡后,过滤,干燥,得改性玻璃纤维;

s3:将膨化珍珠岩粉碎过筛,得细化膨化珍珠岩,将细化膨胀珍珠岩于温度为150℃的条件下预热,得到预处理膨胀珍珠岩,将预处理膨胀珍珠岩与硝酸银溶液按质量比1:10混合,并加入氯化钙,搅拌混合后,过滤,干燥,得改性膨胀珍珠岩;

s4:将长石,高岭土,石英,白云石混合球磨,得混合坯料,向混合坯料中依次加入添加剂,改性玻璃纤维,改性膨胀珍珠岩,滑石粉和分散剂,搅拌混合后,即得陶瓷釉料,然后将陶瓷釉料注于陶瓷制作机内,以进行陶瓷生产;

其中s4中使用的陶瓷制作机,包括底板(1)、上模(2)和吸板(3);所述底板(1)为长方体结构设计;所述底板(1)的上表面固连有下模(11);所述底板(1)的上表面于下模(11)的左侧位置固连有第一固定块(12);所述第一固定块(12)的内部开设有左右贯通的传动孔;所述传动孔的内部设有培料(13),且培料(13)可在传动孔的内部从左向右传动;所述第一固定块(12)的右侧侧面于传动孔的上方位置上下滑动连接有切刀(14);所述下模(11)的上表面靠近第一固定块(12)的右侧位置开设有下模腔;所述底板(1)的上表面靠近底板(1)的前后两个侧面位置固连有四个对称设置的支柱;所述支柱的上表面共同固连有同一个顶板(21);所述顶板(21)的下表面于下模腔位置开设有滑槽;所述滑槽的内部左右滑动连接有第一滑块;所述第一滑块的下表面固连有第一电机(22);所述第一电机(22)的输出轴固连有第一伸缩杆(23);所述第一伸缩杆(23)的下表面固连有上模(2);所述下模(11)的后端面于下模腔位置固连有支撑块(15);所述支撑块(15)的表面固连有气缸(16),且气缸(16)的输出轴朝向下模腔方向;所述气缸(16)的输出轴端面位置固连有利刀(17),且利刀(17)的刀刃位于上模(2)和下模(11)的上表面的间隙位置;所述下模(11)的上表面于利刀(17)位置固连有导块,且利刀(17)均前后滑动连接于导块内;所述滑槽的内部于第一滑块的右侧位置固连有第二滑块;所述第二滑块的下表面固连有第二电机(31);所述第二电机(31)的输出轴固连有第二伸缩杆(32);所述第二伸缩杆(32)的下表面固连有吸板(3);所述第二滑块的右侧侧面固连有支块;所述支块的下表面固连有第三伸缩杆(33);所述第三伸缩杆(33)的右侧靠近第三伸缩杆(33)的下端面位置设有雾化喷头(34);所述底板(1)的后端面于雾化喷头(34)位置固连有吸气管;所述下模(11)靠近底板(1)的右侧端面位置固连有运输带(18)。

2.根据权利要求1所述一种陶瓷釉料,其特征在于:所述第三伸缩杆(33)的下表面固连有第二固定块;所述第二固定块的左侧侧面铰接有第四伸缩杆(35),且第四伸缩杆(35)的左侧侧面与雾化喷头(34)相固连。

3.根据权利要求2所述一种陶瓷釉料,其特征在于:所述下模(11)的上表面于下模腔的右侧位置开设有阶梯孔;所述阶梯孔的内部设有放置板(19),且放置板(19)为圆盘状结构设计;所述放置板(19)的下表面于阶梯孔的轴线位置固连有转动柱,且转动柱通过轴承转动连接于阶梯孔内。

4.根据权利要求1所述一种陶瓷釉料,其特征在于:所述吸板(3)的外弧面开设有均匀布置的风口(36),且风口(36)为倾斜向下结构设计。

5.根据权利要求1所述一种陶瓷釉料,其特征在于:所述第二伸缩杆(32)的外弧面靠近吸板(3)位置固连有储釉块(37);所述储釉块(37)的上表面开设有储釉腔。

6.一种陶瓷,其特征在于:包括上述权利要求1-5任一项所述的陶瓷釉料。


技术总结
本发明属于陶瓷制作技术领域,具体的说是一种陶瓷釉料和陶瓷,包括底板、上模和吸板;所述底板的上表面固连有下模;所述底板的上方位置设有顶板;所述顶板的下表面左右滑动连接有第一滑块;所述第一滑块的下表面固连有第一电机;所述第一电机的输出轴固连有第一伸缩杆;所述第一伸缩杆的下表面固连有上模;所述滑槽的内部于第一滑块的右侧位置固连有第二滑块;所述第二滑块的下表面固连有第二电机;所述第二电机的输出轴固连有第二伸缩杆;所述第二伸缩杆的下表面固连有吸板,通过一种陶瓷釉料,该陶瓷釉料加工过程中使用的陶瓷制作机,实现了陶瓷成形和涂釉的一体化生产,结构简单,生产效率和自动化程度较高,且可以有效的降低设备投入成本。

技术研发人员:杨宁东;林继承
受保护的技术使用者:杨宁东
技术研发日:2020.01.08
技术公布日:2020.05.26
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